-
公开(公告)号：JP6323456B2
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：JP2015536505
申请日：2014-08-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/11 , C09D1/00 , G03F7/091 , H01L21/0276 , H01L21/0332 , H01L21/3065 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31116 , H01L21/31144
-
公开(公告)号：JP2015219246A
公开(公告)日：2015-12-07
申请号：JP2014100016
申请日：2014-05-13
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/26 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 【課題】ナノエッジラフネスを改善すると共に放射線感度及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成でき、ひいては、多層レジストプロセスにおける加工性能に優れるパターン形成方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、基板の上面側に無機膜形成用組成物により無機膜を形成する工程、上記無機膜の上面側に感放射線性樹脂組成物によりレジストパターンを形成する工程、及び上記レジストパターンをマスクとしたドライエッチングにより上記基板にパターンを形成する工程を備え、上記感放射線性樹脂組成物が、環炭素数6〜20の芳香環を有する構造単位を含む重合体及び感放射線性酸発生体を含有することを特徴とするパターン形成方法である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种图案形成方法，通过该图案形成方法可以获得具有改善的纳米边缘粗糙度并且具有优异的辐射敏感性和图案抗倒塌性的抗蚀剂图案，并且可以实现在多层抗蚀剂工艺中优异的加工性能。解决方案： 形成方法包括以下步骤：从在基板的上表面侧形成无机膜的组合物形成无机膜; 在无机膜的上表面侧由辐射敏感性树脂组合物形成抗蚀剂图案; 以及通过使用抗蚀剂图案作为掩模通过干法蚀刻在衬底上形成图案。 辐射敏感性树脂组合物包含含有在环上具有6〜20个碳原子的芳香环的结构单元和辐射敏感性酸发生剂的聚合物。
-
-
公开(公告)号：JP2016173406A
公开(公告)日：2016-09-29
申请号：JP2015052328
申请日：2015-03-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11
Abstract: 【課題】優れたエッチング耐性を発揮しつつ、アルカリ液を用いて除去可能な金属含有膜を形成できる半導体デバイス製造用組成物及び加工基板の製造方法の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、加水分解性基を有する金属化合物、この加水分解物若しくはこれらの組み合わせを含む金属含有化合物と、少なくとも1種の有機化合物とを混合して得られる錯体又はこの錯体を加水分解縮合して得られたものを含有し、上記有機化合物がアルカリ可溶性を有する第1化合物、アルカリ液の作用により分解してアルカリ液に対する溶解度が増大する第2化合物又は酸の作用により分解してアルカリ液に対する溶解度が増大する第3化合物であり、かつ合計2〜4個の−OH、−COOH、−NCO、−NR A R B 又は−COR C −を有する半導体デバイス製造用組成物である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够形成能够通过使用碱性液体除去的含金属膜同时显示出优异的耐蚀刻性的半导体器件的制造组合物和加工衬底的制造方法。 含有含有具有水解性基团的金属化合物或其水解物或其组合的含金属化合物的半导体器件用组合物和通过将至少一种有机化合物或通过水解和缩合获得的有机化合物 复合物，其中有机化合物是具有碱溶性的第一化合物，具有对碱液的溶解性的第二化合物，其通过碱液体的分解而增加，或者对碱液的溶解度增加的第三化合物随酸的作用而增加，并且具有 总共2至4个-OH，-COOH，-NCO，-NRROR或-COR-。选定的图：N 一
-
公开(公告)号：JP6288090B2
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：JP2015528248
申请日：2014-07-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/40 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/3065 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/32 , C09K13/00 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/20 , H01L21/3065 , H01L21/31122
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP6163770B2
公开(公告)日：2017-07-19
申请号：JP2013016155
申请日：2013-01-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: G03F7/0757 , G03F7/0752 , G03F7/094
-
公开(公告)号：JP2015199916A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2015047501
申请日：2015-03-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08G79/14 , G03F7/11 , G03F7/26 , H01L21/027 , C09D185/00
Abstract: 【課題】優れた保存安定性及び揮発抑制性を発揮できる膜形成用組成物及びパターン形成方法の提供。 【解決手段】加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物、前記加水分解性基を有する金属化合物の加水分解縮合物、前記加水分解性基を有する金属化合物と式(1)で表される化合物との縮合物又はこれらの組み合わせである加水分解化合物と、溶媒とを含有する膜形成用組成物であって、前記加水分解性基を有する金属化合物が第3族〜第13族に属する金属元素、又はこれらの組み合わせを含み、前記溶媒がアルコール系有機溶媒と、アルコール性水酸基を有さずかつヘテロ原子含有基を有する非アルコール系有機溶媒と、を含み、全溶媒を基準として、前記アルコール系有機溶媒の含有量が1〜50質量%であり、前記非アルコール系有機溶媒の含有量が50〜99質量%である。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供能够显示优异的储存稳定性和挥发抑制性的成膜组合物，并提供图案形成方法。溶液：成膜组合物包含水解产物和溶剂，水解产物包括 具有可水解基团的金属化合物的水解产物，具有可水解基团的金属化合物的水解缩合物，具有可水解基团的金属化合物的缩合物和由式（1）表示的化合物或其组合。 具有可水解基团的金属化合物包括属于第3至13族的金属元素或它们的组合。 溶剂包括醇类有机溶剂和不含醇羟基但含有杂原子的基团的非醇类有机溶剂。 基于总溶剂，醇系溶剂的含量为1〜50质量％，非醇类溶剂的含量为50〜99质量％。
-
-
公开(公告)号：JP6399083B2
公开(公告)日：2018-10-03
申请号：JP2016507466
申请日：2015-03-03
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/3065 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , G03F7/091 , G03F7/094 , H01L21/0332 , H01L21/0337 , H01L21/31116 , H01L21/31138 , H01L21/31144
-
公开(公告)号：JP6311702B2
公开(公告)日：2018-04-18
申请号：JP2015508171
申请日：2014-02-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/11
CPC classification number: H01L21/3081 , C07F5/00 , C07F5/003 , C07F5/06 , C07F7/28 , C07F9/00 , C07F11/00 , C07F13/00 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/36 , H01L21/0332
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
11
records
(took 0.021 seconds)
