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    ULTRALOW EXPANSION GLASS
    6.
    发明公开
    ULTRALOW EXPANSION GLASS 有权
    VERFAHREN ZUM ENTSPANNEN EIN SILICIUMDIOXID-TITANDIOXID GLAS。

    公开(公告)号：EP3044174A1

    公开(公告)日：2016-07-20

    申请号：EP14772259.9

    申请日：2014-09-11

    申请人： Corning Incorporated

    发明人： DURAN, Carlos Alberto

    IPC分类号： C03B25/08

    CPC分类号： C03B25/00 ,  C03B25/02 ,  C03B25/08 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C2201/00 ,  C03C2201/42 ,  Y02P40/57

    摘要： Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750 °C - 950 °C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650 °C - 875 °C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

    摘要翻译： 在宽范围的零交叉温度下具有小的温度变化系数的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃以及用于制造眼镜的方法。 该方法包括在两种不同温度条件下具有受控退火的冷却方案。 较高的温度控制退火可以在750℃-950℃的温度间隔或其次间隔发生。 较低的温度控制退火可以在650℃-875℃的温度间隔或其子间隔内进行。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供固体组合物的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值，其范围迄今为止只能通过组成变化。

    Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Fluor- und Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für den Einsatz in der EUV-Lithographie und danach hergestellter Rohling
    7.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Fluor- und Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für den Einsatz in der EUV-Lithographie und danach hergestellter Rohling 有权
    制造氟和的预成型体的方法，钛掺杂的高纯石英玻璃为在EUV光刻使用，再制成空白

    公开(公告)号：EP3000791A1

    公开(公告)日：2016-03-30

    申请号：EP14186139.3

    申请日：2014-09-24

    申请人： Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    发明人： Ochs, Stefan ,  Becker, Klaus

    IPC分类号： C03C3/06 ,  C03B19/14

    CPC分类号： G03F1/22 ,  C03B19/06 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1461 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/04 ,  C03C3/06 ,  C03C21/007 ,  C03C23/00 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/54 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60 ,  G03F7/00

    摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines mit Titan und Fluor codotierten Kieselglas-Rohling für den Einsatz in der EUV-Lithographie, mit einer internen Transmission von mindestens 60 % im Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm bei einer Probendicke von 10 mm, wobei das Titan in den Oxidationsformen Ti 3+ und Ti 4+ vorliegt, umfassend die Verfahrensschritte:
    (a) Herstellen eines TiO 2 -SiO 2 -Sootkörpers mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen
    (b) Fluorieren des Sootkörpers unter Bildung eines mit Fluor dotierten TiO 2 -SiO 2 -Sootkörpers,
    (c) Behandeln des mit Fluor dotierten TiO 2 -SiO 2 -Sootkörpers in einer Wasserdampf enthaltenden Atmosphäre unter Bildung eines konditionierten Sootkörpers, und
    (d) Verglasen des konditionierten Sootkörpers unter Bildung des Rohlings aus Titan-dotiertem Kieselglas mit einen mittleren OH-Gehalt im Bereich von 10 bis 100 Gew.-ppm und mit einem mittleren Fluorgehalt im Bereich von 2.500 bis 10.000 Gew.-ppm.
    Die durch die Wasserdampfbehandlung eingeführten OH-Gruppen zeigen auch nach Einwirkung von reduzierender Atmosphäre auf den Rohling eine verlängerte Wirkungsperiode im Sinne eines Depots für die interne Oxidation von Ti 3+ Ionen in Ti 4+ Ionen, so dass das Verhältnis von Ti 3+ /Ti 4+ auf einen Wert ≤ 2 x 10 -4 einstellbar ist.

    摘要翻译： 本发明涉及一种方法，用于生产共掺杂有氧化钛和氟石英玻璃坯料在EUV光刻使用，具有至少60％，在波长范围为400nm至700nm的内部透射，以10毫米的样品厚度，其中，所述 钛以Ti 3+和Ti 4+的氧化形式存在，其包括以下步骤：（a）在含硅和钛的原料的火焰水解（b）制备的TiO 2 -SiO 2烟炱体与形成氟掺杂的TiO氟化烟灰体 2 -SiO 2烟炱体，（c）处理掺杂的TiO 2中的氟在水蒸气气氛-SiO 2烟灰体，以形成经调节的烟灰体，和（d）与在形成空白空调掺钛二氧化硅玻璃的烟灰体的玻璃化 具有10至100重量ppm的范围内的平均OH含量和具有在2.5范围内的平均氟含量 00-10000重量ppm。 通过蒸汽处理引入OH基也显示暴露于在坯料上延长的作用期还原气氛后，作为用于钛3+的内部氧化的贮库的一部分离子的Ti 4+离子，从而使钛3+ / Ti的比值 4+ 2×10 -4是可调整的，以一个值‰¤。