公开(公告)号：JP6313397B2

公开(公告)日：2018-04-18

申请号：JP2016204736

申请日：2016-10-18

申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： アーヴィンダー・カー ,  コン・リュー ,  ケビン・ラウエル ,  ゲールハルト・ポーラー ,  ミンキ・リー

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/40 ,  G03F7/20 ,  C07C309/58 ,  C09K3/00

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/01 ,  C07C309/28 ,  C07C309/33 ,  C07C309/39 ,  C07C309/40 ,  C07C309/58 ,  C07C2603/74 ,  C07D213/61 ,  C07D239/26 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/327 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  G03F7/405

公开(公告)号：JP2018002708A

公开(公告)日：2018-01-11

申请号：JP2017112575

申请日：2017-06-07

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 吉田 勲 ,  嶋田 雅彦 ,  市川 幸司

IPC分类号： C07C381/12 ,  C07C303/22 ,  C09K3/00 ,  C08F12/30 ,  C08F20/28 ,  C08F20/30 ,  C08F20/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C309/58

摘要： 【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造することができる化合物、酸発生剤、重合体及びレジスト組成物の提供。 【解決手段】式(I)で表される化合物。 [式中、Q 1 及びQ 2 は、それぞれペルフルオロアルキル基等;R 1 及びR 2 は、それぞれペルフルオロアルキル基等;zは、0〜6のいずれかの整数;X 1 は、*1−CO−O−、*1−O−CO−、−O−CO−O−又は−O−;A 1 は、置換基を有していてもよい炭化水素基;X 2 は、*2−CO−O−、−O−CO−O−又は−O−;R 3 及びR 4 は、それぞれ飽和炭化水素基等;X 3 は、特定基;R 5 は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基等;Z + は有機カチオンを表す。] 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2017008068A

公开(公告)日：2017-01-12

申请号：JP2016148764

申请日：2016-07-28

申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC

发明人： イマッド・アカッド ,  ミンキ・リー ,  チェン−バイ・スー ,  ダヤン・ワン ,  コン・リュウ ,  ジュン・ソク・オー ,  ヤマダ,シンタロウ

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C09K3/00 ,  C07C381/12 ,  G03F7/20 ,  C07C309/58

CPC分类号： C07C381/12 ,  C07C303/32 ,  C07C309/04 ,  C07C309/06 ,  C07C309/08 ,  C07C309/12 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C309/20 ,  C07C309/23 ,  C07C309/24 ,  C07C63/72 ,  C08F220/22 ,  C08F228/02 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/38 ,  C07C2102/42 ,  G03F7/2041

摘要： 【課題】新規の光酸発生剤化合物およびこの化合物を含むサブ−300nmおよびサブ−200nm放射線のような短波長放射線で像を形成するフォトレジスト組成物並びに、塩基開裂性基を含む前記光酸発生剤化合物を提供。 【解決手段】下記式に代表される光酸発生剤化合物。 【選択図】なし

摘要翻译： 用于成像短波长辐射如子-300nm和亚-200nm辐射的新型光致抗蚀剂组合物包含光酸产生剂化合物和化合物以及光酸产生含碱可裂解基团 提供一个剂量的化合物。 由下式表示的光致酸产生剂化合物。 系统技术领域

公开(公告)号：JP2015187175A

公开(公告)日：2015-10-29

申请号：JP2015143804

申请日：2015-07-21

申请人： シェブロン・オロナイト・カンパニー・エルエルシー

发明人： ピン・ワン ,  ユージン・スパラ

IPC分类号： C10M159/24 ,  C07C309/58 ,  C10N10/04 ,  C10N20/00 ,  C10N30/12 ,  C10N40/25 ,  C07C303/32

CPC分类号： C10M159/24 ,  C10M2203/1025 ,  C10M2207/026 ,  C10M2207/028 ,  C10M2207/046 ,  C10M2215/064 ,  C10M2215/28 ,  C10M2219/044 ,  C10M2223/045 ,  C10N2210/06 ,  C10N2220/021 ,  C10N2220/027 ,  C10N2220/028 ,  C10N2230/12 ,  C10N2230/52 ,  C10N2270/00

