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    PROCÉDÉ DE DIMENSIONNEMENT D'UN MASQUE DE LITHOGRAPHIE À ÉCHELLE DE GRIS
    1.
    发明公开
    PROCÉDÉ DE DIMENSIONNEMENT D'UN MASQUE DE LITHOGRAPHIE À ÉCHELLE DE GRIS 审中-实审

    公开(公告)号：EP4428614A1

    公开(公告)日：2024-09-11

    申请号：EP24161171.4

    申请日：2024-03-04

    申请人： Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives

    发明人： PALANCHOKE, Ujwol

    IPC分类号： G03F1/70 ,  G03F7/00 ,  H01L27/146

    CPC分类号： G03F7/0005 ,  G03F7/70283 ,  G03F1/70 ,  H01L27/14683

    摘要： L'invention concerne un procédé de dimensionnement d'un masque (1) de lithographie en échelle de gris, le masque comprenant des premières zones opaques (120), étant opaques à rayonnement d'insolation, situées dans des premiers pixels (110) formant un premier réseau (100) du masque (1). Une première densité cible D100* d'une première densité surfacique D100 de premières zones opaques est tout d'abord établie. Cette première densité cible D100* permet d'insoler une résine (20) sur une première épaisseur cible e1* donnée lorsqu'elle est exposée au rayonnement au travers du premier réseau. Les dimensions Px,1, Py,1 des premiers pixels et les dimensions Lx,1, Ly,1 des premières zones opaques sont ensuite établies de façon à ce que la valeur d'une erreur sur la première épaisseur cible e1*, notée MEEF(e1*), soit inférieure à un premier seuil donné. On utilise les dimensions obtenues pour le dimensionnement du premier réseau du masque.

    STEMPEL MIT EINER STEMPELSTRUKTUR SOWIE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG
    4.
    发明公开
    STEMPEL MIT EINER STEMPELSTRUKTUR SOWIE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG 有权
    与用于印模结构装置及方法邮票是

    公开(公告)号：EP3011391A1

    公开(公告)日：2016-04-27

    申请号：EP13736507.8

    申请日：2013-06-20

    申请人： Ev Group E. Thallner GmbH

    发明人： TREIBLMAYR, Dominik

    IPC分类号： G03F7/00

    CPC分类号： C23C16/45525 ,  B29C2043/025 ,  C23C14/06 ,  C23C14/22 ,  C23C16/06 ,  C23C16/22 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/20 ,  G03F2007/2067

    摘要： The invention relates to a method for producing a patterned mould with mould patterning for applying micropatterning and/or nanopatterning to substrates or soft moulds, wherein the mould patterning is at least partially coated with a coating. The invention also relates to a corresponding patterned mould and an apparatus for producing a patterned mould with mould patterning for applying micropatterning and/or nanopatterning to substrates or soft moulds, said apparatus having coating means for coating the mould patterning.

    摘要翻译： 一种用于生产结构，其确实的方法具有对于衬底或软此，由此所述模具结构至少有涂层涂覆部分上涂覆微结构和/或纳米结构的结构。 此外，本发明涉及到一个相应的结构，其除了用于生产结构，其确实的装置具有用于基板或软的，由此所述装置具有涂层上涂覆微结构和/或纳米结构的结构的手段用于涂覆模具 结构。

    PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
    6.
    发明公开
    PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION 审中-公开
    LICHTEMPFINDLICHE HARZZUSAMMENSETZUNG

    公开(公告)号：EP2833203A1

    公开(公告)日：2015-02-04

    申请号：EP13768760.4

    申请日：2013-03-15

    申请人： Nissan Chemical Industries, Ltd.

    发明人： ADACHI, Isao ,  SAKAGUCHI, Takahiro ,  SODA, Hiroyuki

    IPC分类号： G03F7/023 ,  C08F220/10 ,  C08F222/40 ,  G02B3/00 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/038 ,  C08F220/32 ,  C08F220/36 ,  C08F222/40 ,  G02B1/04 ,  G02B1/041 ,  G02B3/0012 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0233

    摘要： There is provided a photosensitive resin composition. A photosensitive resin composition comprising a component (A), a component (B); and a solvent, wherein the component (A) is a copolymer having a structural unit of Formula (1) and a structural unit of Formula (2):

    (where R 0 is a hydroxy group or a carboxy group; R 1 is a hydrogen atom or a methyl group; R 2 is a single bond or a C 1-5 alkylene group; R 3 is a thermally cross-linkable monovalent organic group; and in a plurality of structural units of Formula (2), R 1 are optionally different from each other), and the component (B) is a photosensitizer.

