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公开(公告)号：EP0035113B1
公开(公告)日：1985-12-11
申请号：EP81100559.4
申请日：1981-01-27
CPC分类号： G03F9/7069 , G03F9/7003
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公开(公告)号：EP0017759A2
公开(公告)日：1980-10-29
申请号：EP80101307.9
申请日：1980-03-13
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F9/70
摘要： Photometric printing apparatus comprising:
a holder for holding a first object;
a holder for holding a second object;
a light source unit disposed for selectively illuminating different portions of the first object;
a projection lens, disposed between the holder and the stage, for projecting an image of an illuminated portion of the first object onto the second object; and
control means for moving the stage to print the image of the illuminated portion of the first object at different regions of the second object.摘要翻译： 光度测定打印设备，包括：保持器，用于保持第一物体; 用于保持第二物体的支架; 光源单元，设置用于选择性地照射第一物体的不同部分; 投影透镜，设置在保持器和台之间，用于将第一物体的被照射部分的图像投射到第二物体上; 以及用于移动所述台以在所述第二物体的不同区域打印所述第一物体的照明部分的图像的控制装置。
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公开(公告)号：EP0065411B1
公开(公告)日：1986-11-12
申请号：EP82302407.0
申请日：1982-05-11
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F1/84 , G03F7/70866
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公开(公告)号：EP0111661A2
公开(公告)日：1984-06-27
申请号：EP83110142.3
申请日：1980-03-13
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F9/70
摘要： A photometric printing apparatus including a holder (16) for holding a first object (12) in a first plane; a stage (20) for holding a second object (14) in a second plane (77); a light source unit (24), optically disposed on one side of the holder (16), for illuminating the first object (12); a projection lens (18), optically disposed on the other side of the holder (16) and between the holder (16) and the stage (20), for projecting an image of illuminated portions of the first object (12) onto the second object (14); and control means (25,27), coupled to the stage (20), for moving the stage (20) to facilitate printing of an image of an illuminated portion (160) of the first object (12) at different regions (162) of the second object (14) comprises additionally adjustable mounting means by an indicium disposed on the stage (20) for being positioned in the second plane (77) to facilitate alignment of the image of the first object (12) with respect to one of the axes (X,Y) of motion of the stage (20).
摘要翻译： 一种光度测量印刷装置，包括一个用于将第一物体（12）保持在第一平面中的保持器（16） （20），用于将第二物体（14）保持在第二平面（77）中; 光学单元（24），光学地设置在保持器（16）的一侧上，用于照亮第一物体（12）;光源单元 投影透镜（18），其光学地设置在保持器（16）的另一侧上以及保持器（16）和台架（20）之间，用于将第一物体（12）的照射部分的图像投影到第二物体 对象（14）; 和控制装置（25,27），用于移动平台（20）以便于在不同的区域（162）打印第一物体（12）的照射部分（160）的图像， （14）的图像包括通过布置在所述台（20）上的标记附加地可调节的安装装置，用于定位在所述第二平面（77）中，以便于所述第一物体（12）的图像相对于所述第一物体 （20）的运动的轴线（X，Y）。
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公开(公告)号：EP0065411A1
公开(公告)日：1982-11-24
申请号：EP82302407.0
申请日：1982-05-11
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F1/84 , G03F7/70866
摘要： A device is disclosed for use on a projection type semiconductive wafer precision step-and-repeat alignment and exposure system for on-machine inspection of the reticle containing the circuitry to be printed on the wafer. Two apertured optical detectors (26, 28) are aligned with identical portions of the projected image of the reticle and scanned across the image of the reticle. Any difference in the electrical response of the two optical detectors indicates dirt or a flaw in the reticle.
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公开(公告)号：EP0111660A2
公开(公告)日：1984-06-27
申请号：EP83110141.5
申请日：1980-03-13
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F9/70
摘要： A photometric printing apparatus including a holder (16) for holding a first object (12) in a first plane; a stage (20) for holding a second object (14) in a second plane (77); a light source unit (24), optically disposed on one side of the holder (16), for illuminating the first object (12); a projection lens (18), optically disposed on the other side of the holder (16) and between the holder (16) and the stage (20) for projecting an image of illuminated portions of the first object (12) onto the second object (14); and control means (25, 27), for moving the stage (20) relatively to said holder to facilitate printing of an image of an illuminated portion (160) of the first object (12) at different regions (162) of the second object (14) comprises additionally viewing means (21,90,93) optically disposed between the projection lens (18) and the holder (16), for providing a viewing port to permit viewing of an aerial image of a portion (170) of the second object (14) illuminated by an image of another illuminated portion (172) of the first object (12).