摘要： 【課題】高過塩基性マグネシウム・アルキルトルエンスルホネートを製造する。 【解決手段】以下の工程を含む方法で製造する:(A)少なくとも一種の油溶性アルキルトルエンスルホン酸および少なくとも一種のマグネシウム供給源を、(i)少なくとも一種の炭化水素溶媒および(ii)少なくとも一種の低分子量アルコールを含む混合物の存在下で反応させる工程;(B)工程(A)の反応生成物を少なくとも一種の促進剤および水と接触させる工程;(C)工程(B)の生成物を過塩基化酸と接触させる工程;そして(D)工程(C)の反応生成物を、上記炭化水素溶媒、上記低分子量アルコール、および水の留出温度よりも高い温度まで加熱し、上記炭化水素溶媒、上記低分子量アルコール、および水を留出させる工程。 【選択図】なし

摘要翻译： 要解决的问题：产生高度高碱性的烷基甲烷磺酸镁。溶液：包括以下步骤的方法用于生产：（A）使至少一种油溶性烷基甲苯磺酸和至少一种镁源在 存在混合物，其包含（i）至少一种烃溶剂和（ii）至少一种低分子量醇; （B）使（A）的反应产物与至少一种助催化剂和水接触; （C）使（B）的产物与高碱性酸接触; 和（D）将（C）的反应产物加热到高于烃溶剂，低分子量醇和水的蒸馏温度的温度，以蒸馏烃溶剂，低分子量醇和水。

公开(公告)号：JP5689131B2

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：JP2012535298

申请日：2010-10-19

申请人： フューチャーフューエル ケミカル カンパニーFuturefuel Chemical Company ,  フューチャーフューエル ケミカル カンパニーFuturefuel Chemical Company

发明人： オスター、ティモシー、エー． ,  コールマン、マイケル、トッド

IPC分类号： C07C303/32 ,  C07C303/44 ,  C07C309/58

CPC分类号： C07C303/32 ,  C07C309/58

公开(公告)号：JP2011116746A

公开(公告)日：2011-06-16

申请号：JP2010230577

申请日：2010-10-13

申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd ,  住友化学株式会社

发明人： ICHIKAWA KOJI ,  YOSHIDA ISAO ,  HATA MITSUHIRO

IPC分类号： C07C309/58 ,  C07C309/59 ,  C07C381/12 ,  C07D333/46 ,  C09K3/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which can form resist patterns having excellent resolution and line edge roughness, and to provide a salt useful for the resist composition. SOLUTION: There are provided the salt represented by formula (B1) [wherein, Q 1 and Q 2 are each independently F or 1C to 6C perfluoroalkyl; L 1 is a single bond, or a linear or branched divalent 1C to 17C saturated aliphatic hydrocarbon group; Y 1 is a group represented by formula (B2) which may have one or more substituents; Z + is an organic cation], and the resist composition containing the salt represented by formula (B1) as an acid-generating agent. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供能够形成具有优异的分辨率和线边缘粗糙度的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物，并提供可用于抗蚀剂组合物的盐。 提供由式（B1）表示的盐[其中，Q 1 和Q 2 各自独立地为F或1C至6C全氟烷基; L 1 是单键或直链或支链二价1C至17C饱和脂族烃基; Y（SP）1是由式（B2）表示的基团，其可以具有一个或多个取代基; Z + 是有机阳离子]，和含有式（B1）表示的盐作为酸发生剂的抗蚀剂组合物。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4491628B2

公开(公告)日：2010-06-30

申请号：JP2003382264

申请日：2003-11-12

申请人： 小西化学工業株式会社

发明人： 隆行 北原 ,  栄治 尾形 ,  典男 柳瀬

IPC分类号： C07C303/32 ,  C07C309/58

公开(公告)号：JP4261650B2

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：JP33027298

申请日：1998-11-06

申请人： ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー

发明人： カール・ハインツ・ノイマン ,  ヘルムート・フイーゲ

IPC分类号： C07C309/58 ,  C07C303/22

CPC分类号： C07C303/22 ,  C07C309/58

公开(公告)号：JP2005531639A

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：JP2004518077

申请日：2003-06-30

申请人： ファルマシア・アンド・アップジョン・カンパニー・エルエルシー

发明人： ウィクニエンスキ，ナンシー・アン ,  ケリー，ロバート・シー ,  ファンク，リー・エイ ,  フィンゼル，バリー・シー ,  レディング，マシュー・ティー

