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    塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    9.
    发明专利
    塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 审中-公开
    盐，酸发生器，抗蚀剂组合物和制造方法

    公开(公告)号：JP2016113450A

    公开(公告)日：2016-06-23

    申请号：JP2015238828

    申请日：2015-12-07

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 宮川 貴行 ,  安立 由香子 ,  市川 幸司

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C07D327/06 ,  C07D321/10 ,  C07C309/12 ,  C09K3/00 ,  C07D317/72

    CPC分类号： C07D327/06 ,  C07C309/12 ,  C07D313/06 ,  C07D317/72 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/038 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/327 ,  G03F7/38 ,  C07C2103/74

    摘要： 【課題】優れたラインエッジラフネスでレジストパターンを作製し得るレジスト組成物に用いる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される塩、これを含む酸発生剤及びレジスト組成物。 [式中、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基又は炭化水素基;m及びnは、それぞれ1又は2;Arは、置換基を有していてもよいフェニル基;Q 1 及びQ 2 は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基;A 1 は、単結合、炭素数1〜6のアルカンジイル基等;Yは、置換基を有していてもよいアルキル又は脂環式炭化水素基を表し、該アルキル及び脂環式炭化水素基は1以上の置換基を有するか、該アルキル及び脂環式炭化水素基に含まれる−CH 2 −の1以上は、−O−、−SO 2 −又は−CO−に置き換わっている。] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供用于制造具有优异的线边缘粗糙度的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物的盐，酸产生剂和抗蚀剂组合物。溶液：提供由式（I）表示的盐， 酸发生剂和含有它的抗蚀剂组合物。 （I），其中兰德尔稀有各自独立地为氢原子，羟基或烃基，m和n各自为1或2，Ar为可以具有取代基的苯基，Q为各自为氟原子，全氟烷基 基团等，A 1为单键，碳原子数1〜6的烷二基等，Y表示可以具有取代基的烷基或脂环族烃基，烷基和脂环族烃基具有一个以上的取代基或 烷基或脂环族烃基中的一个或多个-CH-被-O - ， - SO-或-CO-取代。选定的图：无

    化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    10.
    发明专利
    化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 审中-公开
    化合物，树脂，耐腐蚀组合物，以及生产耐火图案的方法

    公开(公告)号：JP2016104856A

    公开(公告)日：2016-06-09

    申请号：JP2015217358

    申请日：2015-11-05

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 増山 達郎 ,  鈴木 雄喜 ,  市川 幸司

    IPC分类号： C07C69/675 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  C08F20/28

    CPC分类号： G03F7/0384 ,  C07C69/73 ,  C08F220/22 ,  G03F7/20 ,  C07C2101/14 ,  C07C2103/74 ,  C08F220/30 ,  C08F2220/1858 ,  C08F2220/1883 ,  C08F2220/1891 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283

    摘要： 【課題】欠陥が少なくラインエッジラフネスが良好なレジストパターンを製造することができる化合物、樹脂及びレジスト組成物の提供。 【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来の構造単位を含む樹脂及び前記樹脂を含むレジスト組成物。 [R 1 はハロゲン原子を有してもよいC1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子;R 2 はC5〜18の脂環式炭化水素基を有する基;Rf 1 及びRf 2 は夫々独立にC1〜4のペルフルオロアルキル基;A 1 は単結合、C1〜6のアルカンジイル基又は * −A 2 −X 1 −(A 3 −X 2 ) a −(A 4 ) b −;*は酸素原子との結合手;A 2 〜A 4 は夫々独立にC1〜6のアルカンジイル基;X 1 及びX 2 は夫々独立に−O−、−CO−O−又は−O−CO−;a及びbは0又は1] 【選択図】なし

    摘要翻译： 要解决的问题：提供能够产生缺陷少，线边缘粗糙度好的抗蚀剂图案的化合物，树脂和抗蚀剂组合物。溶液：化合物由式（I）表示，树脂含有结构单元 衍生自化合物，抗蚀剂组合物含有树脂。 [R是氢原子，卤素原子或可具有卤素原子的1-6C烷基; R是具有5-18C脂环族烃基的基团; Rf和Rf各自独立地为1-4C全氟烷基; 一个单键，一个1-6C的链烷二基或-A-X-（A-X） - （A） - ; *是与氧原子的键; Ato各自独立地为1-6C烷二基; Xand Xare各自独立地为-O - ， - CO-O-或-O-CO-; a和b各自为0或1.]选择图：无