公开(公告)号：JP6982140B2

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：JP2020116875

申请日：2020-07-07

申请人： ヴェンタナ メディカル システムズ, インク.

发明人： グロル, ヘニング ,  カーナグ, ケイシー エー. ,  ウェイドナー, チャールズ エイチ. ,  デュラン, エドワード イー. ,  ウィアー, ケネス

IPC分类号： C11D7/26 ,  C11D7/08 ,  C11D7/18 ,  C11D7/06 ,  C11D7/32 ,  C11D7/12 ,  C11D7/16 ,  G01N1/31 ,  G01N1/30

公开(公告)号：JP2021192429A

公开(公告)日：2021-12-16

申请号：JP2021126732

申请日：2021-08-02

申请人： インテグリス・インコーポレーテッド

发明人： ホワイト, ダニエラ ,  パーソン, トーマス ,  ホワイト, マイケル ,  クーパー, エマニュエル アイ. ,  ダス, アタヌ

IPC分类号： C11D17/08 ,  C11D3/04 ,  C11D7/06 ,  C11D7/32 ,  C11D7/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/36 ,  C11D7/22 ,  H01L21/304

摘要： 【課題】化学機械研磨(CMP)後、低誘電率材料、窒化シリコン材料又はタングステン含有材料を損なわずに、マイクロ電子デバイスの表面からのセリア粒子及びCMP汚染物質を効果的に除去する方法及び水性除去組成物を提供する。 【解決手段】マイクロ電子デバイスを、少なくとも1つのpH調整剤と、少なくとも1つの還元剤と、少なくとも1つの有機添加剤と、水と、任意選択的に少なくとも1つの錯化剤と、任意選択的に少なくとも1つの酸素捕捉剤とを含む水性除去組成物と接触させ、マイクロ電子デバイスから、セリア粒子とCMP汚染物質とを除去する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021181572A

公开(公告)日：2021-11-25

申请号：JP2021119729

申请日：2021-07-20

申请人： フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド

发明人： スギシマ、 ヤスオ ,  パク、 ギヨン ,  ドリー、 トーマス

IPC分类号： C11D7/08 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  H01L21/304 ,  B08B3/04 ,  B08B3/12 ,  C11D7/50

摘要： 【課題】多工程製造プロセスにおける中間工程として、主に半導体基板から残渣(例えば、プラズマエッチング及び/又はプラズマアッシング残渣)及び/又は金属酸化物を除去するのに有用な非腐食性洗浄組成物を提供する。 【解決手段】a)組成物の0.05重量%〜1重量%の量である、HF; b)組成物の少なくとも95重量%の量である、少なくとも1種の有機溶媒; c)トリアゾール、芳香族無水物、及びこれらの組み合わせからなる群より選択される少なくとも1種の腐食防止剤であって、組成物の0.01重量%〜1重量%の量である、腐食防止剤;並びに d)組成物の0.28重量%〜2重量%の量である、水 を含む洗浄組成物とする。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6842816B2

公开(公告)日：2021-03-17

申请号：JP2016144823

申请日：2016-07-22

申请人： 松村石油株式会社

发明人： 岡田 隆 ,  山川 英二

IPC分类号： C11D7/10 ,  C11D7/08 ,  C11D17/08 ,  C11D17/06 ,  C09K13/04 ,  C09K13/08 ,  C23G1/08

公开(公告)号：JP6839726B2

公开(公告)日：2021-03-10

申请号：JP2019039331

申请日：2019-03-05

申请人： エスケイシー・カンパニー・リミテッド ,  SKC CO., LTD.

