研磨装置及び研磨方法
    22.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021146498A

    公开(公告)日:2021-09-27

    申请号:JP2021002919

    申请日:2021-01-12

    Abstract: 【課題】安定したスラリーの供給を行い、かつ、研磨液の使用量の削減が可能であり、かつ、使用済みの研磨液及び副生成物が、基板の品質及び/又は研磨レートに与える影響を抑制ないし防止可能な研磨液供給装置を提供すること。 【解決手段】研磨面を有する研磨パッド使用して対象物の研磨を行う研磨装置であって、研磨液供給装置41と、前記研磨面に対して水平移動可能なアーム60と、前記アームを昇降する昇降機構70と、前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記研磨液供給装置を前記研磨パッドの前記研磨面に追従させる追従機構45と、前記アーム及び前記研磨液供給装置に連結され、前記昇降機構による前記アームの昇降時において前記研磨液供給装置を吊り下げる吊下機構46と、を備える研磨装置。 【選択図】図2

    ポンプ装置
    25.
    发明专利
    ポンプ装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2021139311A

    公开(公告)日:2021-09-16

    申请号:JP2020035953

    申请日:2020-03-03

    Abstract: 【課題】メカニカルシールなどの軸封装置を不要とするポンプ装置を提供する。 【解決手段】ポンプ装置は、水密構造を有する電動機1と、電動機1に連結された回転軸3と、回転軸3に固定された羽根車5と、電動機1、回転軸3、および羽根車5を内部に収容するポンプケーシング7と、ポンプケーシング7に接続された吸い込み口10および吐き出し口11を備え、電動機1および羽根車5は、吸い込み口10と吐き出し口11の間に位置している。 【選択図】図1

    研磨ヘッドシステムおよび研磨装置

    公开(公告)号:JP2021137908A

    公开(公告)日:2021-09-16

    申请号:JP2020036801

    申请日:2020-03-04

    Abstract: 【課題】ウェーハ、基板、パネルなどのワークピースの研磨プロファイルを精密に制御することができる研磨ヘッドシステムを提供する。 【解決手段】研磨ヘッドシステムは、磁気粘弾性エラストマーシート58と、磁気粘弾性エラストマーシート58に対向する複数の磁場印加装置60と、複数の磁場印加装置60に電気的に接続され、電流を複数の磁場印加装置60に独立に供給するように構成された電流供給装置62を備えている。 【選択図】図2

    回転機械の防振システム、ポンプ設備

    公开(公告)号:JP2021134824A

    公开(公告)日:2021-09-13

    申请号:JP2020029850

    申请日:2020-02-25

    Abstract: 【課題】防振性能を確保しつつ、弾性材のへたりによる弾性支持部の変形および回転機械の芯ずれを防止する。 【解決手段】防振システム50は、減速機20を支持する支持架台51と、支持架台51を支持する複数の防振装置60と、を備え、複数の防振装置60の各装置が、支持架台51を支持する弾性支持部、及び、支持架台51を支持し、弾性支持部の縦方向のたわみ量を一定量までに制限すると共に、支持架台51の横振れに応じて横滑り可能な滑り支持部のうち、少なくともいずれか一方を備える。 【選択図】図2

Patent Agency Ranking