公开(公告)号：JP2015053398A

公开(公告)日：2015-03-19

申请号：JP2013185543

申请日：2013-09-06

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ ,  Jet Co Ltd

Inventor： KUMAGAI AKIRA

IPC: H01L31/04 ,  C23F1/24 ,  H01L21/306

CPC classification number: C23C18/54 ,  C09K13/08 ,  H01L31/02363 ,  Y02E10/50

Abstract: 【課題】シリコン基板表面にテクスチャをより均一に形成することができる太陽電池の製造方法を提供する。【解決手段】金属イオン5を用いたエッチングによりシリコン基板2の表面に多孔質層3を形成する太陽電池1の製造方法において、強酸及び金属イオン5を含有する第1の水溶液に前記シリコン基板2を浸漬し、無電解めっきにより前記金属イオン5を前記シリコン基板2表面に付着させるステップと、フッ化水素酸と過酸化水素水とを含有する第2の水溶液に、前記金属イオン5を表面に付着させた前記シリコン基板2を浸漬し、前記金属イオン5の触媒反応により前記シリコン基板2表面に前記多孔質層3を形成するステップとを備えることを特徴とする。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种可以在硅衬底的表面上更均匀地形成纹理的太阳能电池的制造方法。解决方案：提供一种太阳能电池1的制造方法，其中多孔层3是 通过使用金属离子5进行蚀刻而形成在硅基板2的表面上，其包括：将硅基板2浸渍在含有强酸的第一水溶液和金属离子5中，将金属离子5附着于 硅基板2的表面，通过无电镀; 并且将表面上附着有金属离子5的硅衬底2浸渍在含有氢氟酸和过氧化氢溶液的第二水溶液中，并且通过在硅衬底2的表面上形成多孔层3的步骤 金属离子的催化反应5。

公开(公告)号：JP2013118205A

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：JP2010066456

申请日：2010-03-23

Applicant: Jet Co Ltd ,  株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： FUNAHASHI TOMOMASA

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a processing time by making a cleaning speed of a substrate fast.SOLUTION: A substrate processing apparatus includes an entrance 4a that a rotating substrate W enters, an exit 4b that the rotating substrate exits, processing liquid supply ports 8, 9 and a suction port 10 provided between the entrance 4a and exit 4b, and fluid passages 4c, 4d into which a cleaned area of the substrate other than an outer peripheral part is inserted between the processing liquid supply ports 8, 9 and the suction port 10, and cleans the substrate by circulating a mixed fluid of processing liquids introduced from the processing liquid supply ports 8, 9 and gas sucked in from outside a processing head with negative pressure of the suction port 10 in a process of mixing the processing liquids and gas and sucking the mixed fluid from the suction port 10, one or more processing liquid supply ports being arranged on both sides across the suction port 10.

Abstract translation: 要解决的问题：通过使基板的清洁速度快速地缩短处理时间。 解决方案：基板处理装置包括旋转基板W入口的入口4a，旋转基板出口的出口4b，处理液体供给口8,9和设置在入口4a和出口4b之间的吸入口10， 以及流体通道4c，4d，其中除了外周部分之外的基板的清洁区域被插入到处理液体供给口8,9和吸入口10之间，并且通过循环引入的处理液体的混合流体来清洁基板 在处理液供给口8,9中，在处理液与气体混合，从吸入口10吸入混合流体的过程中，从处理头外侧从吸入口10的负压吸入的气体， 处理液体供应口布置在吸入口10的两侧。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JPWO2011074521A1

公开(公告)日：2013-04-25

申请号：JP2011546105

申请日：2010-12-13

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： 舟橋　倫正 ,  倫正 舟橋 ,  賢二 乙訓 ,  賢二 乙訓 ,  裕樹 江戸 ,  裕樹 江戸 ,  鈴木　秀明 ,  秀明 鈴木

