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    RESONATEUR, ET AERONEF MUNI DE CE RESONATEUR
    2.
    发明公开
    RESONATEUR, ET AERONEF MUNI DE CE RESONATEUR 有权
    共鸣器和飞机提供了这个谐振器

    公开(公告)号：EP3273087A1

    公开(公告)日：2018-01-24

    申请号：EP17177507.5

    申请日：2017-06-22

    申请人： Airbus Helicopters

    发明人： BOCOVIZ, Claude ,  ECARD, Valentin ,  INQUIETE, Guillaume ,  EBERHARD, Alain ,  TAILLAND, Laurine

    IPC分类号： F16F7/10 ,  B64C27/04

    CPC分类号： B64C27/001 ,  B64C27/04 ,  B64C2027/002 ,  B64C2027/005 ,  F16F7/1005 ,  F16F7/1011 ,  F16F7/104 ,  F16F7/116 ,  F16F2222/08 ,  F16F2230/0011

    摘要： La présente invention concerne un résonateur muni d'un organe pesant (20) comprenant un carter (25) fixé à une lame élastique. L'organe pesant (20) comprend un ensemble massique (40) qui est mobile en translation dans ledit carter (25) selon une direction longitudinale (D1). Une vis sans fin (80) entraînée par un moyen d'entraînement (90) est engagée dans un écrou de coulissement dudit ensemble massique (40). L'ensemble massique (40) comporte deux masses (50) coulissant respectivement dans deux espaces cylindriques (31) du carter. Chaque masse (50) présente au moins deux moyens de pression (60) interposés entre cette masse (50) et le carter, chaque moyen de pression (60) comprenant une gorge ménagée dans une circonférence d'une masse (50), chaque moyen de pression (60) comprenant au moins un organe élastique disposé dans ladite gorge et une bague fendue plaquée contre le carter par ledit au moins un organe élastique du moyen de pression (60).

    摘要翻译： 本发明涉及一种设有称重元件（20）的谐振器，该称重元件包括固定在弹性刀片上的壳体（25）。 称重构件（20）包括质量组件（40），该质量组件（40）可在纵向（D1）上在所述外壳（25）中平移移动。 由驱动装置（90）驱动的蜗杆（80）接合在所述质量组件（40）的滑动螺母中。 质量组件（40）包括分别在外壳的两个圆柱形空间（31）中滑动的两个质量块（50）。 每个质量块（50）具有插入在该质量块（50）和壳体之间的至少两个压力装置（60），每个压力装置（60）包括形成在质量块（50）周围的凹槽，每个装置 所述压力装置（60）包括设置在所述凹槽中的至少一个弹性构件和通过所述挤压装置（60）的所述至少一个弹性构件压靠所述外壳的开口环。

    Tilgeranordnung
    6.
    发明公开
    Tilgeranordnung 有权

    公开(公告)号：EP2639475A1

    公开(公告)日：2013-09-18

    申请号：EP12001796.7

    申请日：2012-03-16

    申请人： Wölfel Beratende Ingenieure GmbH & Co. KG

    发明人： Engelhardt, Jürgen ,  Pankoke, Dr. Steffen ,  Wölfel, Prof. Dr. Horst

    IPC分类号： F16F7/10 ,  G10K11/178

    CPC分类号： F16F7/1005

    摘要： Es wird eine Tilgeranordnung angegeben mit einer Befestigungsanordnung (9) und mehreren aktiven Tilgern (1a, 1b), von denen jeder eine Reaktionsmassenanordnung und eine Aktoreinrichtung, durch die die Reaktionsmassenanordnung entlang einer Bewegungsachse bewegbar ist, aufweist, wobei die Bewegungsachsen von mindestens zwei Tilgern (1a, 1b) voneinander abweichen.
    Man möchte eine derartige Tilgeranordnung möglichst vielseitig verwendbar machen.
    Hierzu ist vorgesehen, dass die Bewegungsachsen am Massenschwerpunkt der Befestigungsanordnung (9) vorbei gerichtet sind und für jede Richtung der Bewegungsachsen (1a, 1b) eine Sensoreinrichtung vorgesehen ist.

    摘要翻译： 它是一个Tilgeranordnung设置有安装装置（9）和多个有源质量阻尼器（1A，1B），每个具有一个反应体组件和致动器装置，通过该沿一个运动轴线的反应体组件是可移动的，所述至少两个质量阻尼器的运动轴（ 1a，1b）彼此不同。 它希望尽可能多地使这样一个Tilgeranordnung。 为了这个目的，它提供了运动轴线在所述安装组件（9）的重心导向和通过（1A，1B），用于传感器装置的运动轴线的每个方向上。

    ACTIVE/PASSIVE ABSORBER FOR VIBRATION AND SOUND RADIATION CONTROL
    9.
    发明授权
    ACTIVE/PASSIVE ABSORBER FOR VIBRATION AND SOUND RADIATION CONTROL 有权
    主动/被动吸收器振动和SCHALLABSTRAHLSTEUERUNG

    公开(公告)号：EP1649523B1

    公开(公告)日：2012-02-22

    申请号：EP04751247.0

    申请日：2004-05-05

    申请人： VIRGINIA TECH INTELLECTUAL PROPERTIES, INC.

    发明人： FULLER, Christopher, R. ,  CAMBOU, Pierre, E.

    IPC分类号： H01L41/04 ,  H01L41/08 ,  H02N2/00 ,  F16F7/10 ,  F16F7/104

    CPC分类号： B32B3/28 ,  B32B3/266 ,  B32B5/18 ,  B32B15/082 ,  B32B27/304 ,  B32B2307/56 ,  F16F7/1005 ,  F16F7/104 ,  F16F15/00

    摘要： The active/passive absorber for extended vibration and sound radiation control includes principally two layers. The first layer has a low stiffness per unit area which allows motion in the direction perpendicular to its main plane. The second layer is principally a mass layer. These two combined layers have a frequency of resonance close to one of the main structure, The dynamic behavior of the coupled system makes the active/passive absorber a passive absorber; however, the first layer can be electrically actuated to induce motion in the direction perpendicular to its main plane. This addition property induces and/or changes the motion of the mass layer and therefore improves the dynamic properties of the active/passive absorber system. The active/passive absorber can have multiple mass layers and multiple elastic layers stacked one on top of the other. In addition, the mass layers can be continuous or discretized, and have varying thicknesses and shapes for sections and/or segments in the mass layer.

    Lithographic apparatus, projection assembly and active damping
    10.
    发明公开
    Lithographic apparatus, projection assembly and active damping 有权
    一种光刻设备，投影装置以及主动阻尼

    公开(公告)号：EP2045664A3

    公开(公告)日：2012-01-04

    申请号：EP08165761.1

    申请日：2008-10-02

    申请人： ASML Netherlands B.V.

    发明人： van der Wijst, Marc Wilhelmus Maria ,  de Hoon, Cornelius Adrianus Lambertus ,  Loopstra, Erik Roelof

    IPC分类号： G03F7/20 ,  B60G17/015 ,  F16F15/03 ,  F16F7/10

    CPC分类号： G03F7/709 ,  F16F7/1005

    摘要： A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device. The lithographic apparatus further comprises a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned beam onto a target portion of the substrate. An active damping system is provided to dampen a vibration of at least part of the projection system. The active damping system comprises a combination of a sensor to measure a position quantity of the projection system and an actuator to exert a force on the projection system in dependency of a signal provided by the sensor. The active damping system is connected to a damping mass, the damping mass being connected to the projection system.