KR200493355Y1 - Control System of Dispersion and Direction of Arc Ion Beam Using Magnetic Field and Plasma Surface Treatment System

    公开(公告)号:KR200493355Y1

    公开(公告)日:2021-03-17

    申请号:KR2020190001846U

    申请日:2019-05-07

    CPC classification number: H01J37/1475 H01J37/3171

    Abstract: 본 고안의 목적은 이온빔을 분산시켜 구경을 확대하고 방향을 제어하여 대면적 기재의 표면처리에 적용할 수 있는 아크 이온빔 분산 및 방향 제어 장치를 좀 더 저비용 및 간소화된 구성으로 제공하고자 하는 것이다.
    상기 목적에 따라 본 고안은, 음극 아크 소스(cathodic arc source)와 코팅을 요하는 기재(substrate) 사이 구간에 전자석 또는 영구자석을 배치하여 전자석의 전기적 신호를 이용한 자장 변화 또는 영구자석의 기계적 움직임(회전 혹은 왕복 운동)을 이용하여 음극 아크 소스로부터 발생한 이온 빔(ion beam)의 방출 방향을 제어하는 아크 이온빔 분산 및 방향 제어 장치 및 대면적 표면처리 시스템을 제공한다.

    荷電粒子光学装置
    3.
    发明专利
    荷電粒子光学装置 有权
    带电粒子光学设备

    公开(公告)号:JP2016529684A

    公开(公告)日:2016-09-23

    申请号:JP2016540837

    申请日:2014-09-05

    Abstract: 本発明は荷電粒子の多数のビームレットの軌道を操作するための荷電粒子光学装置に関する。この荷電粒子光学装置は基板の上方の側及び下方の側と、更に均一な厚さとを有する平坦な基板を含む電磁偏向器を備えている。この基板は前記ビームレットをそこを通って通過させる貫通開口部を備え、前記貫通開口部は前記基板の上方側及び下方側に進出し、前記基板は第1と第2のコイルを更に備え、これらのコイルの各々は好ましくは略螺旋状コイルであり、そして前記基板は上記上方側に配置された導電的上方リードと、前記下方側において配置された導電的な下方リードと、そして前記基板を貫通して延在すると共に前記コイルを形成するために前記上方リードの1つを前記下方リードの1つに導電的に接続する各ビアとを更に備え、前記第1及び第2のコイルは前記貫通開口部のいずれかの側に配置されている。【選択図】図2

    Abstract translation: 本发明涉及一种带电粒子光学装置用于操纵大量带电粒子的子束的轨迹。 带电粒子光学系统包括偏转器电磁包括具有侧上基板的下面和侧面的平坦的基板,和更均匀的厚度。 该基板设置有贯通开口用于穿过所述子束,所述贯通开口被推进到上侧和基片的下侧,其中,所述基底还包括第一和第二线圈, 每个这些线圈的优选基本上螺旋线圈,并且基板和布置上述导电导致的上侧,并且在下部侧设置导电向下引出,与基板 通过进一步包括经由到导电连接中的一个相应的所述的上部引线的一个,以形成线圈,并与延伸的下引线的第一和第二线圈是 它被设置在通孔的两侧。 .The

    High-efficiency magnetic scanning system

    公开(公告)号:JP2013529360A

    公开(公告)日:2013-07-18

    申请号:JP2013507948

    申请日:2011-04-27

    Abstract: 本発明の一態様は、第1磁性部材および第2磁性部材を備え、当該両磁性部材の間にビーム経路領域が形成される磁気ビーム走査装置によってイオン注入を促進する。 上記第1磁性部材と上記第2磁性部材との間の上記ビーム経路領域に近接する位置に、1または複数の磁束圧縮部材を配置する。 動作期間中、上記第1磁性部材および上記第2磁性部材は、イオンビームを端から端へ走査するために、上記ビーム経路領域に振動的に時間変化する磁界を協同して生成する。 1または複数の上記磁束圧縮部材は、第1磁性部材および第2磁性部材によって生成された磁束を圧縮し、それによって上記ビームを端から端へ磁気的に走査するために必要な電力量を低減する。 他の走査装置、システム、および方法も開示している。

    System and method of forming oscillating magnetic field useful for irradiating surface with atom and molecular ion in working gap
    5.
    发明专利
    System and method of forming oscillating magnetic field useful for irradiating surface with atom and molecular ion in working gap 有权
    用于在工作空间中使用原子和分子内照射表面振荡磁场的系统和方法

