-
公开(公告)号：EP0113424A3
公开(公告)日：1985-11-21
申请号：EP83111941
申请日：1980-03-10
CPC分类号： G05B19/232 , G05B2219/37275
摘要： Eine Positionsregelschaltung umfaßt eine erste Vorrich tung (116) zum Erzeugen einer Phasendifferenz zwischen einem Referenzsignal und einem darauf bezogenen Ein gangssignal, das durch ein Regelsignal bestimmt ist, und eine zweite, mit der ersten Vorrichtung gekoppelte Vorrich tung zum Erzeugen eines Positionsregelsignals, das propor tional zur Phasendifferenz zwischen dem Referenzsignal und dem Eingangssignal ist.
-
公开(公告)号：EP0035580B1
公开(公告)日：1985-10-02
申请号：EP80101195.8
申请日：1980-03-10
CPC分类号： G01B9/02021 , G01B9/02007 , G01B9/02027 , G01B9/02083 , G01B11/002 , G01B2290/70 , G05B19/232 , G05B2219/37275 , G05D3/20
-
公开(公告)号：EP0017044A2
公开(公告)日：1980-10-15
申请号：EP80101308.7
申请日：1980-03-13
发明人： Phillips, Edward H.
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70241 , G03F9/70
摘要： Full aperture focus detection apparatus produces an amplified differential signal having a magnitude and a polarity indicative of the extent and direction, relative to the image plane of a projection lens, that a selected portion of the upper surface of a semiconductive wafer is out of focus with respect to that image plane. Lens positioning apparatus moves the projection lens by an amount and in a direction corresponding to the magnitude and polarity of this signal to position the image plane of the projection lens at the selected portion of the upper surface of the semiconductive wafer. A chuck on which the semiconductive wafer is held may be differentially leveled at three selected off-center locations by leveling apparatus so that the chuck may be raised or lowered at any of those locations to position the selected portion of the upper surface of the semiconductive wafer in a plane parallel to the image plane of the projection lens.
摘要翻译： 全光圈焦点检测装置产生具有指示相对于投影透镜的像面的范围和方向的幅度和极性的放大的差分信号，半导体晶片的上表面的选定部分不与焦点对准 尊重该图像平面。 透镜定位装置使投影透镜移动与该信号的大小和极性相对应的量并将投影透镜的像面定位在半导体晶片的上表面的选定部分。 其上保持半导体晶片的卡盘可以通过调平装置在三个选择的偏心偏心处进行差分调平，使得卡盘可以在这些位置的任何位置被升高或降低，以将半导体晶片的上表面的选定部分定位 在与投影透镜的图像平面平行的平面中。
-
公开(公告)号：EP0017044B1
公开(公告)日：1985-07-03
申请号：EP80101308.7
申请日：1980-03-13
发明人： Phillips, Edward H.
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F7/707 , G03F7/70241 , G03F9/70
-
公开(公告)号：EP0113424A2
公开(公告)日：1984-07-18
申请号：EP83111941.7
申请日：1980-03-10
CPC分类号： G05B19/232 , G05B2219/37275
摘要： Eine Positionsregelschaltung umfaßt eine erste Vorrichtung (116) zum Erzeugen einer Phasendifferenz zwischen einem Referenzsignal und einem darauf bezogenen Eingangssignal, das durch ein Regelsignal bestimmt ist, und eine zweite, mit der ersten Vorrichtung gekoppelte Vorrichtung zum Erzeugen eines Positionsregelsignals, das proportional zur Phasendifferenz zwischen dem Referenzsignal und dem Eingangssignal ist.
摘要翻译： 位置控制电路包括用于产生参考信号和由控制信号确定的参考信号的输入信号之间的相位差的第一装置（116）和耦合到第一装置的第二装置，用于产生位置控制 信号与参考信号和输入信号之间的相位差成正比。
-
6.发明公开Step-and-repeat projection alignment and exposure system 失效Schrittweises Projektions-，Justier-和Belichtungssystem。
公开(公告)号：EP0098984A1
公开(公告)日：1984-01-25
申请号：EP83105812.8
申请日：1983-06-14
发明人： Phillips, Edward H.
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F9/70
摘要： A projection lens (26) and a source (24 or 164) of illumination and exposure light are employed for projecting an image of a reticle (12) onto a first reference mark (32) or a semiconductive wafer (14), both of which are movably supported in the image plane of the projection lens (26). Optical apparatus (46 or 234), including a source of nonexposure light (108), is provided and is operable with the projection lens (26) for imaging a second adjustable reference mark (116) onto the first reference mark (32) or the semiconductive wafer (14) to facilitate use of the projection lens (26) in aligning a semiconductive wafer (14) covered with a photoresist opaque to exposure light. Additional optical apparatus (200, 214, 216a & 216b), including an objective lens unit (214) and an imaging lens (200), may be provided for imaging light from the source (164) of illumination and exposure light at the reticle (12) and for reimaging reflected light from the semiconductive wafer (14) at the objective lens unit (214).
