Active matrix field emission pixel and active matrix field emission display

    公开(公告)号:JP2009518680A

    公开(公告)日:2009-05-07

    申请号:JP2008544241

    申请日:2006-11-27

    CPC classification number: H01J1/304 G09G3/22 H01J29/04 H01J31/127 H01J2201/319

    Abstract: 本発明は、電流を基盤として駆動することができ、薄膜トランジスタによる漏洩電流を防止することができるアクティブマトリックス電界放出ディスプレーを提供する。 本発明の電界放出ディスプレーは、蛍光体の陰極発光が発生する発光素子部と、前記各発光素子部を駆動するための薄膜トランジスタ部と、を含む多数個の単位ピクセル;前記各単位ピクセルにスキャン信号を印加するための電流ソース;及び前記各単位ピクセルにデータ信号を印加するための電圧ソースを含むことを特徴とする。 ここで、前記電流ソースのオン電流(on−current)は与えられた書き取り時間(writing time)内にスキャン行の負荷抵抗(resistance)及び容量(capacitance)が耐えられるほど充分に大きくて、前記電流ソースのオフ電流(off−current)は各ピクセルで電子放出が無視きるほど低い値を有する。 また、前記電圧ソース(voltage source)で印加されるデータ信号のパルス振幅(amplitude)またはパルス幅を変化させてディスプレーの階調を表現する。

    Electron emission device and method of manufacturing same
    30.
    发明专利
    Electron emission device and method of manufacturing same 审中-公开
    电子发射装置及其制造方法

    公开(公告)号:JP2007194087A

    公开(公告)日:2007-08-02

    申请号:JP2006011663

    申请日:2006-01-19

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron emission device high in electron emission efficiency. SOLUTION: The device 100 includes: a SiC substrate 11 having a region 17 with its surface or inside exposed, and having a (0001) surface as a principal surface; an electron emission layer 12 formed on a C surface of the substrate 11 and formed out of carbon; and an electrode 18 formed in the region 17. The electrode 18 may be formed on the Si surface of the substrate 11. The electron emission layer 12 is formed in a part of the C surface of the substrate 11, and the electrode 18 may be formed in a region of the C surface of the substrate 11 where the electron emission layer 12 is not formed. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题:提供高电子发射效率的电子发射装置。 解决方案:装置100包括:SiC衬底11,其具有其表面或内部暴露的区域17,并且具有(0001)表面作为主表面; 形成在基板11的C表面上并由碳形成的电子发射层12; 以及形成在区域17中的电极18.电极18可以形成在基板11的Si表面上。电子发射层12形成在基板11的C表面的一部分中,电极18可以是 形成在不形成电子发射层12的基板11的C表面的区域中。 版权所有(C)2007,JPO&INPIT

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