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    COUNTERFEIT PREVENTION STRUCTURE BODY AND FABRICATION METHOD THEREFOR
    7.
    发明公开
    COUNTERFEIT PREVENTION STRUCTURE BODY AND FABRICATION METHOD THEREFOR 审中-公开
    赫尔辛基大学

    公开(公告)号：EP2921888A4

    公开(公告)日：2016-10-19

    申请号：EP13855630

    申请日：2013-11-14

    申请人： TOPPAN PRINTING CO LTD

    发明人： YASHIKI KAZUHIRO

    IPC分类号： B42D25/324 ,  B42D25/30 ,  B42D25/328 ,  B42D25/36 ,  B42D25/373 ,  B42D25/40 ,  B42D25/425 ,  B42D25/445 ,  G02B5/08 ,  G02B5/18

    CPC分类号： G02B5/08 ,  B42D25/00 ,  B42D25/29 ,  B42D25/324 ,  B42D25/328 ,  B42D25/36 ,  B42D25/373 ,  B42D25/425 ,  B42D25/445 ,  B42D2033/18 ,  B42D2033/24 ,  G02B3/0037 ,  G02B5/18 ,  G02B5/1857 ,  G03H1/0011 ,  G03H1/0256 ,  G03H2250/36

    摘要： A counterfeit prevention structure (10) includes a fine-relief-formation layer (11) which is provided with a first area (13) having an optical element that includes a relief structure whose depth-to-width ratio that is a ratio of a depth relative to a width is not less than a first value, and a second area (14) having an optical element that includes a relief structure whose depth-to-width ratio is less than the first value. The first area (13) has a light transmittance higher than that of the second area (14). The counterfeit prevention structure (10) further includes fine particles (15) that are filled in recesses of the relief structure included in the first area (13), and a reflective layer (12) that is arranged on the relief structure included in the second area (14).

    摘要翻译： 防伪结构（10）包括具有第一区域（13）的微细凹凸形成层（11），所述第一区域（13）具有光学元件，所述光学元件包括浮雕结构，所述浮雕结构的深度与宽度比为 相对于宽度的深度不小于第一值，以及具有光学元件的第二区域（14），该光学元件包括深度与宽度比小于第一值的浮雕结构。 第一区域（13）的透光率高于第二区域（14）的透光率。 防伪结构（10）还包括填充在包括在第一区域（13）中的浮雕结构的凹部中的细颗粒（15）和布置在包括在第二区域（13）中的浮雕结构上的反射层（12） 区域（14）。