公开(公告)号：EP2485247A2

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：EP10820818.2

申请日：2010-09-29

申请人： SNU R & DB Foundation

发明人： KWON, Sung Hoon ,  CHUNG, Sueun ,  LEE, Seungah ,  JANG, Jisung ,  HAN, Sangkwon

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： C23C16/52 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2057 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/00 ,  H01L21/561

摘要： A technique related with a lithography system is disclosed. The lithography system includes at least one target object disposed on a substrate, a processor configured to process an image of the target object to determine an optical pattern for a coating layer of the target object, and an exposure apparatus configured to provide light having the optical pattern determined by the processor to the substrate.

摘要翻译： 公开了一种与光刻系统相关的技术。 光刻系统包括设置在基板上的至少一个目标物体，被配置为处理目标对象的图像以确定目标对象的涂层的光学图案的处理器，以及配置为提供具有光学元件的光的曝光装置 图案由处理器确定到基板。

公开(公告)号：EP2485247B1

公开(公告)日：2018-10-31

申请号：EP10820818.2

申请日：2010-09-29

申请人： SNU R&DB Foundation

发明人： KWON, Sung Hoon ,  CHUNG, Sueun ,  LEE, Seungah ,  JANG, Jisung ,  HAN, Sangkwon

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027 ,  H01L21/56 ,  H01L21/66 ,  H01L23/00 ,  H01L33/44 ,  G03F9/00 ,  B29C35/08 ,  C23C16/52

CPC分类号： C23C16/52 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2057 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/00 ,  H01L21/561

摘要： A technique related with a lithography system is disclosed. The lithography system includes at least one target object disposed on a substrate, a processor configured to process an image of the target object to determine an optical pattern for a coating layer of the target object, and an exposure apparatus configured to provide light having the optical pattern determined by the processor to the substrate.

公开(公告)号：EP3073322A3

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：EP16152367.5

申请日：2010-09-29

申请人： SNU R&DB Foundation

发明人： KWON, Sung Hoon ,  CHUNG, Sueun ,  LEE, Seungah ,  JANG, Jisung ,  HAN, Sangkwon

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L23/00 ,  H01L33/44 ,  B29C35/08 ,  H01L21/66 ,  G03F9/00 ,  H01L21/56 ,  C23C16/52 ,  G03F7/16 ,  H01L23/31 ,  H01L23/433

CPC分类号： C23C16/52 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2057 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/00 ,  H01L21/561

摘要： A technique related with a lithography system is disclosed. The lithography system includes at least one target object disposed on a substrate, a processor configured to process an image of the target object to determine an optical pattern for a coating layer of the target object, and an exposure apparatus configured to provide light having the optical pattern determined by the processor to the substrate.

摘要翻译： 公开了一种与光刻系统相关的技术。 光刻系统包括设置在基板上的至少一个目标物体，被配置为处理目标对象的图像以确定目标对象的涂层的光学图案的处理器，以及配置为提供具有光学元件的光的曝光装置 图案由处理器确定到基板。

公开(公告)号：EP3073322A2

公开(公告)日：2016-09-28

申请号：EP16152367.5

申请日：2010-09-29

申请人： SNU R&DB Foundation

发明人： KWON, Sung Hoon ,  CHUNG, Sueun ,  LEE, Seungah ,  JANG, Jisung ,  HAN, Sangkwon

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L23/00 ,  H01L33/44 ,  B29C35/08 ,  H01L21/66 ,  G03F9/00 ,  H01L21/56 ,  C23C16/52 ,  G03F7/16

CPC分类号： C23C16/52 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2057 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70466 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/7085 ,  G03F9/00 ,  H01L21/561

摘要： A technique related with a lithography system is disclosed. The lithography system includes at least one target object disposed on a substrate, a processor configured to process an image of the target object to determine an optical pattern for a coating layer of the target object, and an exposure apparatus configured to provide light having the optical pattern determined by the processor to the substrate.