摘要翻译： 一种测光打印设备，包括用于将第一物体（12）保持在第一平面中的保持器（16） 用于将第二物体（14）保持在第二平面（77）中的台架（20）; 光源单元（24），其光学地设置在所述保持器（16）的一侧上，用于照亮所述第一物体（12）; 光学地设置在保持器（16）的另一侧之间并且在保持器（16）和台架（20）之间的投影透镜（18），用于将第一物体（12）的照明部分的图像投影到第二物体 （14）; 和控制装置（25,27），用于相对于所述保持器移动台架（20），以便于在第二物体的不同区域（162）处打印第一物体（12）的照明部分（160）的图像 （14）包括光学地设置在所述投影透镜（18）和所述保持器（16）之间的另外的观察装置（21,90,93），用于提供观察端口，以允许观察所述投影透镜的部分（170）的空间图像 第二物体（14）由第一物体（12）的另一被照射部分（172）的图像照亮。
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公开(公告)号：EP0036026A1
公开(公告)日：1981-09-23
申请号：EP80101196.6
申请日：1980-03-10
CPC分类号： G03F9/70
摘要： Zur Steuerung eines in zwei zueinander senkrechten Koordinatenrichtungen bewegbaren Werktisches ist dieser mit einer zweidimensionalen Anordnung (45) von Koordinaten-Positioniermarken versehen. Ein vergrößertes Abbild mindestens eines Teiles dieser Markenanordnung (45) wird auf eine stationäre Abfühlstation (46) projiziert, dort abgefühlt und in ein den abgefühlten Koordinaten entsprechendes Ausgangssignal umgesetzt. Die abgefühlten Koordinaten werden mit denjenigen einer Bezugsadresse verglichen und in ein Fehlersignal umgesetzt. Der Werktisch wird sodann in Abhängigkeit von dem Fehlersignal mit höherer Genauigkeit und auf einem direkteren Wege zu der Bezugsadresse bewegt.
摘要翻译： 1.一种可寻址定位器，包括可沿着一对坐标轴（X，Y）移动的阶梯装置（24），用于保持物体，例如， 工件; 传感器装置（46），用于提供表示舞台装置的实际坐标位置的实际值输出信息; 控制装置（65至64），包括比较装置（71,72），响应于来自传感器装置的实际值输出信息和输入参考控制信息，用于将载物台装置移动到由输入参考控制信息确定的所需坐标位置 其特征在于，由坐标寻址标记（59）组成的二维位置标记阵列（45）被固定到舞台装置（24）上，用于投影位置标记阵列（45）的至少一部分的图像的光学装置 设置在传感器装置上，并且传感器装置（46）被设计用于感测图像中的坐标寻址标记（59）并用于产生相应的输出信息。
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公开(公告)号：EP0035113A1
公开(公告)日：1981-09-09
申请号：EP81100559.4
申请日：1981-01-27
CPC分类号： G03F9/7069 , G03F9/7003
摘要： A step-and-repeat alignment and exposure system (10) is provided with an adjustable holder (17) for holding a main reticle (12), a main optical unit (18, 21, 24) including a projection lens (18) for producing an image of the main reticle (12) at an image plane (77), a stage (20) movable along coordinate axes adjacent to the image plane (77), and a holder (131) rotatably mounted on the stage (20) for holding a semiconductive wafer (14) to be aligned with respect to the image of the main reticle (12). The system (10) is further provided with an adjustable holder (280) for holding an auxiliary reticle (23), a single channel auxiliary optical unit (31) including a main objective lens (33) for producing an image of the auxiliary reticle (23) at the image plane (77), and a reference mark (26) disposed on the stage (20) and aligned with respect to the coordinate axes. The stage (20) may be controlled for positioning the reference mark (26) directly beneath either the projection lens (18) or the main objective lens (33) of the single channel auxiliary optical unit (31) so that the images of both the main reticle (12) and the auxiliary reticle (23) may be aligned with respect to the reference mark (26).
摘要翻译： 步进重复校准和曝光系统（10）设置有用于保持主标线（12）的可调节保持器（17），包括投影透镜（18）的主光学单元（18,21,24），用于 在图像平面（77）上产生主分划板（12）的图像，沿着与图像平面（77）相邻的坐标轴可移动的平台（20）;以及可旋转地安装在平台（20）上的保持器（131） 用于保持相对于主标线（12）的图像对准的半导体晶片（14）。 该系统（10）还设置有用于保持辅助掩模（23）的可调节保持器（280），包括用于产生辅助掩模版图像的主物镜（33）的单通道辅助光学单元（31） （77）上的参考标记（26）和设置在平台（20）上并且相对于坐标轴对齐的参考标记（26）。 可以控制舞台（20），用于将参考标记（26）直接定位在单声道辅助光学单元（31）的投影透镜（18）或主要对象透镜（33）之下，使得两者的图像 主标线（12）和辅助掩模版（23）可以相对于参考标记（26）对齐。
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