公开(公告)号：EP1660561B1

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：EP04756358.0

申请日：2004-06-30

申请人： Dow Corning Corporation

发明人： HU, Sanlin ,  MOYER, Eric, Scott ,  WANG, Sheng ,  WYMAN, David, Lee

IPC分类号： C08G77/24

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08G77/04 ,  C08G77/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143

公开(公告)号：EP1710230B1

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：EP06251944.2

申请日：2006-04-06

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Ohsawa, Youichi, c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. ,  Watanabe, Takeru, c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. ,  Kinsho, Takeshi c/o Shin-Etsu Chemical Co. Ltd. ,  Kobayashi, Katsuhiro, c/o Shin-Etsu Chem Co. Ltd.

IPC分类号： C07C309/12 ,  C07D307/64 ,  C07D307/68 ,  C07D333/46 ,  C07C381/12 ,  C07C25/18 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D307/64 ,  C07D307/68 ,  C07D333/46 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

公开(公告)号：EP2472323A3

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：EP11195707.2

申请日：2011-12-23

申请人： Rohm and Haas Electronic Materials LLC ,  Dow Global Technologies LLC

发明人： Thackeray, James W. ,  Coley, Suzanne M. ,  Jain, Vipul ,  Ongayi, Owendi ,  Cameron, James F. ,  Labeaume, Paul J. ,  Madkour, Ahmad E.

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C07C309/06 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C07C381/12 ,  C07C309/42

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/12 ,  C07C309/42 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

摘要： A compound has formula (I):

         Q-O-(A)-Z - G +      (I)

wherein Q is a halogenated or non-halogenated, C 2-30 olefin-containing group, A is a fluorine-substituted C 1-30 alkylene group, a fluorine-substituted C 3-30 cycloalkylene group, a fluorine-substituted C 6-30 arylene group, or a fluorine-substituted C 7-30 alkylene-arylene group, Z is an anionic group comprising sulfonate, sulfonamide, or sulfonamide, and G + has formula (II):

wherein X is S or I, each R 0 is halogenated or non-halogenated and is independently C 1-30 alkyl group; a polycyclic or monocyclic C 3-30 cycloalkyl group; a polycyclic or monocyclic C 4-30 aryl group; or a combination of these, wherein when X is S, one of the R 0 groups is optionally attached to one adjacent R 0 group by a single bond, and a is 2 or 3, wherein when X is I, a is 2, or when X is S, a is 3. A copolymer, a photoresist, a coated substrate and method of patterning are disclosed.

公开(公告)号：EP2349993B1

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：EP09783850.2

申请日：2009-10-08

申请人： BASF SE

发明人： YAMATO, Hitoshi ,  ASAKURA, Toshikage ,  NISHIMAE, Yuichi

IPC分类号： C07C381/12 ,  G03F7/00 ,  C07C317/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C317/04 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/124 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/126

公开(公告)号：EP2477073A1

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：EP12153033.1

申请日：2003-02-12

申请人： Fujifilm Corporation

发明人： Mizutani, Kazuyoshi ,  Takahashi, Hyou

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0382 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/143 ,  Y10S430/167

摘要： A resist composition for an electron beam, EUV or X-ray comprising (A1) a compound that has a reduction potential higher than that of diphenyl iodonium salt and generates an acid upon irradiation of an actinic ray or radiation.

摘要翻译： 一种电子束抗蚀剂组合物，EUV或X射线，其包含（A1）具有比二苯基碘鎓盐还原电位高的化合物，并且在光化射线或辐射照射时产生酸。

公开(公告)号：EP2444845A1

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：EP10789454.5

申请日：2010-06-14

申请人： JSR Corporation

发明人： SERIZAWA, Ryuichi ,  MATSUMURA, Nobuji ,  SAKAKIBARA, Hirokazu

IPC分类号： G03F7/004 ,  C08F220/18 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C08F8/34 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/029 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： A radiation-sensitive resin composition includes (A) an acid-labile group-containing resin, and (C) a compound shown by the following general formula (i).

wherein R 1 represents a hydrogen atom or the like, R 2 represents a single bond or the like, R 3 represents a linear monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in which some or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom, or the like, and X + represents an onium cation.

摘要翻译： 放射线敏感性树脂组合物含有（A）含酸不稳定基团的树脂和（C）下述通式（i）所示的化合物。 其中R 1表示氢原子等，R 2表示单键等，R 3表示其中一些或全部氢原子可被氟原子取代的具有1至10个碳原子的直链一价烃基，或 类似物，并且X +代表鎓阳离子。

公开(公告)号：EP2375285A2

公开(公告)日：2011-10-12

申请号：EP11171307.9

申请日：2005-02-02

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Kodama, Kunihiko

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

摘要： A photosensitive composition comprises (A) a sulfonium or iodonium salt having an anion represented by one of formulae (I) and (II):

wherein Y represents an alkylene group substituted with at least one fluorine atom, and
R represents an alkyl group or a cycloalkyl group.
the photosensitive composition further comprising:
(D) a resin soluble in an alkali developer; and
(E) an acid crosslinking agent that crosslinks with the resin (D).

摘要翻译： 光敏组合物包含（A）具有由式（I）和（II）之一表示的阴离子的锍盐或碘鎓盐：其中Y表示被至少一个氟原子取代的亚烷基，R表示烷基或 环烷基。 所述光敏组合物还包含：（D）可溶于碱显影剂的树脂; 和（E）与树脂（D）交联的酸交联剂。

公开(公告)号：EP1780198B1

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：EP06255510.7

申请日：2006-10-26

申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

发明人： Kobayashi, Katsuhiro ,  Ohsawa, Youichi ,  Kinsho, Takeshi ,  Watanabe, Takeru

IPC分类号： C07C309/05 ,  G03F7/004

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C309/07 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

公开(公告)号：EP1882981A4

公开(公告)日：2010-03-03

申请号：EP06732052

申请日：2006-04-18

申请人： TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

发明人： KINOSHITA YOHEI ,  OHKUBO WAKI ,  NAKAGAWA YUSUKE ,  HIDESAKA SHINICHI ,  IRIE MAKIKO

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

公开(公告)号：EP1906241A1

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：EP07019180.4

申请日：2007-09-28

申请人： FUJIFILM Corporation

发明人： Kamimura, Sou ,  Wada, Kenji ,  Kawanishi, Yasutomo

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/126

摘要： A resist composition, includes: (B) a polymer having a group capable of decomposing under an action of an acid and having a weight average molecular weight of 1,000 to 5,000, of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; and (Z) a compound containing a sulfonium cation having a structure represented by formula (Z-1):

wherein Y 1 to Y 13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and adjacent members of Y 1 to Y 13 may combine with each other to form a ring; and Z represents a single bond or a divalent linking group.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含：（B）在酸的作用下具有能够在酸的作用下分解的重均分子量为1,000至5,000的基团的聚合物，其中碱显影剂中的溶解度增加; 和（Z）含有具有由式（Z-1）表示的结构的锍阳离子的化合物：其中Y 1至Y 13各自独立地表示氢原子或取代基，并且Y 1至Y 13的相邻成员可以彼此结合以形成 戒指; Z表示单键或二价连接基团。