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    Schmelzvorrichtung mit einem Schmelztiegel
    2.
    发明公开
    Schmelzvorrichtung mit einem Schmelztiegel 审中-公开

    公开(公告)号：EP1712861A1

    公开(公告)日：2006-10-18

    申请号：EP06006551.3

    申请日：2006-03-29

    申请人： Barget, Rudolf

    发明人： Die Erfindernennung liegt noch nicht vor

    IPC分类号： F27B17/02 ,  A61C13/20 ,  F27D23/00 ,  F27D9/00

    CPC分类号： F27D99/0006 ,  A61C13/20 ,  F27B14/10 ,  F27B14/14 ,  F27B17/025 ,  F27D2009/0005 ,  F27D2099/0026

    摘要： Die Erfindung betrifft eine Schmelzvorrichtung mit einem Schmelztiegel (4) aus Quarzglas, ferner mit einem den Schmelztiegel umgebenden Isolierblock (9), ferner mit wenigstens einem zu dem Schmelztiegel führenden Strahlungsschacht (8) in dem Isolierblock, ferner mit einer in dem Strahlungsschacht angeordneten, auf den Schmelztiegel ausgerichteten länglichen Strahlungswärmequelle (3) in Form wenigstens eines kurzwelligen Quarz-Infrarotstrahlers und mit einer Kühlvorrichtung zum Erzeugen eines die Strahlungswärmequelle kühlenden Gas- oder Luftstroms.
    Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Schmelzvorrichtung der genannten Art mit einfachen Maßnahmen so auszubilden, daß sich Überhitzungen sowie Zerstörungen der Strahlungswärmequelle vermeiden lassen.
    Zur Lösung der gestellten Aufgabe zeichnet sich eine Schmelzvorrichtung der genannten Art erfindungsgemäß dadurch aus, daß die Strahlungswärmequelle im Inneren eines hitzebeständigen Strömungskanals angeordnet ist, der zumindest in Richtung zum Schmelztiegel infrarotdurchlässig ist und der den kühlenden Gas- oder Luftstrom längs der Strahlungswärmequelle und dann aus der Schmelzvorrichtung nach außen leitet.

    摘要翻译： 辐射热源（3）布置在对红外辐射透明的耐热流动通道（13）内，至少在朝向坩埚的方向上。 流动通道将沿着辐射热源的冷却气体或气流引导到熔化装置外部。

    High frequency heating apparatus
    4.
    发明公开
    High frequency heating apparatus 有权
    Hochfrequenzheizvorrichtung

    公开(公告)号：EP2827681A1

    公开(公告)日：2015-01-21

    申请号：EP14182594.3

    申请日：2013-03-06

    申请人： Samsung Corning Precision Materials Co., Ltd.

    发明人： Lee, Hoikwan ,  Yoon, Kyungmin ,  Cho, Seo-Yeong

    IPC分类号： H05B6/70 ,  H05B6/78 ,  C03B23/02

    CPC分类号： H05B6/64 ,  C03B29/08 ,  F27B9/36 ,  F27D11/12 ,  F27D99/0006 ,  F27D2099/0026 ,  H05B6/70 ,  H05B6/78

    摘要： A high frequency heating apparatus which heats a substrate by applying high frequency waves thereto. The high frequency heating apparatus includes a high frequency generator which generates high frequency to heat the substrate. The distance from the substrate to the high frequency generator is (n/2)*λ, where n is a natural number ranging from 1 to 6, and X is the wavelength of the high frequency that is generated by the high frequency generator.

    摘要翻译： 一种通过向其施加高频波来加热基板的高频加热装置。 高频加热装置包括产生高频以加热基板的高频发生器。 从衬底到高频发生器的距离为（n / 2）*»，其中n是从1到6的自然数，X是由高频发生器产生的高频的波长。

    A PROCESS OF POWDER COATING AND A POWDER COATING APPARATUS
    5.
    发明公开
    A PROCESS OF POWDER COATING AND A POWDER COATING APPARATUS 审中-公开
    方法粉末涂料和粉末涂布装置

    公开(公告)号：EP1912746A2

    公开(公告)日：2008-04-23

    申请号：EP06765351.9

    申请日：2006-07-13

    申请人： Webb, Ian

    发明人： Webb, Ian

    IPC分类号： B05D3/02 ,  F27D23/00

    CPC分类号： B05D3/0263 ,  B05D2401/32 ,  F27D99/0006 ,  F27D2099/0026 ,  Y10T428/31989

    摘要： A process of dry powder coating a thermo-curing resin onto a heat sensitive substrate such as chip board, fibreboard or wood is disclosed. The process requires the bare substrate (1) to be coated with the uncured powder (1') and cured by irradiation with infrared in a curing oven (3). The curing oven uses ceramic glass elements (5) as the source of infrared radiation. The process may also be applied advantageously to components of heat insensitive material such as steel.

