公开(公告)号：JP4886020B2

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：JP2009252460

申请日：2009-11-02

Applicant: 日本電信電話株式会社

Inventor： 房男 下川 ,  佐藤　　誠 ,  真吾 内山 ,  城治 山口 ,  誠 村上 ,  博文 森田 ,  克之 町田 ,  仁 石井 ,  秀一郎 稲垣 ,  久仁彦 笹倉

IPC: G02B26/08 ,  B81B3/00

CPC classification number: B81B3/004 ,  B81B3/0086 ,  B81B2201/045 ,  B81B2203/058 ,  G02B6/3518 ,  G02B6/3556 ,  G02B6/3584 ,  G02B26/0841 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T156/10

公开(公告)号：JP4852220B2

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：JP2002510382

申请日：2001-06-13

Applicant: メムスファブ ゲーエムベーハー

Inventor： キュフラー，マティアス ,  クノフラー，ローマン ,  ゲッスナー，トーマス ,  ベルツ，アンドレアス

IPC: B81B3/00 ,  B81C1/00

CPC classification number: B81B3/0086 ,  B81B2203/033 ,  B81C2201/016

公开(公告)号：JP2011251404A

公开(公告)日：2011-12-15

申请号：JP2011123682

申请日：2011-06-01

Applicant: Robert Bosch Gmbh ,  ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツングRobert Bosch Gmbh

Inventor： LINDENKREUZ STEFFI ,  KIESEWETTER GERHARD ,  PINTER STEFAN DR ,  MUCHOW JOERG

IPC: B81B3/00 ,  G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81B3/0086 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/0109 ,  B81B2207/07 ,  Y10T29/49826

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure a function of at least one spring is surely fulfilled even if the spring is frequently exposed to a mechanical load.SOLUTION: A micromechanical component has a holding device and an adjustable component, which is adjustable with respect to the holding device at least from a first position into a second position, and which is connected via at least one spring 20 to the holding device. The micromechanical component also includes at least one silicide-containing line segment 30, 32 situated on the at least one spring 20.

Abstract translation: 要解决的问题：即使弹簧经常暴露于机械负载，确保达到至少一个弹簧的功能。 解决方案：微机械部件具有保持装置和可调部件，其可相对于保持装置至少从第一位置调整到第二位置，并且其经由至少一个弹簧20连接到保持装置 设备。 微机械部件还包括位于至少一个弹簧20上的至少一个含硅化物的线段30,32。（C）2012，JPO和INPIT

公开(公告)号：JP2011521792A

公开(公告)日：2011-07-28

申请号：JP2011506540

申请日：2009-04-29

Applicant: ミクラリン インコーポレイティッド

Inventor： キーワース、バリー ,  クロフォード、ジャレッド ,  コーネルセン、ケヴィン

IPC: B81B3/00 ,  G02B26/08

CPC classification number: G02B26/0841 ,  B81B3/0062 ,  B81B3/0086 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/04 ,  B81B2203/058 ,  B81B2207/07 ,  H02N1/006

Abstract: ＭＥＭＳ装置が提供され、当該装置は、上面を有し、該上面は、ミラーなどの回転可能な素子を含んでいる。 中間支持フレーム面、および、下部電気用基板の面がある。 前記回転可能な素子は、フレームに対して第１の回転軸で回転可能となるように、中間支持フレーム面に形成された支持フレームによって支持されている。 該フレームは、第２の回転軸に対して回転可能となるように取り付けられている。 第１の回転軸での回転は、第２の回転軸での回転から実質的に独立している。
【選択図】図１Ａ

公开(公告)号：JPWO2009057202A1

公开(公告)日：2011-03-10

申请号：JP2009538878

申请日：2007-10-31

Applicant: 富士通株式会社

Inventor： 壷井　修 ,  修 壷井 ,  悟覚 ▲高▼馬 ,  悟覚 ▲高▼馬 ,  水野　義博 ,  義博 水野 ,  奥田　久雄 ,  久雄 奥田 ,  弘光 曾根田 ,  弘光 曾根田 ,  松本　剛 ,  松本　　剛

IPC: B81B3/00 ,  G02B26/08

CPC classification number: B81B3/0086 ,  B81B2201/033 ,  B81B2201/042 ,  B81B2203/0136 ,  B81B2203/058 ,  G02B26/0841

