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公开(公告)号：EP1340723A3
公开(公告)日：2004-09-15
申请号：EP03004655.1
申请日：2003-03-03
发明人： Natura, Ute, Dr. , Menzel, Andreas , Alkemoer, Jochen, Dr. , Martin, Rolf , von der Gönna, Gordon, Dr. , Schmidt, Matthias , Coriand, Frank , Schmiady, Thomas , Sohr, Oliver, Dr. , Voitsch, Andreas
CPC分类号： C03B19/1423 , C03B2201/07 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03B2207/36 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorform aus synthetischem Quarzglas, geeignet zur Beaufschlagung mit DUV-Strahlung im Wellenlängenbereich unter 250 nm, mit einem Kernbereich, der im wesentlichen frei von Schichtungen ist, dessen OH-Gehalt größer als 900 ppm, dessen CI-Gehalt kleiner als 50 ppm, und dessen H 2 -Verbrauch größer als 0,5 x 10 18 Moleküle/cm 3 ist, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass die DUV-Widerstandfähigkeit durch einen relativen H 2 -Verbrauch gegeben ist, der mit zunehmender Energiedosis in eine Sättigung geht. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vorform aus Quarzglas vorgeschlagen, bei dem auf eine rotierende Fläche eine Brennerflamme gerichtet ist, und der Rohstoff SiCl 4 unter Anwesenheit von H 2 und O 2 bei Temperaturen oberhalb 2000° Celsius umgesetzt, zu SiO 2 auf der rotierenden Fläche abgeschieden und sofort glasig aufgeschmolzen wird, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Flamme durch die zentrale Mitteldüse 0,92 bis 1,12 kg/h SiCl 4 bei einer Strömungsgeschwindigkeit von 15 m/s bis 21 m/s zugeführt wird.
摘要翻译： 用于波长低于250nm的深紫外（DUV）的合成石英玻璃预制件，其核心区域不含高于900ppm的OH含量，Cl含量低于50ppm，H 2含量高于0.5×10 18分子/ cm 3 具有通过增加能量剂量达到饱和的相对H 2消耗确定其DUV电阻。 还包括通过火焰水解方法制造预成型件的独立权利要求。
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2.发明公开Anordnung zum Herstellen von Quarzglaskörpern mit Brechzahlhomogenität 审中-公开Anordnung zum Herstellen vonQuarzglaskörpernmitBrechzahlhomogenität
公开(公告)号：EP1300369A2
公开(公告)日：2003-04-09
申请号：EP02022560.3
申请日：2002-10-08
IPC分类号： C03B19/14
CPC分类号： C03B19/1423 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03B2207/36 , C03B2207/60 , C03B2207/70
摘要： Zur Verbesserung der Brechzahlhomogenität in Quarzglaskörpern ist in einer Aufschmelzvorrichtung mindestens ein Brenner gegenüber einem zu erzeugenden Quarzglaskörper bewegbar angeordnet. Der Brenner weist für die Rohstoffdosierung, die H 2 -Zuführung und die O 2 -Zuführung drei im Wesentlichen konzentrisch zueinander angeordnete Düsengruppen auf. Entsprechend den vorermittelten Verteilungsverläufen von OH und H 2 zwischen der Mitte und dem Rand des Quarzglaskörpers die H 2 und/oder O 2 -Volumenströme des Brennergases in Abhängigkeit von der Brennerposition zur Variation des Mischungsverhältnisses verändert werden.
摘要翻译： 用于提高石英玻璃体的折射率均匀性的布置包括布置在与石英玻璃体相对的熔化装置中的燃烧器。 燃烧器具有同心布置的用于给料原料的喷嘴组，引入氢气和引入氧气。 根据相对于石英玻璃体的燃烧器位置改变燃烧器气体的氧气和/或氢气流，以改变燃烧器气体中的混合比。 优选的特征：仅改变氢气流或氧气流以改变混合比。 混合比在1.6至3.5g / l之间。
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3.发明公开Verfahren zur Wasserstoffbeladung von Quarzglaskörpern zur Verbesserung der Brechzahlhomogenität und der Laserfestigkeit bei gleichzeitiger Einhaltung einer vorgegebenen Spannungsdoppelbrechung und danach hergestellte Quarzglaskörper 审中-公开一种石英玻璃体的载氢的方法来提高折射率的均匀性，并且激光强度，同时保持预定的应力双折射，并随后制造石英玻璃体
公开(公告)号：EP1288169A1
公开(公告)日：2003-03-05
申请号：EP02019291.0
申请日：2002-08-28
CPC分类号： C03C23/00 , C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/21 , C03C3/06 , C03C2201/21 , C03C2203/54
摘要： Die Erfindung betrifft die Wasserstoffbeladung von Quarzglaskörpern in einem Temperprozess in einem Ofen zur Verbesserung der Brechzahlhomogenität und Laserfestigkeit bei gleichzeitiger Einhaltung einer vorgegebenen Spannungsdoppelbrechung jedes Quarzglaskörpers. Zunächst werden die Brechzahlverteilung, die Spannungsdoppelbrechung, die Wasserstoffverteilung und die auszugleichenden Brechzahlunterschiede im jeweiligen Quarzglaskörper bestimmt und danach die zum Brechzahlausgleich notwendige Wasserstoffveränderung ermittelt. Weiterhin werden die Temper-Temperatur und ihre Haltezeit sowie die Wasserstoffkonzentration und der Wasserstoffdruck im Ofen eingestellt, um zu einer hinreichend ausgeglichenen Brechzahlverteilung zu gelangen.
