PROCEDE DE FABRICATION D'UN ELEMENT SENSIBLE A UN PARAMETRE PHYSIQUE D'UN ECOULEMENT DE FLUIDE ET ELEMENT SENSIBLE CORRESPONDANT
    2.
    发明公开
    PROCEDE DE FABRICATION D'UN ELEMENT SENSIBLE A UN PARAMETRE PHYSIQUE D'UN ECOULEMENT DE FLUIDE ET ELEMENT SENSIBLE CORRESPONDANT 审中-公开
    方法产生逆着流动或物理参数的液体敏感元素与敏感元件

    公开(公告)号:EP3120119A1

    公开(公告)日:2017-01-25

    申请号:EP15709974.8

    申请日:2015-03-17

    申请人: Auxitrol SA

    摘要: The invention relates to a method of manufacturing an element sensitive to at least one physical parameter of a flow of fluid, comprising a step consisting in a single cycle of immersing, in molten glass, a core of a preassembled sensitive element, said core comprising at least two longitudinal channels along which there pass longitudinally at least two conducting connecting wires which are connected to an at least two-wire winding, said winding being suited to forming a resistive or inductive circuit for detecting said physical parameter, said immersion allowing the connecting wires to be sealed into the channels, allowing said channels to be filled and allowing the outside of the core to be coated in a single immersion, the core, at the end of said single immersion cycle, being sealed and coated in such a way as to obtain an assembled sensitive element. Advantageously, the winding may be "corkscrew" wound inside the longitudinal channels, immersion allowing the connecting wires to be held on the winding and controlling the space between the turns of the winding.

    摘要翻译: 本发明涉及一种制造元件的流体的流动中的至少一个物理参数敏感的方法,包括一个步骤中浸渍,在熔融玻璃敏感的单个循环包括,一个预装配元件的芯,所述芯在包括 沿着该至少两个纵向通道有朝右纵向至少两个导电连接线,其连接到至少两线绕组,所述绕组是适合于形成用于检测电阻或电感的电路,所述物理参数,所说浸渍允许连接线 被密封到所述信道,使所述通道被填充和允许被涂布在单浸泡,芯部的芯的外侧,在所述单一浸渍周期结束时,被密封并涂覆在寻求一种方式,以 获得装配的敏感元件上。 有利的是,绕组可以是纵向通道内“开塞钻”创伤,浸没从而允许保持在连接导线的绕组和控制绕组的匝之间的空间。

    ULTRALOW EXPANSION GLASS
    4.
    发明公开
    ULTRALOW EXPANSION GLASS 有权
    VERFAHREN ZUM ENTSPANNEN EIN SILICIUMDIOXID-TITANDIOXID GLAS。

    公开(公告)号:EP3044174A1

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:EP14772259.9

    申请日:2014-09-11

    IPC分类号: C03B25/08

    摘要: Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750 °C - 950 °C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650 °C - 875 °C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

    摘要翻译: 在宽范围的零交叉温度下具有小的温度变化系数的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃以及用于制造眼镜的方法。 该方法包括在两种不同温度条件下具有受控退火的冷却方案。 较高的温度控制退火可以在750℃-950℃的温度间隔或其次间隔发生。 较低的温度控制退火可以在650℃-875℃的温度间隔或其子间隔内进行。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供固体组合物的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值,其范围迄今为止只能通过组成变化。

    VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM THERMISCHEN BEHANDELN EINES RINGFÖRMIGEN BEREICHS EINER INNEREN OBERFLÄCHE EINES AUS EINEM BOROSILIKAT-ROHRGLAS HERGESTELLTEN GLASBEHÄLTERS
    5.
    发明公开
    VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM THERMISCHEN BEHANDELN EINES RINGFÖRMIGEN BEREICHS EINER INNEREN OBERFLÄCHE EINES AUS EINEM BOROSILIKAT-ROHRGLAS HERGESTELLTEN GLASBEHÄLTERS 审中-公开
    DEVICE AND METHOD FOR环形区域的内表面的由硼硅玻璃管道玻璃容器MANUFACTURED热处理

    公开(公告)号:EP2977358A1

    公开(公告)日:2016-01-27

    申请号:EP15176692.0

    申请日:2015-07-14

    申请人: Schott AG

    摘要: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum thermischen Behandeln eines ringförmigen Bereichs (23) einer inneren Oberfläche (14) eines aus einem Borosilikat-Rohrglas hergestellten Glasbehälters (10), wobei sich der ringförmige Bereich (23) auf einem rohrförmigen Abschnitt (12) des Glasbehälters (10) befindet und sich einem Glasbehälterboden (16) anschließt, umfassend folgende Schritte:
    - Formen des Glasbehälterbodens (16) aus dem Rohrglas,
    - Erwärmen des sich dem Glasbehälterboden (16) anschließenden ringförmigen Bereichs (23) der inneren Oberfläche (14) des rohrförmigen Abschnitts (12) auf eine Behandlungstemperatur T Beh oberhalb der Transformationstemperatur T G ,
    - Halten der Behandlungstemperatur T Beh für eine bestimmte Zeitdauer,
    - Abkühlen des Glasbehälters (10) auf Raumtemperatur.
    Zudem betrifft die Erfindung eine Bodenmaschine für eine Glasbearbeitungsvorrichtung (30) zum Herstellen von Glasbehältern (10) aus einem Borosilikat-Rohrglas mit einem Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, umfassend eine oder mehrere Halteeinheiten (36) zum Halten des Glasbehälters (10) bzw. des Rohrglases, wobei die Halteeinheiten (36) um eine Drehachse (R) der Bodenmaschine (32) drehbar gelagert sind, um den Glasbehälter (10) bzw. das Rohrglas zu einer Anzahl von primären Bearbeitungsstationen (40) zu führen, wobei zumindest an einer der primären Bearbeitungsstationen (40) eine Trenneinrichtung (48) zum Trennen des Glasbehälters (10) vom Rohrglas angeordnet ist, wobei die Bodenmaschine (32) eine oder mehrere weitere Bearbeitungsstationen (42) zum thermischen Behandeln eines ringförmigen Bereichs (23) einer inneren Oberfläche (14) des Glasbehälters (10) umfasst, wobei die Halteinheiten (16) so eingerichtet sind, dass sie den Glasbehälter (10) bzw. das Rohrglas auch zu den weiteren Bearbeitungsstationen (42) führen.

