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公开(公告)号：JP6260531B2
公开(公告)日：2018-01-17
申请号：JP2014515583
申请日：2013-05-08
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C227/08 , C07C229/08 , C07C229/12 , C07C2603/74 , C07D211/14 , C07D215/04 , C07D215/06 , C07D223/10 , C07D277/60 , C07D295/108 , C07D295/15 , C07D307/00 , C07D307/20 , C07D307/94 , C07D311/74 , C07D317/24 , C07D327/04 , C07D405/06 , C07D411/12 , C07D493/04 , C07D493/10 , C07H9/04 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
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公开(公告)号：JP2018004843A
公开(公告)日：2018-01-11
申请号：JP2016129444
申请日：2016-06-29
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/28 , G03F7/039
Abstract: 【課題】LWR性能、解像性等に優れる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表される基を含む第1構造単位を有する第1重合体と、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有する感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2017214580A
公开(公告)日：2017-12-07
申请号：JP2017114339
申请日：2017-06-09
Applicant: JSR株式会社
Inventor： 生井 準人
Abstract: 【課題】優れた焦点深度及び露光余裕度を発揮して、LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性に優れる樹脂組成物の提供する。 【解決手段】式(1)で表される基を含む第1構造単位を有する第1重合体、及び溶媒を含有する樹脂組成物。 (R 1 は置換/非置換の(n+1)価の鎖状炭化水素基又は置換/非置換の(n+1)価の脂環式炭化水素基;nは、1又は2) 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2017151448A
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：JP2017056733
申请日：2017-03-22
Applicant: JSR株式会社
IPC: C07D307/94 , C07D493/10 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C227/08 , C07C229/08 , C07C229/12 , C07D211/14 , C07D215/04 , C07D215/06 , C07D223/10 , C07D277/60 , C07D295/108 , C07D295/15 , C07D307/00 , C07D307/20 , C07D307/94 , C07D311/74 , C07D317/24 , C07D327/04 , C07D405/06 , C07D411/12 , C07D493/04 , C07D493/10 , C07H9/04 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , C07C2103/74 , C07C2603/74
Abstract: 【課題】LWR性能、解像性等に優れるレジストパターンを形成することができる酸拡散制御剤、感放射線性樹脂組成物及びこの感放射線性樹脂組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】式(2)で表される化合物からなる酸拡散制御剤である。式(2)中、R 8 は、エステル基及びR 10 が結合する炭素原子と共に環員数5〜8の(n+2)価の単環の複素環基を形成する基である。nが1の場合、R 9 は、炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。R 10 は、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基である。R 11 及びR 12 は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜10の1価の炭化水素基である。 【選択図】なし
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