Abstract: 【課題】駆動特性の劣化を抑制するのに適したマイクロ可動素子、および、そのようなマイクロ可動素子を含むマイクロ可動素子アレイを、提供する。【解決手段】本発明のマイクロ可動素子(X1)は、第1駆動電極を有する可動部と、第1駆動電極との間に静電引力を発生させるための第2駆動電極と、第1駆動電極と電気的に接続している第1導体部(22c)と、第2駆動電極と電気的に接続している第2導体部(22b)と、第1および第2駆動電極と電気的に接続しておらず、第1導体部(22c)と絶縁膜(23)を介して接合し、且つ、第2導体部(22b)と絶縁膜(23)を介して接合している、第3導体部(21a)とを備える。

公开(公告)号：JP2010204098A

公开(公告)日：2010-09-16

申请号：JP2010041878

申请日：2010-02-26

Applicant: Commissariat A L'energie Atomique & Aux Energies Alternatives ,  コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ

Inventor： DURAFFOURG LAURENT ,  ANDREUCCI PHILIPPE ,  ERNST THOMAS ,  HENTZ SEBASTIEN

IPC: G01N9/00 ,  B82B1/00 ,  G01L1/18

CPC classification number: B81B3/0086 ,  B81B2201/0214 ,  B81B2203/0109

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nanowire type sensor device. SOLUTION: The sensor device includes at least one nanowire having a first conductive area (2) and a second insulating area (4). The second area does not occupy the entire thickness of the nanowire, and a current can circulate in the nanowire from one end to the other end of the nanowire. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种纳米线型传感器装置。 传感器装置包括至少一个具有第一导电区域（2）和第二绝缘区域（4）的纳米线。 第二区域不占据纳米线的整个厚度，并且电流可以从纳米线的一端到另一端在纳米线中循环。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4501004B2

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：JP2005233651

申请日：2005-08-11

Applicant: クゥアルコム・メムス・テクノロジーズ・インコーポレイテッドQUALCOMM MEMS Technologies, Inc.

Inventor： クラレンス・チュイ ,  ジェフリー・ビー・サンプセル

IPC: G02B26/02 ,  B81B3/00 ,  B81B7/04

CPC classification number: G02B26/001 ,  B81B3/0086 ,  G09G3/3466 ,  Y10T29/49117

公开(公告)号：JP2010061155A

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：JP2009252482

申请日：2009-11-02

Applicant: Nippon Telegr & Teleph Corp ,  日本電信電話株式会社

Inventor： UCHIYAMA SHINGO ,  SHIMOKAWA FUSAO ,  YAMAGUCHI JOJI ,  SATO MAKOTO ,  SASAKURA KUNIHIKO ,  MORITA HIROBUMI ,  INAGAKI HIDEICHIRO ,  MURAKAMI MAKOTO ,  MACHIDA KATSUYUKI ,  ISHII HITOSHI

IPC: G02B26/08 ,  B81C3/00

CPC classification number: B81B3/004 ,  B81B3/0086 ,  B81B2201/045 ,  B81B2203/058 ,  G02B6/3518 ,  G02B6/3556 ,  G02B6/3584 ,  G02B26/0841 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T156/10

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a mirror device to manufacture a mirror with desired warpage quantity. SOLUTION: This method includes a first step to prepare a mirror substrate having the plate-like mirror pivotably supported, a second step to form a first metal layer on one side of the mirror, a third step to form a second metal layer on the other side of the mirror, and a fourth step to place the mirror substrate on an electrode substrate and oppositely arrange an electrode and the mirror. The thickness of at least one of the surface layer 232 and the rear surface layer 233 is controlled. Thereby, the curvature quantity of the mirror 230 is controlled, and the mirror 230 with a desired radius of curvature can be manufactured. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供制造反射镜装置的方法来制造具有期望翘曲量的反射镜。 解决方案：该方法包括：准备具有可枢转地支撑的板状镜的反射镜基板的第一步骤，在反射镜一侧形成第一金属层的第二步骤，形成第二金属层的第三步骤 在反射镜的另一侧，以及将反射镜基板放置在电极基板上并相反地布置电极和反射镜的第四步骤。 控制表面层232和后表面层233中的至少一个的厚度。 由此，可以控制反射镜230的曲率，并且可以制造具有期望的曲率半径的反射镜230。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2010061154A