    公开(公告)号:JP2005191011A

    公开(公告)日:2005-07-14

    申请号:JP2005006925

    申请日:2005-01-13

    Inventor: GLAVISH HILTON F

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the heavy ion implanting instrument of both a continuous hybrid type and a batch type using a magnetic scan system operated at a frequency from 20Hz to 300Hz condition. SOLUTION: A deflection apparatus for a high perveance ion beam, which works at a basic frequency of 20Hz or an order harmonic wave having a frequency higher than the basic frequency, and which has a magnetic structure formed by a stacked layer (72) having a thickness from 0.2 to 1mm. A compensator comprising a similar stacked layer structure having a resonance excitation circuit, which works at a frequency not less than 20 Hz, and which has a phase closure relation with a preliminary deflected beam frequency. A wide range of application for generating a strong magnetic field in a magnetic space is disclosed with another characteristics. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

    Abstract translation: 要解决的问题:使用以20Hz至300Hz的频率工作的磁扫描系统来提供连续混合型和分批型的重离子注入仪器。 解决方案:用于高基波频率为20Hz的高度离子束的偏转装置或具有高于基本频率的频率的次谐波,并且具有由堆叠层(72)形成的磁性结构 ),厚度为0.2〜1mm。 一种补偿器,包括具有谐振激励电路的相似叠层结构,其以不小于20Hz的频率工作,并且与初步偏转的波束频率具有相位关系。 公开了用于在磁空间中产生强磁场的广泛应用,具有另外的特征。 版权所有(C)2005,JPO&NCIPI

    走査透過電子顕微鏡および画像生成方法

    公开(公告)号:JP2018088321A

    公开(公告)日:2018-06-07

    申请号:JP2016230168

    申请日:2016-11-28

    Inventor: 佐川 隆亮

    Abstract: 【課題】1つの検出器で、複数種のSTEM像を取得することができる走査透過電子顕微鏡を提供する。 【解決手段】走査透過電子顕微鏡は、電子線を放出する電子源と、電子源から放出された電子線を試料上で走査するための走査偏向素子と、電子線を収束させる対物レンズと、対物レンズの後焦点面および当該後焦点面の共役な面に配置された撮像装置と、撮像装置で撮像された画像に基づいて、走査像を生成する走査像生成部と、を含み、走査像生成部は、電子線の走査によって試料上の各位置を透過した電子線で形成された電子回折パターンを撮像装置で撮像して得られた複数の画像を取得する処理と、取得された複数の画像の各々について、画像中の透過波の像の大きさに基づき設定された積分領域内の各画素の強度を積分して、試料上の各位置の信号強度を求める処理と、試料上の各位置の信号強度に基づいて、走査像を生成する処理と、を行う。 【選択図】図5

    磁気偏向システム、イオン注入システム、イオンビームを走査する方法
    9.
    发明专利
    磁気偏向システム、イオン注入システム、イオンビームを走査する方法 有权
    扫描磁偏转系统,离子注入系统中,离子束的方法

    公开(公告)号:JP2016225283A

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:JP2016088067

    申请日:2016-04-26

    CPC classification number: H01J37/1475 H01J37/14 H01J37/3171 H01J2237/057

    Abstract: 【課題】 省力化と性能向上に貢献する。 【解決手段】 ウェハを横切るようにイオンビームを一様に走査するための磁気システムは、各々磁気コアの内部の磁極面に沿って直線状に延設される直流と交流のコイル巻線を有する磁気走査装置を備えている。その交流と直流のコイル巻線は相互に直交しており、時間変動する磁気要素は、イオンビーム走査を引き起こし、その一方で、実質的に静的(直流)な場の要素がイオンビームを直交平面方向に偏向させる。交流と直流のコイル巻線中の電流密度は、磁極面に沿って一様に分散し、結果的に、ウェハ上で均一性の向上されたビームを生み出している磁気システムは、第1および第2の相互に対向し、その間に開口を画定する対称形の双極子を備えたコリメータを有している。双極子におけるそれぞれの磁極は、中央軸と直交する方向に、単調で多項式の形状となっている磁極面を有し、上記中央軸に向かって間隔が広がる磁極間ギャップを形成している。 【選択図】 図3

    Abstract translation: 本发明的一个目的是有助于节省劳力和性能改善。 为在整个晶片均匀地扫描的离子束的磁系统具有线圈绕组的AC和DC的线性地分别沿着所述磁芯的磁极面的内部延伸 和磁扫描装置。 AC和DC的线圈绕组是相互正交的,磁性元件不同的时间会导致离子束扫描,在另一方面,基本上静态(DC)竞技场中的元素是垂直于离子束 偏转平面方向。 电流在AC和DC线圈绕组密度,沿着磁极面均匀地分布,结果,磁系统已经产生了改进的光束均匀性的晶片上,第一和第二 反对2相互具有具有偶极对称限定开口其间准直仪。 在一个方向上的偶极子垂直于中心轴线,每个极,具有的形状单调多项式,以形成朝向所述中心轴线的磁极间隙延伸间距的极面。 点域

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