    Schmelzvorrichtung mit einem Schmelztiegel
    8.
    发明公开
    Schmelzvorrichtung mit einem Schmelztiegel 有权

    公开(公告)号：EP1464904A1

    公开(公告)日：2004-10-06

    申请号：EP04006460.2

    申请日：2004-03-18

    申请人： Barget, Rudolf

    发明人： Barget, Rudolf

    IPC分类号： F27B17/02

    CPC分类号： F27B17/025 ,  A61C13/20 ,  F27B2014/0825 ,  F27B2014/102 ,  F27D2099/0026

    摘要： Die Erfindung betrifft eine Schmelzvorrichtung mit einem Schmelztiegel aus Quarzglas und wenigstens einer auf diesen ausgerichteten Strahlungswärmequelle.
    Ziel der Erfindung ist es, eine Schmelzvorrichtung der genannten Art, beispielsweise für die Dentaltechnik oder Elementaranalysetechnik, mit einfachen Maßnahmen so auszubilden, daß sich hohe Schmelztemperaturen bei verbesserter Energieausbeute und reduziertem Wärmeverlust sehr schnell erzielen lassen.
    Zum Erreichen dieses Ziels wird bei einer Schmelzvorrichtung der genannten Art erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß der Schmelztiegel von einem Isolierblock umgeben ist, daß in dem Isolierblock wenigstens ein zum Schmelztiegel führender Strahlungsschacht mit wenigstens einer darin befindlichen Strahlungswärmequelle angeordnet ist. und daß die Strahlungswärmequelle als kurzwelliger Quarz-Infrarotstrahler ausgebildet ist
    Mit einer solchen Schmelzvorrichtung lassen sich energiesparend sehr hohe Schmelztemperaturen äußerst schnell erzielen. Die kurzwellige Infrarotstrahlung des wenigstens einen Quarz-Infrarotstrahlers in dem wenigstens einen Strahlungsschacht des Isolierblocks gelangt durch diesen auf direktem Wege zum Schmelztiegel, so daß sich das Schmelzgut ohne bedeutsamen Energieverlust extrem schnell auf sehr hohe Temperaturen erhitzen läßt. Der Schmelzvorgang wird auch dadurch gefördert, daß durch den Isolierblock die Wärmeabstrahlung vom Schmelzgut deutlich reduziert ist.

    摘要翻译： 熔化装置包括由绝缘块（9）围绕的石英玻璃熔化坩埚（4），其中至少一个辐射轴通向熔化坩埚并且包含作为辐射热源的短波石英红外辐射器（3）。 优选特征：熔化坩埚和石英红外辐射体具有细长形状，并且彼此垂直并平行。 辐射轴具有相应的细长直立横截面。

    INFRARED HEATING METHOD AND APPARATUS FOR CURING REFRACTORIES
    9.
    发明公开
    INFRARED HEATING METHOD AND APPARATUS FOR CURING REFRACTORIES 审中-公开
    固化耐火材料红外的方法和装置

    公开(公告)号：EP1307412A1

    公开(公告)日：2003-05-07

    申请号：EP01955818.8

    申请日：2001-07-12

    申请人： Specialty Minerals Michigan Inc.

    发明人： KOTYUK, Mark, D.

    IPC分类号： C04B35/66 ,  B22D41/02

    CPC分类号： C04B33/32 ,  B22D41/023 ,  C04B33/30 ,  C04B35/64 ,  F27D1/1626 ,  F27D3/145 ,  F27D19/00 ,  F27D2099/0026 ,  F27D2099/0058

    摘要： A method and a device for curing a refractory material are provided. The device includes a mandrel having an opening therein defined by interior surfaces thereof, wherein the mandrel is dimensioned to fit within a vessel and define a gap therebetween corresponding in thickness to a predetermined thickness of a vessel refractory lining. An infrared heater is disposed within the mandrel opening and is oriented to irradiate an interior surface of the mandrel. The method for curing refractory material includes inputting a refractory material into a gap between a mandrel and a tundish, radiating infrared heat energy from a plurality of infrared heating elements toward interior surfaces of the mandrel to heat the mandrel, curing the refractory material within the gap using heat transferred to the refractory material through the mandrel to form a refractory material lining for the tundish.