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公开(公告)号:JPWO2011108368A1
公开(公告)日:2013-06-24
申请号:JP2012503059
申请日:2011-02-18
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/28 , H01J37/09 , H01J37/145 , H01J2237/1506 , H01J2237/1534 , H01J2237/2611
Abstract: 電磁レンズと干渉することなく広視野偏向や所望の角度を有する傾斜ビーム形成を可能とする電子光学構成を備えた収差が少なく高解像の走査電子顕微鏡及びそれを用いた計測方法を提供するために、走査電子顕微鏡において、電磁レンズ207の上部に電磁偏向器201を設け、それと重なるように(鉛直方向に対して高さ位置が重なるように)電子を加速若しくは減速する制御電極202を設ける。広視野偏向では電子を加速し、傾斜ビーム形成では電子を減速する。
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公开(公告)号:JP5153348B2
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:JP2008002489
申请日:2008-01-09
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/153 , H01J37/145 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/153 , H01J37/145 , H01J37/28 , H01J2237/1534
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公开(公告)号:JPWO2011016182A1
公开(公告)日:2013-01-10
申请号:JP2011525746
申请日:2010-07-13
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Inventor: 範次 高橋 , 範次 高橋 , 福田 宗行 , 宗行 福田 , 矢野 学 , 学 矢野 , 洋彦 木附 , 洋彦 木附 , 一成 浅尾 , 一成 浅尾 , 智康 猩々 , 智康 猩々
IPC: H01J37/04 , H01J37/145 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/21
CPC classification number: H01J37/28 , H01J37/10 , H01J37/145 , H01J37/21 , H01J2237/2817
Abstract: 本発明の荷電粒子線装置は、アライナコイル(29)の制御値が、電磁界重畳レンズである対物レンズ(30、31)の制御値でのコイル電流と電極印加電圧と、イメージシフトコイル(27、28)の制御値と、荷電粒子線の加速電圧とにより決定されることを特徴とする。これにより、帯電領域と非帯電領域の境界などで表示画像に発生する像障害を回避し、明るさむらのない鮮明な画像を取得する荷電粒子線装置を提供することが可能になった。
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公开(公告)号:JP2010512628A
公开(公告)日:2010-04-22
申请号:JP2009540623
申请日:2007-11-23
Applicant: カール・ツァイス・エヌティーエス・ゲーエムベーハーCarl Zeiss NTS GmbH
Inventor: プライクスツァーズ ディルク
IPC: H01J37/12 , H01J37/09 , H01J37/145 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/09 , H01J37/145 , H01J37/3056 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
Abstract: 電子顕微鏡システム3及びイオンビーム加工システム7を備える粒子光学装置であって、電子顕微鏡システムの対物レンズを備え、この対物レンズは、被検査対象物の位置11に最も近い位置に配置されている、電子顕微鏡システムの構成要素としての環状電極を有する。 この環状電極と、イオンビーム加工システム7の主軸9との間には、シールド電極81が配置されている。
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公开(公告)号:JP2009105048A
公开(公告)日:2009-05-14
申请号:JP2008269925
申请日:2008-10-20
Applicant: Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh , ツェーエーオーエス コレクテッド エレクトロン オプチカル システムズ ゲーエムベーハーCEOS Corrected Electron Optical Systems GmbH
Inventor: ZACH JOACHIM
IPC: H01J37/153
CPC classification number: H01J37/153 , H01J37/145 , H01J37/28 , H01J2237/1534 , H01J2237/28 , H01J2237/2802
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a correction device in which a chromatic aberration and an aperture aberration in a scanning electron microscope or a scanning transmission type electron microscope are removed.
SOLUTION: The correction device is provided with four multipole elements arranged continuously in an optical path (9), and a first multipole element (1) and a fourth multipole element (4) are used in order to make 4-pole fields (5, 6), and a second multipole element (2) and a third multipole element (3) are used in order to make 8-pole magnetic fields (7, 8) and a 4-pole field, and the 4-pole fields of the above four multipole elements rotate continuously each in 90°, and the second (2) and the third multipole elements (3) are designed as a 12-pole element by using 12-pole fields (25, 26), and the additional 12-pole element (13) is inserted between the second (2) and the third multipole elements (3), and moreover, an 8-pole filed (14) is overlapped by a 12-pole field (15) in the additional 12-pole element (13).
