KR102229215B1 - Machine for Teflon Coating By Sequentially Applying Heat To Bread Pan And Method Thereof

    公开(公告)号:KR102229215B1

    公开(公告)日:2021-03-17

    申请号:KR1020200126606A

    申请日:2020-09-29

    Inventor: 김창진

    CPC classification number: B05D3/0254 A21B3/13 B05D1/02

    Abstract: 본 발명은 빵틀(10); 상기 빵틀(10)이 움직이지 않도록 고정되는 이동 플레이트(30); 상기 빵틀(10)이 이동 플레이트(30)에 고정되게 하는 고정부(20); 상기 이동 플레이트(30)를 이동시키는 벨트(40); 상기 빵틀(10)의 이물질을 제거하는 이물질 제거부(50); 상기 이물질이 제거된 빵틀(10)에 테프론 코팅액을 분사하는 테프론 코팅액 분사부(60); 및 상기 테프론 코팅액이 분사된 빵틀(10)에 고온을 가하는 고온 가열부(70)를 포함하고, 상기 고온 가열부(70)은 동일한 형상의 제1 내지 제9의 가열 셀(72a, 72b, 72c, 72d, 72e, 72f, 72g, 72h, 72i)를 포함하는 빵틀에 순차적인 열을 가하여 테프론 코팅을 하기 위한 장치에 관한 것이다.

    造粒体、並びに、撥水層及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2021002444A

    公开(公告)日:2021-01-07

    申请号:JP2019114624

    申请日:2019-06-20

    Abstract: 【課題】小細孔と大細孔の分布の制御が容易であり、かつ、容易に粉体塗工が可能な造粒体、並びに、これを用いた撥水層及びその製造方法を提供すること。 【解決手段】造粒体10は、球形化黒鉛からなる第1粒子12と、第1粒子12よりも粒径が小さい微粒状のカーボンを含む第2粒子14と、撥水性高分子14とを備えている。造粒体10は、第1粒子12の表面に、撥水性高分子16を介して第2粒子14が結合しているものからなる。このような造粒体を含む撥水層は、造粒体を調製し、粉体塗装装置を用いて基材表面に造粒体を塗工し、得られた塗膜を熱処理することにより得られる。 【選択図】図1

    温度調節された自動車ボディ用シーラントを吐出するための方法および装置

    公开(公告)号:JP2021000596A

    公开(公告)日:2021-01-07

    申请号:JP2019114773

    申请日:2019-06-20

    Abstract: 【課題】本発明は、温度調節された自動車ボディ用シーラントを吐出するための方法および装置を提供する。 【解決手段】方法は、シーラントを圧送するように動作可能なポンプと、シーラントを受け入れ、シーラントを温度調節するように動作可能であり、細長い中央本体、および第1の端部から第2の端部まで延在する細長い流路を有するマニホールドとを備える吐出システムを設ける段階を含む。中央本体の端部に第1の端部キャップおよび第2の端部キャップが着脱可能に接続されている。サーマルユニットが細長い中央本体と熱的に連通しており、細長い中央本体を加熱または冷却する。ディスペンサがマニホールドと流体連通しており、温度調節されたシーラントを吐出する。温度調節されたシーラントを供給するよう、マニホールドを通してシーラントが圧送され、加熱または冷却される。温度調節されたシーラントをディスペンサから吐出している。 【選択図】図1

    成膜方法
    40.
    发明专利
    成膜方法 审中-公开

    公开(公告)号:JP2020195975A

    公开(公告)日:2020-12-10

    申请号:JP2019105115

    申请日:2019-06-05

    Abstract: 【課題】成膜品質を落とすことなく、所望の膜厚を有する薄膜を基板上に成膜することができる成膜方法を提供する。 【解決手段】ステップS1で、上限温度TH、下限温度TL及び設定膜厚SFを含む処理パラメータを設定する。ステップS3で基板10の基板温度T10が上限温度THとなるように第iの加熱処理を実行する。ステップS4で基板温度T10が下限温度TL以上の基板温度条件を満足するように第iのミスト噴射処理を実行する。ステップS3及びステップS4の処理は、ステップS5で薄膜が設定膜厚SFに達したと判断されるまで、ステップS6でiの値を増加させながら繰り返し実行される。 【選択図】図4

Patent Agency Ranking