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发明公开
POSITIVE-WORKING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION 有权
标题翻译：正工作光阻组成物及方法抗蚀剂结构生产

公开(公告)号：EP1882981A4

公开(公告)日：2010-03-03

申请号：EP06732052

申请日：2006-04-18

申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

发明人： KINOSHITA YOHEI , OHKUBO WAKI , NAKAGAWA YUSUKE , HIDESAKA SHINICHI , IRIE MAKIKO

IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28 , G03F7/004 , H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/28 , G03F7/0045 , Y10S430/111 , Y10S430/12 , Y10S430/121 , Y10S430/122 , Y10S430/123 , Y10S430/126