公开(公告)号：JPWO2019244468A1

公开(公告)日：2021-07-26

申请号：JP2019017069

申请日：2019-04-22

Applicant: 国立研究開発法人産業技術総合研究所

Inventor： 小椋 俊彦

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/22 ,  G01N27/02

Abstract: 試料をそのままの状態で高分解能に観察できる画像形成方法の提供。 絶縁性薄膜の第1主面と対向電極との間に試料を配置する配置ステップと、対向電極に交流電位信号を入力するとともに、絶縁性薄膜の第2主面を覆って与えられた導電性薄膜に物理線を集束照射しつつ走査して直下の絶縁性薄膜の絶縁性を低下させてこの照射位置に交流電位信号を導いてインピーダンス値を測定していく測定ステップと、照射位置に対するインピーダンス値から画像を形成させる画像形成ステップと、を含むことを特徴とする。

公开(公告)号：JP2021517709A

公开(公告)日：2021-07-26

申请号：JP2020546935

申请日：2019-03-14

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： ワン,ヨンジン ,  ドン,ゾンファ ,  ライ,ルイ−リン

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/29 ,  H01J37/244

Abstract: 検出器及び検出システムについて開示する。基板は、第1の複数の感知素子及び第2の複数の感知素子を含む複数の感知素子(311〜313)と、第1の複数の感知素子を出力に接続し且つ第2の複数の感知素子を出力に接続するようになっている複数のセクション(321〜324)と、を含む。2つ以上の感知素子を接続するようになっているスイッチング領域が、感知素子の間に設けられることがある。スイッチング領域は、感知素子が所定量のエネルギー及び/又はビーム強度で電子を受け取るのに応答して生成される信号に基づいて、制御されることがある。 【選択図】図3

公开(公告)号：JP2021097039A

公开(公告)日：2021-06-24

申请号：JP2020199270

申请日：2020-12-01

Applicant: ブルーカー ナノ ゲーエムベーハー ,  BRUKER NANO GMBH

Inventor： トーマス シュワッガー ,  ダニエル ラドゥ ゴラン

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  G01N23/205 ,  G01N23/2055 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】透過菊池回折、TKDパターンを改良する方法を提供する。 【解決手段】電子顕微鏡60内のサンプル12のTKDパターンを検出し、電子顕微鏡は、サンプル上に電子ビーム80をz方向に関して収束させる少なくとも1つのアクティブ電子レンズ61を含み、検出されたTKDパターンは複数の像点x D 、y D を含んでおり、検出された像点のそれぞれを、座標x 0 、y 0 を有する改良されたTKDパターンにする式を用いてマッピングすることを含む、方法。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP2021096939A

公开(公告)日：2021-06-24

申请号：JP2019226768

申请日：2019-12-16

Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー

Inventor： 西坂 武士 ,  秋葉 敏克 ,  能弾 長作

IPC: G01N23/2251 ,  H01J37/28 ,  H01L21/66 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】ビームの劣化にかかわらず良好な精度および効率で検査を行うことができるマルチ電子ビーム画像取得装置を提供する。 【解決手段】マルチ2次電子ビームの収差を検出する収差検出部と、検出された収差に基づいてマルチ2次電子ビームの劣化の有無を判断する劣化判断部と、劣化していると判断された2次電子ビームに対応する1次電子ビームを含まず且つ基板の検査領域を過不足なく走査できる特定のビーム配置となるようにマルチ1次電子ビームのビーム配置を制御するビーム配置制御部と、を備える。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6885637B2

公开(公告)日：2021-06-16

申请号：JP2020080686

申请日：2020-04-30

Applicant: 株式会社日立ハイテクサイエンス

Inventor： 佐藤 誠 ,  富松 聡 ,  上本 敦 ,  麻畑 達也

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  H01J37/28 ,  H01J37/244 ,  G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  H01J37/304

公开(公告)号：JP6880032B2

公开(公告)日：2021-06-02

申请号：JP2018532672

申请日：2016-12-09

Applicant: エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

Inventor： カストルプ,ベルナルド ,  マルケンス,ヨハネス,キャサリヌス,ヒューベルタス ,  ファン デン ブリンク,マリヌス,アールト ,  ベンショップ,ヨゼフ,ペトルス,ヘンリカス ,  スマクマン,エルウィン,ポール ,  ドルツィニナ,タマラ ,  フェルシューレン,コーエン,アドリアヌス

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/28 ,  G03F9/00

公开(公告)号：JP6876418B2

公开(公告)日：2021-05-26

申请号：JP2016235674

申请日：2016-12-05

Applicant: 日本電子株式会社

Inventor： 中村 明穂

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/20 ,  H01J37/26 ,  H01J37/295 ,  H01J37/22

公开(公告)号：JP2021068702A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：JP2020174878

申请日：2020-10-16

Applicant: エフ イー アイ カンパニ ,  FEI COMPANY

Inventor： チャド ルー ,  ジン ワン ,  オーレリアン フィリッペ ジーン マクルー ボトマン ,  ジョー クリスティアン ,  ケニー マニ ,  ガブリエラ キス

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/20 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

Abstract: 【課題】簡単で試料を損傷することの少なくかつ大きい区域の分析が可能な3次元(3D)分析技術を提供する。 【解決手段】視斜角入射「スピンミリング」はイオンビームによる生物学的組織の損傷を回避することができかつ広領域の分析が可能である。集束イオンビーム118を使用して、浅い角度および複数の回転配向で試料をミリングして試料の層を除去し表面を露出させ、ミリング後荷電粒子ビーム143を使用して試料の露出表面を画像化する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6843913B2

公开(公告)日：2021-03-17

申请号：JP2019063461

申请日：2019-03-28

Applicant: 日本電子株式会社

Inventor： 河野 祐二

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/21 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28 ,  H01J37/141

公开(公告)号：JP2021039890A

公开(公告)日：2021-03-11

申请号：JP2019160515

申请日：2019-09-03

Applicant: キオクシア株式会社

Inventor： 小池 三夫 ,  リー スイーケイー

IPC: H01J37/305 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

Abstract: 【課題】試料の観察面の変質および凹凸を抑制することができる荷電粒子ビーム装置を提供する。 【解決手段】本実施形態による荷電粒子ビーム装置は、試料を収容可能であり内部が減圧されたチャンバを有する。チューブが、チャンバ内に挿入され試料へ向かって開口し、複数種類のガスを混合した混合ガスを導入する。第1ビーム生成部が、チューブの開口部と試料との間、または、混合ガスが当たる試料の領域に向かって荷電粒子ビームを照射する。混合ガス生成が、チューブに接続され、複数の種類のガスを混合する。チューブの開口部は、混合ガスの流れ方向に対して略直交する方向における断面において細長形状を有する。 【選択図】図2