摘要:
Die Schaltungsstruktur enthält mindestens einen Bipolartransistor, dessen Emitter (13ab) als Teil einer auf einem Substrat (11) aufgewachsenen, dotierten Siliziumschicht (13) ausgebildet ist. Die dotierte Siliziumschicht (13) weist eine zu ihrer Oberflächennormalen parallele Flanke auf, die von einer die Basis des Bipolartransistors bildenden, dotierten Siliziumstruktur (17a, 17b) bedeckt ist. Der Bipolartransistor weist eine selbstjustierte wirksame Emitterweite von 50 - 500 nm auf. Die Schaltungsstruktur ist für ECL- und CML-Logik einsetzbar.
摘要:
Die Erfindung bezieht sich auf einen selektiven Dünnschicht-Gassensor hoher Empfindlichkeit und Stabilität zum Nachweis und zur Messung von gasförmigen Kohlenwasserstoff-Verunreinigungen in der Luft auf der Basis von Wolframoxid-Halbleitern auf Substraten aus Quarzglas, oxidiertem Silizium oder Keramik, bei dem der elektrische Widerstand der Wolframoxidschicht in Abhängigkeit von der Art und Konzentration des zu detektierenden Gases gemessen wird, sowie auf ein Verfahren zur Herstellung desselben. Dabei besteht der Wolframoxidhalbleiter aus einer gesputterten WO 3-δ -Dünnschicht (7), wobei δ 3 - δ -Dünnschicht (7) durch ein Edelmetall (8), insbesondere aus Platin bestehend, aktiviert und als Substrat (1, 2) ein oxidierter Siliziumkörper verwendet, der an seiner, der Sensordünnschicht (7, 8) abgewandten Oberfläche eine bis zur Entartung hochdotierte Oberflächenzone (3) aufweist, die zur direkten Beheizung mit Metallkontakten (5, 6) versehen ist (Figur 1). Die WO 3-δ -Dünnschicht (7) wird hergestellt durch reaktives HF-Sputtern von einem metallischen Wolframtarget in einer aus Argon bestehenden Sputteratmosphäre mit einem Sauerstoffgehalt von 3 % (Gesamtdruck 1.2. . 10 -3 mbar).
摘要:
Die Erfindung betrifft einen Gassensor hoher Empfindlichkeit und Stabilität zum Nachweis und zur Messung des Verunreinigungsgehaltes von Luft auf der Basis Metalloxid-Halbleiter, bei dem der elektrische Widerstand der Metalloxid-Halbleiterschicht in Abhängigkeit von der Art und der Konzentration der Luftverunreinigung gemessen wird. Die Erfindung besteht darin, daß die Metalloxid-Halbleiterschicht aus zwei Schichten besteht:
a) einer grob- bis einkristallinen Grundschicht (5, 13), deren Dicke der Raumladungszone angepaßt ist und b) einer über der Grundschicht (5,13) angeordneten dünneren, amorphen Deckschicht (7, 14) aus einem, auf die zu detektierende Luftverunreinigung katalytisch wirkenden Material mit einem Leitwert, der bezüglich der Dicke dieser Deckschicht vernachlässigbar klein gegenüber dem Leitwert der Grundschicht (5, 13) ist.