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    RF powered plasma enhanced chemical vapour deposition reactor and methods of effecting plasma enhanced chemical vapour deposition
    2.
    发明公开
    RF powered plasma enhanced chemical vapour deposition reactor and methods of effecting plasma enhanced chemical vapour deposition 审中-公开
    反应器为射频供电等离子体活化化学气相沉积和用于执行所述的沉积方法

    公开(公告)号：EP1764822A2

    公开(公告)日：2007-03-21

    申请号：EP06023795.5

    申请日：1999-02-16

    申请人： MICRON TECHNOLOGY, INC. ,  Applied Materials, Inc.

    发明人： Sharan, Sujit ,  Sandhu, Gurtej S. ,  Smith, Paul ,  Chang, Mei

    IPC分类号： H01J37/32 ,  C23C16/505

    CPC分类号： H01J37/32174 ,  C23C16/505 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/321 ,  Y10S438/961

    摘要： A reactor comprises a chamber (31) defining a processing volume. A first electrode (32) is disposed inside the chamber and a second electrode (34) outside the chamber. A transformer has an input side and an output side, the input side being connected to and receiving power generated by, an RF power generator. The output side has at least one output terminal connected to the first electrode (32) and at least one other output terminal connected to the second electrode (34). The output side provides power to each of the first and second electrodes in accordance with a selected power ratio.

    摘要翻译： 的反应器包括限定处理空间的腔室（31）。 的第一电极（32）的腔室和所述腔室外侧的第二电极（34）的内部设置。 一种变压器，具有输入侧和输出侧，输入侧被连接到在由RF功率发生器生成和接收电力。 输出侧具有连接到所述第一电极（32）的至少一个输出端，并且连接到所述第二电极（34）的至少一个其它输出端子。 输出侧提供电源到每一个雅舞蹈的第一和第二电极与所选择的功率比。