公开(公告)号：JP4812986B2

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：JP2001253166

申请日：2001-08-23

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 大輔 三条 ,  秀彦 奥 ,  洋実 木山 ,  敬志 横山

IPC: B08B7/00 ,  B01J13/00 ,  B05B7/04 ,  C01B32/55 ,  C09K3/30 ,  H01L21/304

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing dry ice aerosol, by which high hardness dry ice particles of a micrometer order or lower can be produced, which has no possibility of inclusi on of impurities, and is suitable for cleaning the surface of a semiconductor wafer or the like. SOLUTION: A liquefied carbon dioxide gas is evacuated so as to be a gas- liquid mixed state, and is thereafter jetted to the inside of a nozzle 3. Further, gaseous nitrogen is jetted to the inside of the nozzle 3 at a high speed, and the liquefied carbon dioxide gas and carbon dioxide gas in a gas-liquid mixed state are cooled by the cold of the gaseous nitrogen to produce aerosol with the gaseous nitrogen as a dispersion medium and dry ice particles as a dispersion phase. Further, the aerosol is jetted from the nozzle 3 by the jet flow of the gaseous nitrogen.

公开(公告)号：JP5123880B2

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：JP2009090678

申请日：2009-04-03

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 貞充 高橋 ,  靖夫 平井 ,  大輔 三条

IPC: F25J1/00

CPC classification number: F25J1/0015 ,  F25J1/0276 ,  F25J2270/90 ,  F25J2280/02 ,  F25J2290/62

公开(公告)号：JPWO2003001127A1

公开(公告)日：2004-10-14

申请号：JP2003507481

申请日：2002-06-20

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 晋吾 國谷 ,  晋吾 國谷 ,  宮本　篤 ,  篤 宮本 ,  大輔 三条 ,  大輔 三条 ,  康浩 垣見 ,  康浩 垣見 ,  岳利 渡辺 ,  岳利 渡辺

IPC: F25D9/00 ,  F25B9/00 ,  F25B9/14 ,  F25D19/00

CPC classification number: F25B9/145 ,  F25B9/14 ,  F25B2309/002 ,  F25B2309/1408 ,  F25B2309/1412 ,  F25B2309/1418 ,  F25B2309/1424 ,  F25D19/006

Abstract: 被冷却対象の冷却および昇温が高速化できる蓄冷型冷凍機を提供することができる。具体的な構成は、圧縮機4a並びに高圧切換弁4bおよび低圧切替弁4cからなる圧力制御手段4と、室温端部1aと低温端部1bとを有する膨張圧縮部1と、室温端部2aと低温端部2bとを有する蓄冷部2を備えて被冷却対象に熱伝達する蓄冷型冷凍機であって、膨張圧縮部の低温端部1bと蓄冷部の低温端部2bとを連結し、かつ被冷却対象7まで延長した作動ガスの流動経路8を設けた蓄熱型冷凍機である。これにより、冷凍機の稼働率を大幅に向上させることが可能になり、センサー類や半導体製造装置の用途として広く適用することができる。