发明人： キム・ビョンス ,  チン・ギュアン ,  オ・ジュンロク

IPC分类号： H01L21/306 ,  C11D7/26 ,  C11D7/08 ,  C11D7/50 ,  H01L21/304

公开(公告)号：JPWO2019167970A1

公开(公告)日：2021-03-04

申请号：JP2019007408

申请日：2019-02-27

申请人： 三菱瓦斯化学株式会社

发明人： 尾家 俊行 ,  堀田 明伸 ,  山田 健二 ,  菊永 孝裕

IPC分类号： C11D7/10 ,  C11D7/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/22 ,  H01L21/304

摘要： 本発明は、半導体集積回路の製造工程においてアルミナのダメージを抑制しながら、半導体集積回路の表面に存在するドライエッチング残渣を除去可能な組成物、およびアルミナを有する半導体基板の洗浄方法、さらにはアルミナ層を有する半導体基板の製造方法に関する。本発明の組成物は、バリウム化合物(A)を0.00005〜1質量%及びフッ素化合物(B)を0.01〜20質量%で含有し、pHが2.5〜8.0の範囲にあることを特徴とする。

公开(公告)号：JP6832365B2

公开(公告)日：2021-02-24

申请号：JP2018550120

申请日：2017-10-24

申请人： 東京応化工業株式会社

发明人： 後藤 竜生 ,  関 健司

IPC分类号： C11D7/08 ,  C11D7/50 ,  C11D7/22 ,  C11D17/08 ,  H01L21/304

公开(公告)号：JP2021025057A

公开(公告)日：2021-02-22

申请号：JP2020157819

申请日：2020-09-18

申请人： 栗木 恭治

发明人： 栗木 恭治

IPC分类号： C11D17/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36 ,  C11D7/08 ,  C11D7/32

摘要： 【課題】 酢酸のような不快な刺激臭が無く、かつ必ずしも排液の中和処理を必要としない透析機器用洗浄剤およびそれを用いた透析機器内のカルシウムスケールの除去方法を提供すること。 【解決手段】 本発明の透析機器用洗浄剤は、透析液を由来とするカルシウムスケールを除去するためのものであり、キレート剤、pH調整剤、および水を水溶液の形態で含有する。当該洗浄剤において、キレート剤は、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、およびジエチレントリアミン五酢酸、ならびにそれらの塩からなる群から選択される少なくとも1種の化合物であり、pHは4.8〜9.2である。ただしプロテアーゼは含有しない。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6797448B1

公开(公告)日：2020-12-09

申请号：JP2020074967

申请日：2020-04-20

申请人： 株式会社カネコ化学

发明人： 小柳津 和音 ,  金子 旻又 ,  嶋田 清

IPC分类号： C11D1/22 ,  C11D7/30 ,  C11D7/08 ,  C09D9/00 ,  C09D201/00 ,  C09D7/20 ,  C09D7/43 ,  C11D3/24

摘要： 【課題】低毒性であり、安全性及び耐久性に優れ、合成樹脂の溶解性に優れた、合成樹脂の溶解剤を提供すること。 【解決手段】本発明は、(a)(E)−1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペン及び(Z)−1−クロロ−2,3,3−トリフルオロプロペンからなる群より選択される1種以上と、(b)アルキルベンゼンスルホン酸及びその塩からなる群より選択される1種以上と、(c)硫酸と、(d)任意成分としてのシス−1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンとを含み、(a)、(b)、(c)及び(d)の合計100重量部に対して、(a)の含有量が0重量部超99.5重量部以下であり、(b)及び(c)の合計の含有量が0.5重量部以上60重量部以下であり、(d)の含有量が0重量部以上99.5重量部未満であるが、但し、(a)及び(d)の合計の含有量が40重量部以上99.5重量部以下である、合成樹脂の溶解剤に関する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020180082A

公开(公告)日：2020-11-05

申请号：JP2019084475

申请日：2019-04-25

申请人： セッツ株式会社 ,  公立大学法人大阪

发明人： 西谷 巧太 ,  國武 広一郎 ,  宮崎 祥典 ,  勢戸 祥介

IPC分类号： A01N65/00 ,  A01N61/00 ,  A01P1/00 ,  A01N25/02 ,  C11D7/26 ,  C11D7/44 ,  C11D7/08 ,  A01N65/08 ,  A01N37/36 ,  A01N37/06 ,  A01N59/26 ,  A01N43/16

摘要： 【課題】植物由来であり、ノロウイルスに対して優れた感染抑制効果を発揮するノロウイルス感染抑制剤を提供する。 【解決手段】プロアントシアニジンを含むブドウ種子抽出物を0.001質量%以上、酸を0.06質量%以上含む、ノロウイルス感染抑制剤。 【選択図】なし