公开(公告)号：EP2763158A1

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：EP12835771.2

申请日：2012-09-25

申请人： Toppan Printing Co., Ltd.

发明人： TANABE, Masahito ,  FUKUGAMI, Norihito ,  SAKATA, Yo ,  KOMIZO, Tooru ,  HARAGUCHI, Takashi

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F1/24

CPC分类号： G03F1/24 ,  G03F1/146 ,  G03F1/38

摘要： An objective is to provide a reflective mask blank, a reflective mask, and methods for manufacturing those, suppress reflectance at a light-shielding frame, and improve quality.
The reflective mask includes a substrate, a multilayered reflective layer formed on the substrate, an absorption layer formed on the multilayered reflective layer, and a frame-shaped light-shielding frame area at which the absorption layer has a film thickness larger than a film thickness at other areas. The multilayered reflective layer is diffused and mixed at the light-shielding frame area through melting.

摘要翻译： 一个目的是提供一种反射型掩模基板，反射式掩模，以及用于制造这些方法中，在遮光框抑制反射率，并提高质量。 用反射型掩模包括基板，形成在其中吸收层的多层反射层上形成的基板的多层反射层，以及在哪个吸收层的膜厚比薄膜厚度大的框状的遮光框区域 在其他地区。 多层反射层被扩散，并在通过熔化遮光框区域混合。