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    Verfahren zur Arcerkennung
    1.
    发明公开
    Verfahren zur Arcerkennung 有权

    公开(公告)号：EP1705687A1

    公开(公告)日：2006-09-27

    申请号：EP05006680.2

    申请日：2005-03-26

    申请人： HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG

    发明人： Axenbeck, Sven ,  Bannwarth, Markus ,  Steuber, Martin ,  Trusch, Alfred ,  Wolf, Lothar ,  Wiedemuth, Peter, Dr. ,  Zähringer, Gerhard

    IPC分类号： H01J37/32 ,  H01J37/34

    CPC分类号： H01J37/32623 ,  H01J2237/0206

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess, der von einem insbesondere frei schwingenden Wechselstromgenerator (5) mit einem Ausgangssignal (20, 21) des Wechselstromgenerators (5) zur Leistungszufuhr gespeist wird, wobei eine mit dem zeitlichen Verlauf des Ausgangssignals (20, 21) oder eines mit dem Ausgangssignal (20, 21) in Beziehung stehenden internen Signals des Wechselstromgenerators (5) in Beziehung stehende Größe gemessen oder ermittelt wird. Unter Berücksichtigung des zeitlichen Verlaufs wird eine Referenzgröße bestimmt, die Referenzgröße wird mit einem Schwellenwert verglichen und bei einem vorgegebenen Vergleichsergebnis wird ein Arc erkannt.

    摘要翻译： 交流发电机（5）的输出信号作为供电。 相对于内部信号测量输出信号。 将参考持续时间与阈值进行比较以检测电弧。 确定输出信号或内部信号的半波的持续时间。

    Plasmaanregungssystem
    3.
    发明公开
    Plasmaanregungssystem 有权

    公开(公告)号：EP1675155A1

    公开(公告)日：2006-06-28

    申请号：EP04030764.7

    申请日：2004-12-24

    申请人： Hüttinger Elektronik GmbH & Co. KG

    发明人： Trusch, Alfred ,  Bannwarth, Markus ,  Wolf, Lothar ,  Steuber, Martin ,  Axenbeck, Sven ,  Wiedemuth, Peter, Dr.

    IPC分类号： H01J37/32

    CPC分类号： H01J37/3299 ,  H01J37/32018

    摘要： Plasmaanregungssystem (1) zur Leistungsversorgung eines Plasmaprozesses mit zumindest einer an einen Netzanschluss (3) anschließbaren DC-Stromversorgung (2, 2', 2", 2"') und zumindest einer damit verbundenen Mittelfrequenz (MF) - Einheit (4, 8) zur Erzeugung einer AC-Spannung an ihrem Ausgang, wobei der Ausgang der MF-Einheit (4, 8) an Elektroden (5, 6, 9, 10) einer Beschichtungskammer (7) anschließbar ist, und mit einer Regel- und/oder Steuereinrichtung (11), die mit der zumindest einen DC-Stromversorgung (2, 2', 2", 2"') verbunden ist zur Regelung und/oder Steuerung einer Ausgangsgröße der DC-Stromversorgung (2, 2', 2", 2"') und die mit der zumindest einen MF-Einheit (4, 8) verbunden ist zur Regelung und/oder Steuerung einer Ausgangsgröße der MF-Einheit (4, 8), wobei die Regel- und/oder Steuereinrichtung (11) zumindest eine Eingangsschnittstelle (11, 11d) zur Zuführung einer eine Ausgangsgröße der zumindest einen MF-Einheit (4, 8) beschreibenden Größe und zumindest eine Steuerausgangsschnittstelle (11e, 11f) zum Anschluss eines Steuereingangs der zumindest einen MF-Einheit (4, 8) aufweist. Dadurch kann ein homogenes zweidimensionales Plasma erzeugt werden.

    摘要翻译： 系统具有连接到直流电源（2）的电源连接（3）。 该系统具有闭环控制器或控制器（11），其具有输入接口（11d），用于将定尺寸的输出量输送到中频（MF）单元（4,8）。 控制器具有用于将控制输入连接到MF单元的控制输出接口（11e，11f）。 对于大型表面等离子体涂覆单元，还包括独立权利要求。

    Verfahren und Vorrichtung zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess
    5.
    发明公开
    Verfahren und Vorrichtung zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess 有权
    Verfahren und Vorrichtung zur Arcerkennung在einem Plasmaprozess

    公开(公告)号：EP1801946A1

    公开(公告)日：2007-06-27

    申请号：EP05028145.0

    申请日：2005-12-22

    申请人： HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG

    发明人： Axenbeck, Sven ,  Bannwarth, Markus ,  Steuber, Martin ,  Wiedemuth, Peter, Dr. ,  Wolf, Lothar

    IPC分类号： H02H3/50 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34

    CPC分类号： H01J37/3444 ,  G01R19/0061 ,  G01R31/12 ,  H01J37/34 ,  H01J2237/0206

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Arcerkennungseinrichtung (1) zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess, mit zumindest einem Komparator (3-6), dem als Auswertungssignal das Ausgangssignal oder ein mit dem Ausgangssignal in Beziehung stehendes internes Signal eines Wechselstromgenerators und ein Referenzwert (R1-R4) zugeführt sind, wobei der Komparator (3-6) mit einem Logikbaustein (16) in Verbindung steht, der ein Signal für eine Arcunterdrückungseinrichtung (23) generiert. Dabei wird zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess, der von einem Wechselstromgenerator mit einem Ausgangssignal des Wechselstromgenerators zur Leistungszufuhr gespeist wird, ein Zeitpunkts (t1-t5) bestimmt, zu dem als Auswertungssignal das Ausgangssignal oder ein mit dem Ausgangssignal in Beziehung stehendes Signal einen Referenzwert (R1-R4) bei positiver Halbwelle (30) des Auswertungssignals überschreitet oder bei negativer Halbwelle des Auswertungssignals unterschreitet. Zusätzlich (oder auch alternativ) wird ein darauf folgender Zeitpunkt (t6-t10) bestimmt, zu dem das Auswertungssignal in derselben Halbwelle (30) den Referenzwert (R1-R4) bei positiver Halbwelle des Auswertungssignals unterschreitet oder bei negativer Halbwelle des Auswertungssignals überschreitet. Dann wird zumindest ein Zeitintervall (I1-I5) unter Verwendung zumindest eines der Zeitpunkte (t1-t10) bestimmt und das Verfahren für eine spätere Halbwelle (31) des Auswertungssignals wiederholt. Die entsprechenden Zeitintervalle (I1-I5) verschiedener Halbwellen werden miteinander verglichen und es wird ein Arcerkennungssignal generiert, wenn die sich entsprechenden Zeitintervalle (I1-I5) um mehr als eine vorgebbare Toleranz (T) voneinander abweichen.

    摘要翻译： 该方法包括确定在评估信号的正半周期期间输出信号用作评估信号或与超过参考值（R1-R4）的输出信号相关的信号的时间点，或者位于下面 在评估信号的负半周期期间的参考值。 确定时间序列，并且在时间点的应用下确定时间间隔并进行比较。 当相应的时间间隔偏离允许公差时，产生电弧识别信号。 还包括用于识别等离子体处理中的电弧的电弧识别装置的独立权利要求。