公开(公告)号：JPS50142543A

公开(公告)日：1975-11-17

申请号：JP5048774

申请日：1974-05-07

IPC分类号： C07D311/92 ,  B01J23/00 ,  B01J23/04 ,  B01J23/14 ,  B01J23/20 ,  B01J23/26 ,  B01J23/28 ,  B01J23/72 ,  B01J23/74 ,  B01J27/06 ,  B01J27/20 ,  B01J27/24 ,  B01J31/00 ,  C07B61/00 ,  C07C51/00 ,  C07C51/31 ,  C07C63/38 ,  C07C63/72 ,  C07C67/00 ,  C07C301/00 ,  C07C303/22 ,  C07C309/58

公开(公告)号：JPS50131943A

公开(公告)日：1975-10-18

申请号：JP4115874

申请日：1974-04-11

IPC分类号： C07C309/58 ,  C07C67/00 ,  C07C301/00

公开(公告)号：JPS50105642A

公开(公告)日：1975-08-20

申请号：JP14506974

申请日：1974-12-19

IPC分类号： C07D263/56 ,  C07C51/00 ,  C07C57/50 ,  C07C63/34 ,  C07C67/00 ,  C07C69/76 ,  C07C213/00 ,  C07C219/14 ,  C07C253/00 ,  C07C255/54 ,  C07C255/62 ,  C07C301/00 ,  C07C303/22 ,  C07C303/26 ,  C07C303/30 ,  C07C303/32 ,  C07C303/40 ,  C07C309/38 ,  C07C309/58 ,  C09B57/00 ,  D06L3/12 ,  D06L4/60

公开(公告)号：JPS5013252B2

公开(公告)日：1975-05-19

申请号：JP7256072

申请日：1972-07-21

IPC分类号： C07C309/58 ,  C07C67/00 ,  C07C301/00 ,  C07C303/32

公开(公告)号：JPS5041833A

公开(公告)日：1975-04-16

申请号：JP8505574

申请日：1974-07-24

IPC分类号： C07C47/52 ,  C07C45/00 ,  C07C45/28 ,  C07C45/80 ,  C07C45/82 ,  C07C45/85 ,  C07C51/00 ,  C07C51/16 ,  C07C63/04 ,  C07C65/21 ,  C07C67/00 ,  C07C301/00 ,  C07C303/22 ,  C07C309/58

公开(公告)号：JPS4941337A

公开(公告)日：1974-04-18

申请号：JP5574373

申请日：1973-05-21

IPC分类号： C08G63/00 ,  C07C20060101 ,  C07C67/00 ,  C07C301/00 ,  C07C303/32 ,  C07C309/57 ,  C07C309/58 ,  C08G63/68 ,  C08G63/688

公开(公告)号：JPS4880539A

公开(公告)日：1973-10-29

申请号：JP1237972

申请日：1972-02-03

IPC分类号： C07C309/58 ,  C07C67/00 ,  C07C301/00 ,  C07C303/06 ,  C07C303/22 ,  C07C303/32

公开(公告)号：JPS4875512A

公开(公告)日：1973-10-11

申请号：JP542572

申请日：1972-01-10

IPC分类号： C07C67/08 ,  B01J23/00 ,  B01J27/00 ,  C07B61/00 ,  C07C67/00 ,  C07C69/34 ,  C07C69/80 ,  C07C301/00 ,  C07C303/32 ,  C07C309/58

公开(公告)号：JP2021020899A

公开(公告)日：2021-02-18

申请号：JP2020126709

申请日：2020-07-27

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 安立 由香子 ,  山口 訓史 ,  市川 幸司

IPC分类号： C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D333/52 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07C309/58

摘要： 【課題】良好なパターン倒れ耐性(PCM)でレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。 [式中、L 1 は、置換基を有してもよい炭化水素基を表し、該基に含まれる−CH 2 −は、−O−、−S−、−SO 2 −又は−CO−に置き換わっていてもよい。X 1 は、*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は*−O−を表す。R 1 は、置換基を有してもよい炭化水素基を表し、該基に含まれる−CH 2 −は、−O−、−S−、−SO 2 −又は−CO−に置き換わっていてもよい。m1は1〜3の整数を表す。R 2 は、ハロゲン原子又はアルキル基を表す。m2は0〜4の整数を表す。Z + は、有機カチオンを表す。] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021020897A

公开(公告)日：2021-02-18

申请号：JP2020126707

申请日：2020-07-27

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 安立 由香子 ,  藤田 真吾 ,  市川 幸司

IPC分类号： C07C381/12 ,  C07D321/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07C309/58

摘要： 【課題】良好なCD均一性(CDU)を有するレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物の提供。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物。 [式中、m1は1〜3の整数;R 1 は環状炭化水素基(該環状炭化水素基は置換基を有してもよい。)を含む炭化水素基を表す;R 2 はハロゲン原子又はアルキル基;m2は0〜4の整数;Z + はカチオンを表す。] 【選択図】なし