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发明专利
多層レジストプロセス用無機膜形成組成物及びパターン形成方法有权
Title translation: 无机膜形成用组合物及图案形成方法用于多层抗蚀剂工艺

公开(公告)号：JP5938989B2

公开(公告)日：2016-06-22

申请号：JP2012078446

申请日：2012-03-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 高梨和憲 , 滝本嘉夫 , 森隆 , 栗田俊輔 , 元成正之

IPC: G03F7/26 , G03F7/32 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/11

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