IPC分类号： A61K45/00 ,  A61K31/185 ,  A61K31/192 ,  A61K31/196 ,  A61K31/275 ,  A61K31/277 ,  A61K31/385 ,  A61K31/455 ,  A61K31/4965 ,  A61K31/5375 ,  A61K38/21 ,  A61P1/16 ,  A61P31/12 ,  A61P31/14 ,  A61P43/00 ,  C07C229/58 ,  C07C233/51 ,  C07C233/62 ,  C07C233/77 ,  C07C233/80 ,  C07C233/87 ,  C07C235/50 ,  C07C237/20 ,  C07C255/58 ,  C07C255/60 ,  C07C275/24 ,  C07C279/14 ,  C07C309/58 ,  C07C309/59 ,  C07C311/21 ,  C07C317/36 ,  C07C317/48 ,  C07C323/36 ,  C07C323/62 ,  C07C323/63 ,  C07D207/32 ,  C07D207/335 ,  C07D209/16 ,  C07D211/58 ,  C07D213/38 ,  C07D213/82 ,  C07D239/54 ,  C07D241/24 ,  C07D257/04 ,  C07D295/155 ,  C07D295/20 ,  C07D295/215 ,  C07D307/52 ,  C07D333/20 ,  C07D333/24 ,  C07D339/08

CPC分类号： C07D207/335 ,  C07C229/58 ,  C07C233/51 ,  C07C233/62 ,  C07C233/80 ,  C07C233/87 ,  C07C255/58 ,  C07C275/24 ,  C07C279/14 ,  C07C309/59 ,  C07C317/36 ,  C07C317/48 ,  C07C323/63 ,  C07C2601/02 ,  C07C2601/10 ,  C07C2601/14 ,  C07C2601/16 ,  C07D209/16 ,  C07D211/58 ,  C07D213/38 ,  C07D239/54 ,  C07D257/04 ,  C07D295/155 ,  C07D295/215 ,  C07D307/52 ,  C07D333/20 ,  C07D333/24

摘要： 本発明は、ウイルス感染及び付随する疾病、特にＨＣＶ感染及び付随する疾病を治療するために有用である式Ｉの化合物、組成物並びに方法を提供する。
【化１】

公开(公告)号：JP2005015500A

公开(公告)日：2005-01-20

申请号：JP2003125070

申请日：2003-04-30

申请人： Sanyo Chem Ind Ltd ,  三洋化成工業株式会社

发明人： ISHIDA HIROTAKA ,  NAKAYAMA HIROMITSU ,  NAKAGAWA MASAO

IPC分类号： C07C309/58 ,  C08G18/38 ,  C08G18/65 ,  D01F6/70

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of an unsatisfactory level of the resistance to hydrolysis of a polyurethane resin for practical purposes in spite of its good dyeability although heretofore it is known that use of a high-molecular weight polyol composed of a sulfonate-containing polyester polyol imparts dyeability, hygroscopicity and the like to the polyurethane resin. SOLUTION: The polyurethane-forming polyol component comprises an anionic diol (A1). An anionic diol composition is composed of the anionic diol (A1), another active hydrogen atom-containing compound (A2) and/or a compounding component (A3) selected from the group consisting of an inert solvent (A31) and an additive (A32), and does not contain >85 mol% (A2) based on the total number of moles of (A1) and (A2). COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

摘要翻译： 解决问题：尽管迄今为止，尽管迄今为止，尽管迄今为止，为了解决聚氨酯树脂的耐水解性不能令人满意的问题，尽管迄今为止，已知使用由以下组成的高分子量多元醇 含有磺酸酯的聚酯多元醇赋予了聚氨酯树脂的染色性，吸湿性等。 解决方案：聚氨酯形成多元醇组分包含阴离子二醇（A1）。 阴离子二醇组合物由阴离子二醇（A1），含有活性氢原子的化合物（A2）和/或选自惰性溶剂（A31）和添加剂（A32）的配混组分（A3）组成 ），并且基于（A1）和（A2）的总摩尔数不含有> 85摩尔％（A2）。 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI