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公开(公告)号:JP2018536638A
公开(公告)日:2018-12-13
申请号:JP2018519833
申请日:2016-10-12
发明人: カン イン チョル
IPC分类号: A61K31/155 , A61K31/18 , A61K31/19 , A61P17/04 , A61P43/00 , A61P37/08 , A61P1/04 , A61P29/00 , A23L33/10 , C07C317/14 , C07C235/26 , C07C279/26
CPC分类号: A61K31/155 , A23L33/10 , A23V2002/00 , A61K31/167 , A61K31/18 , A61P1/00 , A61P17/00 , C07C233/06 , C07C279/26 , C07C317/14 , C07C2603/74
摘要: 本発明は、肥満細胞からの胸腺間質性リンホポイエチン(TSLP)分泌を阻害するための化合物、およびその使用に関する。本発明の化合物は、肥満細胞からのTSLP分泌を有意に阻害することが確認された。従って、本発明の化合物は、アトピー性皮膚炎、アレルギー性皮膚炎および/または炎症性腸疾患の処置および予防についての候補材料として使用することができる。
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公开(公告)号:JP6434980B2
公开(公告)日:2018-12-05
申请号:JP2016536713
申请日:2014-12-04
发明人: ハリチアン,ビジヤン , ロサ,ホセ・ギジエルモ
IPC分类号: C07D211/16
CPC分类号: C07D211/16 , C07C231/02 , C07C2603/74 , C07D205/02 , C07D207/06 , C07D211/62 , C07D215/08 , C07D217/06 , C07D295/185 , C07C233/58
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公开(公告)号:JP6377589B2
公开(公告)日:2018-08-22
申请号:JP2015196171
申请日:2015-10-01
发明人: ジョージ・イー・ゴメズ−ガレノ , ラジャ・ケイ・レディ , ポール・デー・ファン・プルエ , ロバート・ウエルタ・レマス , タン・フー・ヌグイェン , マシュー・ピー・グローテ , クン・ダン , スコット・ジェイ・ヘッカー , ベンカット・レディ・マリ , チェン・ミンウェイ , ジリ・スン , セルジュ・アンリ・ボワイエ , リ・ハイチン , ウィリアム・クレイゴ
IPC分类号: C07D209/14 , C07D213/40 , C07D213/75 , C07D235/18 , C07D235/30 , C07D261/08 , C07D261/20 , C07D263/57 , C07D277/66 , C07D295/135 , C07D295/185 , C07D307/68 , C07D307/81 , C07D311/70 , C07D317/66 , C07D333/38 , C07D333/58 , C07D405/12 , C07D405/04 , C07D407/12 , C07D409/12 , C07D413/12 , C07D413/04 , C07D413/10 , C07D471/04 , C07D498/04 , A61K31/185 , A61K31/277 , A61K31/343 , A61K31/36 , A61K31/4184 , A61K31/4418 , A61K31/341 , A61K31/353 , A61K31/381 , A61K31/443 , A61K31/495 , A61K31/4025 , A61K31/4045 , A61K31/4155 , A61K31/42 , A61K31/423 , A61K31/428 , A61K31/437 , A61K31/5375 , A61P5/50 , A61P3/10 , A61P43/00 , C07C309/15
CPC分类号: C07C309/15 , C07C307/02 , C07C309/11 , C07C317/44 , C07C323/62 , C07C2601/02 , C07C2601/14 , C07C2601/16 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07C2603/74 , C07D209/20 , C07D213/53 , C07D213/75 , C07D235/30 , C07D261/08 , C07D263/56 , C07D277/66 , C07D307/68 , C07D307/81 , C07D317/66 , C07D333/38 , C07D405/04 , C07D409/12 , C07D413/04 , C07D471/04 , C07D498/04
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公开(公告)号:JP2018519288A
公开(公告)日:2018-07-19
申请号:JP2017565960
申请日:2016-06-03
IPC分类号: C07C235/48 , C07C215/50 , C07C213/02 , C07C231/02
CPC分类号: C07C231/02 , C07C213/02 , C07C249/08 , C07C2603/74 , C07C235/60 , C07C217/58 , C07C251/48
摘要: 本発明は、反応物質として使用するベンジルアミン化合物の新しい製造方法を示し、これを用いて各段階の反応条件を限定することで、高収率でベンズアミド化合物の製造方法に係り、このような方法は大量生産が可能で経済的側面で有利である。
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公开(公告)号:JP6358660B2
公开(公告)日:2018-07-18
申请号:JP2015504145
申请日:2014-01-21
申请人: 高砂香料工業株式会社
IPC分类号: C07C209/18 , C07C211/48 , C07C211/52 , C07C211/38 , B01J31/24 , B01J31/22 , C07D213/74 , C07D295/03 , C07C209/16
CPC分类号: C07C209/02 , B01J31/20 , B01J31/24 , B01J31/248 , B01J2231/44 , B01J2531/821 , C07C2603/74 , C07D213/72 , C07D213/74 , C07D295/023 , C07C211/48 , C07C211/31
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公开(公告)号:JP6324380B2
公开(公告)日:2018-05-16
申请号:JP2015524472
申请日:2013-07-26
发明人: グキアン,ケヴィン , クマーラベル,グナナサンバンダム , マー,ビン , ミー,シャア , プオン,ハイルオ , シャオ,ジャオフイ , サン,リーホーン , タヴェラス,アーサー , シン,ジーリ , ジャーン,レイ