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/422

Abstract: 【課題】基板表面に直接処理液を供給して基板を処理する際に、処理液や、その蒸気が外部に飛散しないことはもちろん、ハウジングの天井面などに処理液や蒸気などが付着しない枚葉式の基板処理装置を提供することである。【解決手段】ハウジング1と、ハウジング1内で処理面の付着物を除去処理する基板3を、その処理面3aをハウジングの底部1bに向けて保持する保持手段4と、保持手段4で保持された基板3の処理面3aに対して処理液を供給する供給手段と、ハウジング1内に気体を取り込むための取り込み口1aと、上記取り込み口1aから取り込んだ気体とともにハウジング1内の処理液の蒸気をハウジングから排出するための排出口1cとを備えた。【選択図】図1

公开(公告)号：JP5111998B2

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：JP2007266889

申请日：2007-10-12

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： 倫正 舟橋 ,  哲也 清水 ,  正記 佐藤 ,  雄二 熊谷 ,  敏明 富澤 ,  将彦 稲堂丸

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

公开(公告)号：JP5079145B2

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：JP2011546105

申请日：2010-12-13

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： 倫正 舟橋 ,  賢二 乙訓 ,  裕樹 江戸 ,  秀明 鈴木

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/422

公开(公告)号：JP2020120010A

公开(公告)日：2020-08-06

申请号：JP2019010344

申请日：2019-01-24

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： 舟橋 倫正 ,  房野 正幸 ,  小見山 昌彦 ,  戸田 貴大 ,  河合 勇治

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302 ,  H01L21/306 ,  H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 【課題】パーティクル等の異物の残留を少なくしながらレジスト膜の高い除去レートを得ることができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 【解決手段】ハウジング12内の回転テーブル14には、処理面S1と回転テーブル14の上面とが所定の間隔で離れ、処理面S1を下向きにした姿勢で基板11が固定される。回転テーブル14と一体に基板11が回転している間に、回転テーブル14の中央部に設けた噴出部16よりオゾンガスを噴出させる。噴出したオゾンガスで処理面S1上のレジスト膜を除去する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2019197814A

公开(公告)日：2019-11-14

申请号：JP2018090994

申请日：2018-05-09

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： 房野 正幸

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 【課題】気泡によるリン酸水溶液の撹拌を簡単な構成で行うことができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】槽本体17に貯留された処理液に基板11を浸漬する。槽本体17の底面17aには、複数の発泡起点部36からなる気泡発生部25が設けられている。発泡起点部36は、表面に処理液の沸騰による気泡の発生の起点となる凹凸が形成されている。槽本体17に加熱された処理液が供給され、各発泡起点部36を起点に沸騰が生じ、その沸騰による気泡が上昇して基板11同士の間を上昇する。この気泡の上昇により、処理液が流動して撹拌される。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2018045975A

公开(公告)日：2018-03-22

申请号：JP2016182168

申请日：2016-09-16

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： 山下 雅俊 ,  太田垣 学 ,  橋本 茂樹 ,  吉尾 英明

IPC: H01M10/04 ,  B23K20/10 ,  B23K31/00 ,  H01M2/26

CPC classification number: H01M2/26 ,  B23K20/10 ,  B23K31/00 ,  H01M10/04

Abstract: 【課題】不良の発生を低減することができる電池の製造方法および電池の製造装置を提供する。 【解決手段】電極12の端部に露出し、互いに重なり合った複数の集電箔14の所定の領域を加圧して、隣接する集電箔14の間の間隔を縮小した圧縮領域16を形成する第1工程と、前記複数の集電箔14の前記圧縮領域16の内側の領域を超音波溶接により接合して、前記複数の集電箔14が一体化された接合領域18を形成する第2工程とを備えることを特徴とする。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP5942065B1

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：JP2015153369

申请日：2015-08-03

Applicant: 株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： 橋本 茂樹 ,  太田垣 学