    摘要翻译： 提供感光性树脂组合物。 一种包含组分（A），组分（B）; 和溶剂，其中组分（A）是具有式（1）的结构单元和式（2）的结构单元的共聚物：其中R 0是羟基或羧基; R 1是氢 原子或甲基; R 2是单键或C 1-5亚烷基; R 3是可热交联的一价有机基团;并且在式（2）的多个结构单元中，R 1是任选的 彼此不同），组分（B）是光敏剂。

    PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
    7.
    发明公开
    PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION 有权
    感光性树脂组合物

    公开(公告)号：EP2711774A1

    公开(公告)日：2014-03-26

    申请号：EP12789179.4

    申请日：2012-05-09

    申请人： Nissan Chemical Industries, Ltd.

    发明人： YUKAWA, Shojiro

    IPC分类号： G03F7/023 ,  C08F12/22 ,  G03F7/004

    CPC分类号： C08F26/06 ,  C08F12/08 ,  C08F12/22 ,  C08F212/14 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0233 ,  C08F222/40 ,  C08F212/08

    摘要： There is provided provide a photosensitive resin composition which can markedly improve transparency, heat resistance, heat discoloration resistance, solvent resistance, and patterning properties. A photosensitive resin composition comprising: a polymer (A) in which a content of a unit structure containing a boronic acid group, a unit structure containing a boronic acid ester group, or a combination of these unit structures is 20 mol% to 100 mol% of a total molar number of unit structures constituting the polymer; and a photosensitizer (B). The polymer (A) preferably has a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000. A cured film obtained from the photosensitive resin composition. A microlens prepared from the photosensitive resin composition.

    Methods for fabricating a retroreflector tooling and retroreflective microstructures and devices thereof
    8.
    发明公开
    Methods for fabricating a retroreflector tooling and retroreflective microstructures and devices thereof 审中-公开
    一种用于制造后向反射器工具和逆反射的微结构和它们的Vorrichten过程

    公开(公告)号：EP2641730A2

    公开(公告)日：2013-09-25

    申请号：EP13151527.2

    申请日：2013-01-16

    申请人： ORAFOL Americas Inc.

    发明人： Scott, Steven

    IPC分类号： B29D11/00

    CPC分类号： G03F7/2059 ,  B29D11/00605 ,  G02B5/124 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/24 ,  G03F7/30

    摘要： Methods for producing retroreflector tooling and retroreflective sheeting using laser writing techniques, and corresponding products thereof, are presented. In one embodiment, a seamless retroreflective sheet having a plurality of retroreflectors formed in a continuous retroreflective microstructured pattern is provided. In the methods described herein, a substrate having a photosensitive coating on a surface thereof is provided. A surface-relief microstructured pattern is produced in the photosensitive coating by selectively exposing the photosensitive coating to a beam of electromagnetic radiation. The exposed portions of the photosensitive coating are developed to form a retroreflective microstructured pattern on the surface of the substrate. The retroreflective microstructured pattern is then transferred into retroreflector tooling comprising the retroreflective microstructured pattern on a surface thereof. A retroreflective sheet containing the retroreflective microstructured pattern on a surface thereof is then formed from the retroreflector tooling.

    摘要翻译： 用于生产反射器模具，并使用激光写作技巧回射片，和与之对应的产品的方法，现介绍。 在一个，实施例提供了一种具有在连续回射微结构化图案而形成的后向反射器的多个无缝反光片。 中所述的方法，其提供了一种具有在表面上的感光涂层的基材。 一种表面浮雕微结构化图案在光敏涂层由光敏涂层选择性地曝光于电磁辐射束产生的。 光敏涂层的曝光部分被显影，以形成基片的表面上的结构图案的回射微。 然后回射微结构图案转移到后向反射器工具包括表面结构化图案其回射微。 含有表面上结构图案回射微一种回射片材上，然后从反向反射器模具形成。