摘要翻译： 使用投影透镜（26）和照明和曝光光源（24或164）将标线片（12）的图像投影到第一参考标记（32）或半导体晶片（14）上， 被可移动地支撑在投影透镜（26）的图像平面中。 提供包括非曝光源（108）的光学设备（46或234），并且可与投影透镜（26）一起操作，用于将第二可调参考标记（116）成像到第一参考标记（32）上或 半导体晶片（14），以便于使投影透镜（26）对准由曝光光不透明的光致抗蚀剂覆盖的半导体晶片（14）。 可以提供包括物镜单元（214）和成像透镜（200）的附加光学设备（200,214,216a和216b），用于对来自光掩模版的照明和曝光光源（164）的光进行成像 12）并且用于在物镜单元（214）处对来自半导体晶片（14）的反射光进行成像。
-
7.发明公开
公开(公告)号：EP0032716A2
公开(公告)日：1981-07-29
申请号：EP81100206.2
申请日：1981-01-14
发明人： Phillips, Edward H.
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B19/0014 , G02B19/0047
摘要： A projection lens (18) is disposed directly above a vacuum chuck (131) for projecting an image of an illuminated portion of a semiconductive wafer (14) held thereby to an image plane (79) where that image may be viewed through a pair objective lenses (88) of a compound microscope (22). Microcircuitry contained on a reticle (12) held by a holder (17) positioned above the projection lens (18) is photometrically printed onto the semiconductive wafer (14) by passing exposure light through the reticle (12) and the projection lens (18) to the semiconductive wafer (14). At least one fiber optic source (140; 156) of illuminating light and one or more optical lenses (142, 144; 152; 158, 160) are employed for projecting an image of the fiber optic light source (140; 156) through the objective lens (88) to an entrance pupil of the projection lens (18) without passing through the reticle (12) to provide uniform illumination of the semiconductive wafer (14) and facilitate direct wafer alignment prior to photometrically printing on the semiconductive wafer (14).
摘要翻译： 投影透镜（18）直接设置在真空卡盘（131）的正上方，用于将由此保持的半导体晶片（14）的照明部分的图像投影到通过一对目标可以观看图像的图像平面（79） 复合显微镜（22）的透镜（88）。 通过使曝光光通过标线片（12）和投影透镜（18）而将位于投影透镜（18）上方的保持器（17）所保持的掩模版（12）上的微电路光学地印刷在半导体晶片（14）上， 到半导体晶片（14）。 至少一个照明光的光纤源（140; 156）和一个或多个光学透镜（142,144; 152; 158,160）被用于将光纤光源（140; 156）的图像投射通过 物镜（88）到投影透镜（18）的入射光瞳，而不通过掩模版（12）以提供半导体晶片（14）的均匀照明，并且便于在半导体晶片（14）上进行光度打印之前的直接晶片对准 ）。
-
公开(公告)号：EP0027570A2
公开(公告)日：1981-04-29
申请号：EP80105862.9
申请日：1980-09-27
发明人： Phillips, Edward H.
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F9/7011
摘要： In an optical alignment and exposure machine, particularly suited for printing microelectronic circuit patterns on semi-conductive wafers, two stages of wafer prealignment are performed, In the first stage of prealignment the periphery of the wafer engages three belt-driven rollers which turn the wafer to align a flat edge thereof with two of the rollers. A transfer arm then picks up the prealigned wafer and transfers itto a rotatable chuck on an X-Y addressable work stage. In the second stage of prealignment a pair of alignment members carried by the chuck index with the flat edge of the wafer, and another pair of alignment members carried by the chuck indexes either the center or a rounded edge of the wafer to a predetermined position. An optical alignment system permits rotation of the chuck to align alignment marks on the wafer with respect to projected images of alignment marks on the mask. The addressable work stage carrying the chuck includes apparatus for selectively moving the chuck and wafer into engagement with a stop carried by the work stage for accurately positioning the plane of an emulsion on the wafer with respect to a focal plane of the optical alignment system.
-
公开(公告)号：EP0027570B1
公开(公告)日：1986-01-02
申请号：EP80105862.9
申请日：1980-09-27
发明人： Phillips, Edward H.
IPC分类号： G03B41/00
CPC分类号： G03F9/7011
-
公开(公告)号：EP0035113B1
公开(公告)日：1985-12-11
申请号：EP81100559.4
申请日：1981-01-27
CPC分类号： G03F9/7069 , G03F9/7003
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
30 条记录 (耗时 0.016 秒)
