公开(公告)号：JP2013546179A

公开(公告)日：2013-12-26

申请号：JP2013535422

申请日：2011-10-26

申请人： チ・エレ・エッフェ・ソシエタ・コンソルティーレ・ペル・アチオニC.R.F. Societa Consortile per Azioni ,  エッレ・ティ・エッメ・ソシエタ・ペル・アチオニ−イスティトゥト・ペル・レ・リチェルチェ・ディ・テクノロジア・メッカニカ・エル・アウトマツィオーネ・ソシエタ・ペル・アチオニR.T.M. S.p.A.− ISTITUTO PER LE RICERCHE DI TECNOLOGIA MECCANICA E L’AUTOMAZIONE S.p.A.

发明人： アドリアーノ・ゼッチーナ ,  ファブリチオ・バルデッリ ,  セレナ・ベルタリオーネ ,  ジュゼッペ・カプト ,  パオロ・カステッリ ,  フェデリコ・セサノ ,  ピエルルイジ・チヴェラ ,  ダニーロ・デマルチ ,  ロベルタ・ガッリ ,  ジャンフランコ・インノチェンティ ,  ドメニカ・スカラーノ ,  アントニオ・ヴェカ ,  マルコ・ザネッティ

IPC分类号： H05K3/10 ,  C08K3/04 ,  C08K3/34 ,  C08L23/04 ,  C08L23/10 ,  C08L23/26 ,  C08L25/04 ,  C08L33/04 ,  H05K3/00

CPC分类号： H05K3/105 ,  H05K1/02 ,  H05K1/0373 ,  H05K2201/026 ,  H05K2201/0323 ,  H05K2203/107 ,  H05K2203/1136 ,  Y10T29/49155

摘要： レーザ照射を通じて、非導電性ポリマー基板内に導電性トレース及び／又はピエゾ抵抗トレースを製造するプロセスであって、前記基板は、非炭形成ポリマーと、カーボンナノファイバ及び／又はナノチューブを含む分散相とのマトリクスを含むコンポジットポリマー材料であり、前記コンポジット材料はまた、層状ケイ酸塩の粒子を含むことを特徴とするプロセス。

公开(公告)号：JP5940073B2

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：JP2013535422

申请日：2011-10-26

申请人： チ・エレ・エッフェ・ソシエタ・コンソルティーレ・ペル・アチオニ ,  C.R.F. Societa Consortile per Azioni ,  エッレ・ティ・エッメ・ソシエタ・ペル・アチオニ−イスティトゥト・ペル・レ・リチェルチェ・ディ・テクノロジア・メッカニカ・エル・アウトマツィオーネ・ソシエタ・ペル・アチオニ ,  R.T.M. S.p.A.− ISTITUTO PER LE RICERCHE DI TECNOLOGIA MECCANICA E L’AUTOMAZIONE S.p.A.

发明人： アドリアーノ・ゼッチーナ ,  ファブリチオ・バルデッリ ,  セレナ・ベルタリオーネ ,  ジュゼッペ・カプト ,  パオロ・カステッリ ,  フェデリコ・セサノ ,  ピエルルイジ・チヴェラ ,  ダニーロ・デマルチ ,  ロベルタ・ガッリ ,  ジャンフランコ・インノチェンティ ,  ドメニカ・スカラーノ ,  アントニオ・ヴェカ ,  マルコ・ザネッティ

IPC分类号： C08K3/04 ,  C08K3/34 ,  H05K3/10

CPC分类号： H05K3/105 ,  H05K1/02 ,  H05K1/0373 ,  H05K2201/026 ,  H05K2201/0323 ,  H05K2203/107 ,  H05K2203/1136 ,  Y10T29/49155