摘要翻译： 在烘箱中的回火过程充电石英玻璃体与氢处理在涉及将温度和保温时间为充氢，氢浓度和在烘箱中的氢气压力。 在包括在烤箱中的回火过程充电石英玻璃体与氢处理：确定性采矿中的折射率分布，应变双折射，氢分布和折射率差在石英玻璃体进行均衡; 确定性采矿用于改变折射率均衡所需的氢; 并设置温度和保温时间为充氢，氢浓度和在烘箱中的氢气压力。 因此独立claimsoft包括由上述方法生产的圆盘状石英玻璃体。 优选的特点：该回火方法是在氢和/或空气气氛下进行。
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公开(公告)号：EP1340723A2
公开(公告)日：2003-09-03
申请号：EP03004655.1
申请日：2003-03-03
发明人： Natura, Ute, Dr. , Menzel, Andreas , Alkemoer, Jochen, Dr. , Martin, Rolf , von der Gönna, Gordon, Dr. , Schmidt, Matthias , Coriand, Frank , Schmiady, Thomas , Sohr, Oliver, Dr. , Voitsch, Andreas
CPC分类号： C03B19/1423 , C03B2201/07 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03B2207/36 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorform aus synthetischem Quarzglas, geeignet zur Beaufschlagung mit DUV-Strahlung im Wellenlängenbereich unter 250 nm, mit einem Kernbereich, der im wesentlichen frei von Schichtungen ist, dessen OH-Gehalt größer als 900 ppm, dessen CI-Gehalt kleiner als 50 ppm, und dessen H 2 -Verbrauch größer als 0,5 x 10 18 Moleküle/cm 3 ist, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass die DUV-Widerstandfähigkeit durch einen relativen H 2 -Verbrauch gegeben ist, der mit zunehmender Energiedosis in eine Sättigung geht.
Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vorform aus Quarzglas vorgeschlagen, bei dem auf eine rotierende Fläche eine Brennerflamme gerichtet ist, und der Rohstoff SiCl 4 unter Anwesenheit von H 2 und O 2 bei Temperaturen oberhalb 2000° Celsius umgesetzt, zu SiO 2 auf der rotierenden Fläche abgeschieden und sofort glasig aufgeschmolzen wird, und die dadurch gekennzeichnet ist, dass der Flamme durch die zentrale Mitteldüse 0,92 bis 1,12 kg/h SiCl 4 bei einer Strömungsgeschwindigkeit von 15 m/s bis 21 m/s zugeführt wird.摘要翻译： 用于波长低于250nm的深紫外（DUV）的合成石英玻璃预制件，其核心区域不含高于900ppm的OH含量，Cl含量低于50ppm，H 2含量高于0.5×10 18分子/ cm 3 具有通过增加能量剂量达到饱和的相对H 2消耗确定其DUV电阻。 还包括通过火焰水解方法制造预成型件的独立权利要求。
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5.发明公开
公开(公告)号：EP1300369A3
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：EP02022560.3
申请日：2002-10-08
IPC分类号： C03B19/14 , C03B37/014
CPC分类号： C03B19/1423 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/06 , C03B2207/20 , C03B2207/36 , C03B2207/60 , C03B2207/70
摘要： Zur Verbesserung der Brechzahlhomogenität in Quarzglaskörpern ist in einer Aufschmelzvorrichtung mindestens ein Brenner gegenüber einem zu erzeugenden Quarzglaskörper bewegbar angeordnet. Der Brenner weist für die Rohstoffdosierung, die H 2 -Zuführung und die O 2 -Zuführung drei im Wesentlichen konzentrisch zueinander angeordnete Düsengruppen auf. Entsprechend den vorermittelten Verteilungsverläufen von OH und H 2 zwischen der Mitte und dem Rand des Quarzglaskörpers die H 2 und/oder O 2 -Volumenströme des Brennergases in Abhängigkeit von der Brennerposition zur Variation des Mischungsverhältnisses verändert werden.
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