IPC: G01M3/00 ,  G01M3/20

CPC classification number: G01M3/00 ,  G01M3/20

Abstract: 【課題】気密性に対する検出精度を高めることができるセンサユニット及びこれを用いた気密性検査装置を提供する。 【解決手段】真空チャンバ14内に検査対象のリチウムイオン電池11が収容される。真空チャンバ14の上部に初期排気配管47と検査排気配管51とが接続されている。初期排気配管47を介して真空チャンバ14内を初期排気し検査圧力Peまで下げる。この後、検査排気配管51を介して検査排気を行う。検査排気配管51の途中にセンサユニット16が接続されている。検査排気配管51を通る排気気体は、流入口からセンサユニット16の内部に流入し、内部に設けたノズルによってガスセンサのセンサ面に向かって垂直に流れる。排気気体は、ガスセンサの内部を通って排出口からセンサユニット16の外部に排出される。 【選択図】図5

Abstract translation: 提供一种传感器单元，能够提高使用其的气密性的检测精度和密封性测试装置。 的锂离子电池11将被测试到真空腔室14被容纳。 初始排气管47与检查排气管51连接到真空室14的上部。 通过初始排气管47降低了真空室14的初始排气检查压力Pe。 此后，通过检查排气管51排气检查。 传感器单元16被连接到测试中的排气管51的中间。 通过测试排气管从所述入口到所述传感器单元16的内部51流入的废气，由内部设置的喷嘴垂直流动朝向所述气体传感器的传感器表面。 废气从排气口通过气体传感器到传感器单元16的外侧的内部排出。 点域5

公开(公告)号：JP2013138062A

公开(公告)日：2013-07-11

申请号：JP2011287497

申请日：2011-12-28

Applicant: Jet Co Ltd ,  株式会社ジェイ・イー・ティ

Inventor： KOYAMA YASUYUKI ,  ADACHI TAKAMASA ,  TAKAHASHI AKIRA ,  SHIYOUMORI HIROBUMI

IPC: H01L21/304 ,  B01F15/02 ,  B01F15/04 ,  C11D7/08 ,  C11D7/18 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027

CPC classification number: B01F15/0458 ,  B01F3/088 ,  B01F15/0479 ,  H01L21/67017

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chemical mixer that can supply a chemical mixture to a substrate treating device without degradation over time, and can suppress variations in a mixing ratio between sulfuric acid and hydrogen peroxide to produce a chemical mixture that maintains a constant mixing ratio when producing a chemical mixture.SOLUTION: In a chemical mixer 10, a sulfuric acid flow rate is stabilized by pressure feeding sulfuric acid by pressure feeding means 35, and also a hydrogen peroxide flow rate is stabilized by injecting hydrogen peroxide with a supply rate lower than that of the sulfuric acid using a metering pump 38 in a fixed small amount. The mixture is produced from the sulfuric acid and the hydrogen peroxide in an interflow part 105, and the chemical mixture is supplied to a substrate treating device 1 as is, directly after production. Thus, the chemical mixture can be supplied to the substrate treating device 1 without degradation over time, and variations in the mixing ratio between the sulfuric acid and the hydrogen peroxide can be suppressed when producing the chemical mixture, allowing production of a chemical mixture in which a fixed mixing ratio is maintained.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种化学混合器，其可以将化学混合物提供给基板处理装置，而不会随时间劣化，并且可以抑制硫酸和过氧化氢之间的混合比的变化，以产生保持恒定混合的化学混合物 制造化学混合物时的比例。解决方案：在化学混合器10中，通过加压装置35加压硫酸来稳定硫酸流量，并且通过以供给速率注入过氧化氢还可以稳定过氧化氢流量 低于使用计量泵38的硫酸的固定量。 该混合物由相互流动部105中的硫酸和过氧化氢制成，并且将化学混合物直接在制造后供给到基板处理装置1。 因此，可以将化学混合物供给到基板处理装置1而不会随时间劣化，并且当生产化学混合物时可以抑制硫酸和过氧化氢之间的混合比的变化，从而可以生产其中 保持固定的混合比。