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPITAbstract translation: 要解决的问题:提供一种其中除去扫描电子显微镜或扫描透射型电子显微镜中的色像差和孔径像差的校正装置。 解决方案:校正装置设置有在光路(9)中连续布置的四个多极元件,并且使用第一多极元件(1)和第四多极元件(4)来形成4极场 (5,6),并且使用第二多极元件(2)和第三多极元件(3),以便制造8极磁场(7,8)和4极场,并且4极 上述四个多极元件的场均以90°连续旋转,并且通过使用12极场(25,26)将第二(2)和第三多极元件(3)设计为12极元件,并且 附加的12极元件(13)插入在第二(2)和第三多极元件(3)之间,此外,8极场(14)由附加的12极场(15)重叠 12极元件(13)。 版权所有(C)2009,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP2009507351A
公开(公告)日:2009-02-19
申请号:JP2008529537
申请日:2006-09-06
Applicant: アプライド マテリアルズ イスラエル, エルティーディー. , カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
Inventor: カサレス、アントニオ , カルト、サミュエル , グレシュナー、ヨハン , ケメン、トーマス , ニッペルマイヤー、ライナー , バイヤー、トーマス , フリッツ、ゲオルグ
IPC: H01J37/153 , H01J37/09 , H01J37/12
CPC classification number: H01J37/04 , H01J37/045 , H01J37/09 , H01J37/145 , H01J37/147 , H01J37/244 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/04922 , H01J2237/04924 , H01J2237/04926 , H01J2237/15 , H01J2237/2446 , H01J2237/2448 , H01J2237/2561 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
Abstract: 本発明は、第1の多孔プレートと、第1の多孔プレートとの間に間隙を形成する第2の多孔プレートとを含む粒子光学部品であって、第1の多孔プレートの複数の開孔が、第1の多孔プレートの複数の開孔の各開孔が第2の多孔プレートの複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、前記間隙が第1の位置において第1の幅を有し、第2の位置において第2の幅を有し、第2の幅が第1の幅よりも少なくとも5%だけ大きい粒子光学部品に関する。 また、本発明は、このような部品を含む荷電粒子システム及び荷電粒子装置、並びに、曲面を有する多孔プレートの製造方法に関する。
【選択図】 図6-
公开(公告)号:JP6340165B2
公开(公告)日:2018-06-06
申请号:JP2013092484
申请日:2013-04-25
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/06 , H01J37/28 , H01J37/073
CPC classification number: H01J37/073 , H01J27/02 , H01J27/26 , H01J29/481 , H01J37/06 , H01J37/063 , H01J37/08 , H01J37/145 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J2237/062 , H01J2237/06341 , H01J2237/06375 , H01J2237/0802 , H01J2237/1508 , H01J2237/2007 , H01J2237/2801
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公开(公告)号:JPWO2015166849A1
公开(公告)日:2017-04-20
申请号:JP2016516331
申请日:2015-04-22
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/28 , H01J37/09 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/244
CPC classification number: H01J37/04 , H01J37/065 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/14 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/04756 , H01J2237/14
Abstract: 電子線装置において、外乱による影響を受けにくくし、かつ、高空間分解能と高輝度を両立する。電子線装置において、例えば、電子線を発生する電子源(101)と、電子線を試料(114)上に集束する対物レンズとの間に、高電圧のビーム管(110)を電子源(101)側に、低電圧のビーム管(112)を対物レンズ側に配置することに関する。これにより、例え試料に積極的に磁場を漏らすタイプの対物レンズを備えたSEMであっても、空間分解能を維持しつつ、高輝度化を図ることができる。
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公开(公告)号:JP6080540B2
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:JP2012282715
申请日:2012-12-26
Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー
IPC: G03F7/20 , H01J37/12 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01L21/027
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/141 , H01J37/145 , H01J37/1474 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/1508
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公开(公告)号:JP5826529B2
公开(公告)日:2015-12-02
申请号:JP2011135054
申请日:2011-06-17
Applicant: サンユー電子株式会社
IPC: H01J37/29 , H01J37/153 , H01J37/16 , H01J37/05
CPC classification number: H01J1/50 , H01J3/22 , H01J37/145 , H01J37/26 , H01J2237/041 , H01J2237/1505
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