    摘要翻译: 本发明提供一种用于热处理从硼硅玻璃管制造的玻璃容器的内表面的环形设计区域的方法。 环形设计区域是在玻璃容器的筒状部设置,并且被设置为邻近的玻璃容器底部。 该方法包括:形成从所述玻璃管的玻璃容器底部; 加热所述管状部分的内表面的环形设计区域到处理温度TBEH高于转变温度TG,worin环形设计区域邻近所述玻璃容器底部; 将处理温度保持为TBEH某TIMEPERIOD; 和冷却所述玻璃容器至室温。

    ULTRALOW EXPANSION GLASS
    9.
    发明公开
    ULTRALOW EXPANSION GLASS 审中-公开
    ULTRALOW膨胀玻璃

    公开(公告)号:EP3222592A1

    公开(公告)日:2017-09-27

    申请号:EP17167619.0

    申请日:2014-09-11

    摘要: Silica-titania glasses with small temperature variations in coefficient of thermal expansion over a wide range of zero-crossover temperatures and methods for making the glasses. The method includes a cooling protocol with controlled anneals over two different temperature regimes. A higher temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 750 °C - 950 °C or a sub-interval thereof. A lower temperature controlled anneal may occur over a temperature interval from 650 °C - 875 °C or a sub-interval thereof. The controlled anneals permit independent control over CTE slope and Tzc of silica-titania glasses. The independent control provides CTE slope and Tzc values for silica-titania glasses of fixed composition over ranges heretofore possible only through variations in composition.

    摘要翻译: 二氧化硅 - 二氧化钛玻璃在很宽的零交越温度范围内具有小的热膨胀系数温度变化以及制造玻璃的方法。 该方法包括在两种不同温度状态下具有受控退火的冷却方案。 在从750℃至950℃或其子区间的温度区间内可以发生较高温度控制的退火。 温度控制较低的退火可以在从650℃至875℃或其子区间的温度区间内发生。 受控退火允许独立控制二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc。 独立控制提供了固定组成的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃的CTE斜率和Tzc值,迄今为止只有通过组成的变化才有可能。

    HEAT TREATMENT APPARATUS FOR CERAMIC MATERIALS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT METHOD FOR CERAMIC MATERIALS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT METHOD FOR SYNTHETIC QUARTZ GLASS, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS
    10.
    发明公开
    HEAT TREATMENT APPARATUS FOR CERAMIC MATERIALS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT METHOD FOR CERAMIC MATERIALS FOR OPTICAL USE, HEAT TREATMENT METHOD FOR SYNTHETIC QUARTZ GLASS, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
    热处理装置:用于光学目的,热处理工艺为光学用途陶瓷材料,热处理工艺合成石英玻璃,方法用于制造光学系统及其制造方法的曝光装置陶瓷材料

    公开(公告)号:EP2682373A1

    公开(公告)日:2014-01-08

    申请号:EP12752504.6

    申请日:2012-03-02

    申请人: Nikon Corporation

    发明人: HARA, Yuta

    摘要: An optical ceramic material heat treatment apparatus, comprising: a furnace body that is capable to contain an optical ceramic material to be heat treated in the inside thereof; a temperature drop control heater that generates heat during dropping a temperature of the optical ceramic material; a refrigerant intake unit that introduces a refrigerant into the inside of the furnace body to flow the refrigerant therein; and a control unit that controls the temperature drop rate, wherein the temperature drop control heater is arranged in the inside of the furnace body and/or in the refrigerant intake unit, the control unit controls at least one of an amount of heat generation of the temperature drop control heater, and a flow rate of the refrigerant in the inside of the furnace body to control a temperature drop rate at the optical ceramic material or in the vicinity thereof to be kept in a predetermined profile.

    摘要翻译: 光学陶瓷材料热处理装置,包括:炉体确实能够在光学陶瓷材料含有待热在其内部处理; 的温度下降控制加热器做的光学陶瓷材料的滴加温度期间产生热率; 的制冷剂吸入单元做过介绍的制冷剂到炉体在其中流动的制冷剂的内部; 以及控制单元,确实控制温度下降率,worin温度下降控制加热器在炉体的内侧布置和/或在所述制冷剂吸入单元,所述控制单元控制热量产生的量的至少一种 温度下降控制加热器,并且制冷剂在炉体在光学陶瓷材料或在其附近,以控制的温度下降速率的内部的流率必须保持在预定的轮廓。