Patent search ap:("IBM") AND inv:"BURNS SEAN" Page 1

1.

发明公开
SILICON CONTAINING TARC/BARRIER LAYER 有权
Title translation: 含硅TARC /限制层

公开(公告)号：EP1820061A4

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：EP05825085

申请日：2005-11-03

Applicant: IBM

Inventor： HUANG WU-SONG , BURNS SEAN , VARANASI PUSHKARA RAO

IPC: G03F7/11 , G03F7/004 , G03F7/09

CPC classification number: G03F7/091 , G03F7/0046 , G03F7/0752 , G03F7/2041

2.

发明公开
SUBSTRATE PLANARIZATION WITH IMPRINT MATERIALS AND PROCESSES 审中-公开
Title translation: 带打印材料与方法底平面化

公开(公告)号：EP2376982A4

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：EP10729417

申请日：2010-01-05

Applicant: IBM

Inventor： BURNS SEAN , BRODSKY COLIN , BURNS RYAN

IPC: G03F7/00 , G03F7/027 , G03F7/09 , G03F7/16 , H01L21/02

CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/094 , G03F7/168

3.

发明公开
LOW REFRACTIVE INDEX POLYMERS AS UNDERLAYERS FOR SILICON-CONTAINING PHOTORESISTS 审中-公开
Title translation: 具有低折射率层的一种硅基光致抗蚀剂聚合物

公开(公告)号：EP1825325A4

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：EP05857596

申请日：2005-11-30

Applicant: IBM

Inventor： HUANG WU-SONG , BURNS SEAN , KHOJASTEH MAHMOUD

IPC: G03F7/09 , G03C1/76

CPC classification number: G03F7/094 , G03F7/091

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