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1.发明公开Polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns 审中-公开Polymere，Fotoresistzusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von fotolithographischen Mustern
公开(公告)号：EP2472326A1
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：EP11195241.2
申请日：2011-12-23
发明人： Bae, Young Cheol , Peterson, Thomas H. , Liu, Yi , Park, Jong Keun , Lee, Seung-Hyun , Cardolaccia, Thomas
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/28 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： Provided are polymers that include a unit comprising a particular acetal moiety and a unit comprising a lactone moiety. Also provided are photoresist compositions containing such a polymer, substrates coated with the photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns. The polymers, compositions, methods and coated substrates find particular applicability in the manufacture of semiconductor devices.
摘要翻译： 提供的是包括包含特定缩醛部分的单元和包含内酯部分的单元的聚合物。 还提供了含有这种聚合物的光致抗蚀剂组合物，涂有光致抗蚀剂组合物的基材和形成光刻图案的方法。 聚合物，组合物，方法和涂覆的基材在半导体器件的制造中具有特别的适用性。
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2.发明公开Polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns 审中-公开Polymere，lichtbeständigeZusammensetzungen und Verfahren zum Bilden von fotolithografischen Strukturen
公开(公告)号：EP2472325A1
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：EP11195238.8
申请日：2011-12-23
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/325
摘要： Provided are polymers containing a unit having a particular acetal moiety and photoresist compositions containing such a polymer. Also provided are substrates coated with the photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns. The polymers, photoresist compositions, methods and coated substrates find particular applicability in the manufacture of semiconductor devices.
摘要翻译： 提供的是含有具有特定缩醛部分的单元和含有这种聚合物的光致抗蚀剂组合物的聚合物。 还提供了涂覆有光致抗蚀剂组合物的基材和形成光刻图案的方法。 聚合物，光致抗蚀剂组合物，方法和涂覆的基底在半导体器件的制造中具有特别的适用性。
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3.发明公开Monomers, polymers, photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns 审中-公开单体，聚合物，光致抗蚀剂组合物，以及形成光刻图案的方法
公开(公告)号：EP2472324A1
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：EP11195165.3
申请日：2011-12-23
IPC分类号： G03F7/038 , C07C69/734 , C08F220/28
CPC分类号： G03F7/0397 , C07D307/93 , C07D317/24 , C08F24/00 , C08F220/28 , G03F7/0382 , G06F7/38 , Y10S430/111
摘要： Provided are (meth)acrylate monomers containing acetal moieties, polymers containing a unit formed from such a monomer and photoresist compositions containing such a polymer. The monomers, polymers and photoresist compositions are useful in forming photolithographic patterns. Also provided are substrates coated with the photoresist compositions, methods of forming photolithographic patterns and electronic devices. The compositions, methods and coated substrates find particular applicability in the manufacture of semiconductor devices.
摘要翻译： 提供的是（甲基）丙烯酸酯单体含缩醛部分，聚合物含从寻求的单体和光致抗蚀剂组合物含有寻求的聚合物形成的单元。 的单体，聚合物和光致抗蚀剂组合物在形成光刻图案是有用的。 所以提供涂有光刻胶组合物，形成图案的光刻和电子器件的方法衬底。 组合物，方法和涂覆的基材找到半导体器件的制造中特别适用。
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4.发明公开Photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns 审中-公开LichtbeständigeZusammensetzungen und Verfahren zum Bilden von fotolithografischen Strukturen
公开(公告)号：EP2492750A1
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：EP12157174.9
申请日：2012-02-27
发明人： Bae, Young Cheol , Park, Jong Keun , Lee, Seung-Hyun , Liu, Yi , Cardolaccia, Thomas , Bell, Rosemary
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/325
摘要： Provided are photoresist compositions useful in forming photolithographic patterns. Also provided are substrates coated with the photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns. The compositions, methods and coated substrates find particular applicability in the manufacture of semiconductor devices.
摘要翻译： 提供了用于形成光刻图案的光致抗蚀剂组合物。 还提供了涂覆有光致抗蚀剂组合物的基材和形成光刻图案的方法。 组合物，方法和涂覆的基材在半导体器件的制造中具有特别的适用性。
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5.发明公开
公开(公告)号：EP2492749A1
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：EP12157113.7
申请日：2012-02-27
发明人： Bae, Young Cheol , Bell, Rosemary , Cardolaccia, Thomas , Lee, Seung-Hyun , Liu, Yi , Park, Jong Keun
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要： Provided are photoresist compositions useful in forming photolithographic patterns. Also provided are substrates coated with the photoresist compositions and methods of forming photolithographic patterns. The compositions, methods and coated substrates find particular applicability in the manufacture of semiconductor devices.
摘要翻译： 提供可用于形成光刻图案的光刻胶组合物。 还提供了涂覆有光致抗蚀剂组合物的基材和形成光刻图案的方法。 该组合物，方法和涂覆的基材在制造半导体器件中具有特别的适用性。
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