IPC分类号: A61K31/196 , C07D215/20 , A61K31/47 , C07D401/04 , A61K31/4545 , A61K31/506 , C07D295/096 , A61K31/495 , C07D213/74 , A61K31/496 , A61K31/551 , C07D239/42 , C07D241/20 , A61K31/497 , C07D403/04 , C07D211/14 , A61K31/445 , C07D401/12 , C07D205/04 , A61K31/397 , C07D401/06 , A61K31/4709 , C07D209/52 , A61K31/403 , C07D451/02 , A61K31/439 , C07D451/14 , C07D221/22 , C07F7/10 , A61K31/695 , C07D498/08 , A61K31/5386 , C07C229/50 , C07D217/04 , A61K31/472 , A61K31/517 , A61K31/4725 , C07D215/38 , A61K31/454 , A61P43/00 , A61P25/00 , A61P37/00 , A61P29/00 , A61P11/06 , A61P19/02 , A61P37/06 , A61P1/04 , A61P17/02 , A61P17/06 , A61P9/10 , A61P35/00 , A61P35/04 , A61P9/14 , A61P7/00 , A61P25/04 , A61P31/12 , A61P3/10 , A61P5/48 , A61P11/00 , A61K45/00 , C07C229/46
CPC分类号: C07F7/081 , A61K31/195 , A61K31/196 , A61K31/397 , A61K31/403 , A61K31/41 , A61K31/439 , A61K31/451 , A61K31/4545 , A61K31/47 , A61K31/4709 , A61K31/4725 , A61K31/495 , A61K31/496 , A61K31/497 , A61K31/506 , A61K31/551 , A61K31/5513 , A61K31/695 , A61K45/06 , C07C211/38 , C07C217/58 , C07C229/46 , C07C229/50 , C07C233/60 , C07C233/61 , C07C235/66 , C07C2601/10 , C07C2601/14 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07C2602/42 , C07C2602/44 , C07C2602/46 , C07C2602/50 , C07C2603/62 , C07C2603/74 , C07D205/04 , C07D209/52 , C07D211/14 , C07D213/74 , C07D215/12 , C07D215/20 , C07D215/38 , C07D217/22 , C07D239/42 , C07D241/20 , C07D295/096 , C07D401/04 , C07D401/06 , C07D451/02 , C07D451/14 , C07D471/08 , C07D491/107 , C07F7/0805 , A61K2300/00
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公开(公告)号:JP6319188B2
公开(公告)日:2018-05-09
申请号:JP2015107652
申请日:2015-05-27
申请人: 信越化学工業株式会社
IPC分类号: C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , C08F220/28 , C07C381/12
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C323/20 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07D295/26 , C07D305/06 , C07D307/77 , C07D327/06 , C07D327/08 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07D335/16 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/30 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/2053 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , H01L21/0274
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公开(公告)号:JP6313397B2
公开(公告)日:2018-04-18
申请号:JP2016204736
申请日:2016-10-18
发明人: アーヴィンダー・カー , コン・リュー , ケビン・ラウエル , ゲールハルト・ポーラー , ミンキ・リー
IPC分类号: G03F7/039 , G03F7/40 , G03F7/20 , C07C309/58 , C09K3/00
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C309/01 , C07C309/28 , C07C309/33 , C07C309/39 , C07C309/40 , C07C309/58 , C07C2603/74 , C07D213/61 , C07D239/26 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2022 , G03F7/327 , G03F7/38 , G03F7/40 , G03F7/405
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公开(公告)号:JP2018052832A
公开(公告)日:2018-04-05
申请号:JP2016188374
申请日:2016-09-27
申请人: 信越化学工業株式会社
IPC分类号: C07D333/46 , C07D409/10 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D209/82 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , G03F7/20 , C08F220/10 , C07C381/12
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C309/12 , C07C323/37 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/20 , C07D409/10 , C07J31/006 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/0274
摘要: 【課題】ArFエキシマレーザー、EB、EUV等の高エネルギー線を光源としたフォトリソグラフィーにおいて、酸拡散が小さく、EL、MEF、LWR等のリソグラフィー性能に優れるレジスト組成物に使用される光酸発生剤、及び該光酸発生剤を含むレジスト組成物、及びそのレジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 【解決手段】下記式(1)で表されるスルホニウム塩。 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP6260531B2
公开(公告)日:2018-01-17
申请号:JP2014515583
申请日:2013-05-08
申请人: JSR株式会社
CPC分类号: G03F7/0045 , C07C227/08 , C07C229/08 , C07C229/12 , C07C2603/74 , C07D211/14 , C07D215/04 , C07D215/06 , C07D223/10 , C07D277/60 , C07D295/108 , C07D295/15 , C07D307/00 , C07D307/20 , C07D307/94 , C07D311/74 , C07D317/24 , C07D327/04 , C07D405/06 , C07D411/12 , C07D493/04 , C07D493/10 , C07H9/04 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
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