公开(公告)日：2010-03-18

申请号：JP2009252479

申请日：2009-11-02

Applicant: Nippon Telegr & Teleph Corp ,  日本電信電話株式会社

Inventor： UCHIYAMA SHINGO ,  SHIMOKAWA FUSAO ,  YAMAGUCHI JOJI ,  SATO MAKOTO ,  SASAKURA KUNIHIKO ,  MORITA HIROBUMI ,  INAGAKI HIDEICHIRO ,  MURAKAMI MAKOTO ,  MACHIDA KATSUYUKI ,  ISHII HITOSHI

IPC: G02B26/08 ,  B81B3/00

CPC classification number: B81B3/004 ,  B81B3/0086 ,  B81B2201/045 ,  B81B2203/058 ,  G02B6/3518 ,  G02B6/3556 ,  G02B6/3584 ,  G02B26/0841 ,  Y10T29/49885 ,  Y10T156/10

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mirror device suppressing the drift of a mirror and having excellent impact resistance. SOLUTION: This mirror device includes the mirror pivotably supported with respect to a mirror substrate, a driving electrode formed on the electrode substrate opposing to the mirror substrate, and an elastic member which connects the mirror to the mirror substrate. The mirror substrate has a first opening. The mirror is pivotably supported inside the first opening by the elastic member. The gaps d1-d4 between the mirror and the elastic member are set larger than a displacement quantity d value of d=mG/k, where the mass of the mirror is m, the acceleration applied to the mirror device is G, and the spring constant of the elastic member is k. Thereby, even when the acceleration G is applied to a mirror array, a movable member of the mirror substrate 200 does not contact a member adjoining the movable member, and thus damaging can be prevented. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供抑制反射镜漂移并具有优异抗冲击性的反射镜装置。 解决方案：该反射镜装置包括相对于反射镜基板可枢转地支撑的反射镜，形成在与反射镜基板相对的电极基板上的驱动电极，以及将反射镜连接到反射镜基板的弹性部件。 镜面基板具有第一开口。 该反射镜通过该弹性构件可枢转地支撑在第一开口的内部。 反射镜和弹性构件之间的间隙d1-d4被设定为大于d = mG / k的位移量d值，其中反射镜的质量为m，施加到镜装置的加速度为G，弹簧 弹性构件的常数为k。 因此，即使当将加速度G施加到反射镜阵列时，反射镜基板200的可动部件也不与邻接于可动部件的部件接触，能够防止损伤。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2009122031A

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：JP2007298009

申请日：2007-11-16

Applicant: Seiko Epson Corp ,  セイコーエプソン株式会社

Inventor： SHIMADA HIROYUKI

IPC: G01L9/00 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00 ,  H01L29/84

CPC classification number: B81B3/0086 ,  B81B2201/0235 ,  B81B2201/0264 ,  G01P15/124

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the characteristic of a minute electromechanical device and to simplify a manufacturing process. SOLUTION: The minute electromechanical device has a semiconductor layer (1), source and drain regions (13) formed on the opposite sides of a channel region in the semiconductor layer, a gate insulation film (19) formed on the semiconductor layer, a cavity (15a) formed on the gate insulation film and a gate electrode (17) formed on the cavity. The gate electrode is so constituted as to be movable to come into contact with the gate insulation film. The device is so constituted that a force applied onto the gate electrode is detected from the area of contact of the gate electrode with the gate insulation film. Thus, the force applied onto the gate electrode can be detected from the area of the contact. By using a temporary FET structure, the device and the manufacturing process can be simplified. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提高微机电装置的特性，并简化制造过程。 解决方案：微机电装置具有半导体层（1），形成在半导体层中的沟道区的相对侧上的源极和漏极区（13），形成在半导体层上的栅极绝缘膜（19） ，形成在栅绝缘膜上的空腔（15a）和形成在空腔上的栅电极（17）。 栅极被构造成可移动以与栅极绝缘膜接触。 该器件被构造成从栅电极与栅极绝缘膜的接触区域检测施加到栅电极上的力。 因此，可以从接触区域检测施加在栅电极上的力。 通过使用临时FET结构，可以简化器件和制造工艺。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT