METHOD OF ANNEALING A SILICA-TITANIA GLASS.
    1.
    发明授权
    METHOD OF ANNEALING A SILICA-TITANIA GLASS. 有权
    退火二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的方法。

    公开(公告)号:EP3044174B1

    公开(公告)日:2017-09-06

    申请号:EP14772259.9

    申请日:2014-09-11

    摘要: Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750 °C - 950 °C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650 °C - 875 °C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

    摘要翻译: 二氧化硅 - 二氧化钛玻璃在很宽的零交越温度范围内具有小的热膨胀系数温度变化以及制造玻璃的方法。 该方法包括在两种不同温度状态下具有受控退火的冷却方案。 在从750℃至950℃或其子区间的温度区间内可发生较高温度控制的退火。 温度控制较低的退火可以在从650℃至875℃或其子区间的温度区间内发生。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供了固定组成的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值,迄今为止只有通过组成的变化才有可能。

    ULTRALOW EXPANSION GLASS
    2.
    发明公开
    ULTRALOW EXPANSION GLASS 有权
    VERFAHREN ZUM ENTSPANNEN EIN SILICIUMDIOXID-TITANDIOXID GLAS。

    公开(公告)号:EP3044174A1

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:EP14772259.9

    申请日:2014-09-11

    IPC分类号: C03B25/08

    摘要: Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750 °C - 950 °C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650 °C - 875 °C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

    摘要翻译: 在宽范围的零交叉温度下具有小的温度变化系数的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃以及用于制造眼镜的方法。 该方法包括在两种不同温度条件下具有受控退火的冷却方案。 较高的温度控制退火可以在750℃-950℃的温度间隔或其次间隔发生。 较低的温度控制退火可以在650℃-875℃的温度间隔或其子间隔内进行。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供固体组合物的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值,其范围迄今为止只能通过组成变化。

    ULTRALOW EXPANSION GLASS
    3.
    发明公开
    ULTRALOW EXPANSION GLASS 审中-公开
    ULTRALOW膨胀玻璃

    公开(公告)号:EP3222592A1

    公开(公告)日:2017-09-27

    申请号:EP17167619.0

    申请日:2014-09-11

    摘要: Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750 °C - 950 °C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650 °C - 875 °C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

    摘要翻译: 二氧化硅 - 二氧化钛玻璃在很宽的零交越温度范围内具有小的热膨胀系数温度变化以及制造玻璃的方法。 该方法包括在两种不同温度状态下具有受控退火的冷却方案。 在从750℃至950℃或其子区间的温度区间内可以发生较高温度控制的退火。 温度控制较低的退火可以在从650℃至875℃或其子区间的温度区间内发生。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供了固定组成的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值,迄今为止只有通过组成的变化才有可能。