公开(公告)号：JP6153834B2

公开(公告)日：2017-06-28

申请号：JP2013200738

申请日：2013-09-27

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 横山　敬志 ,  敬志 横山 ,  中村　好伸 ,  好伸 中村

IPC: H02M7/48 ,  H02J9/06

公开(公告)号：JP4812986B2

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：JP2001253166

申请日：2001-08-23

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 大輔 三条 ,  秀彦 奥 ,  洋実 木山 ,  敬志 横山

IPC: B08B7/00 ,  B01J13/00 ,  B05B7/04 ,  C01B32/55 ,  C09K3/30 ,  H01L21/304

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing dry ice aerosol, by which high hardness dry ice particles of a micrometer order or lower can be produced, which has no possibility of inclusi on of impurities, and is suitable for cleaning the surface of a semiconductor wafer or the like. SOLUTION: A liquefied carbon dioxide gas is evacuated so as to be a gas- liquid mixed state, and is thereafter jetted to the inside of a nozzle 3. Further, gaseous nitrogen is jetted to the inside of the nozzle 3 at a high speed, and the liquefied carbon dioxide gas and carbon dioxide gas in a gas-liquid mixed state are cooled by the cold of the gaseous nitrogen to produce aerosol with the gaseous nitrogen as a dispersion medium and dry ice particles as a dispersion phase. Further, the aerosol is jetted from the nozzle 3 by the jet flow of the gaseous nitrogen.

公开(公告)号：JP5031980B2

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：JP2004217356

申请日：2004-07-26

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 一雄 中嶋 ,  徳隆 宇佐美 ,  敬志 横山 ,  伍根 藩

IPC: H01L31/04

CPC classification number: Y02E10/546

公开(公告)号：JP4713089B2

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：JP2004077384

申请日：2004-03-18

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 基 中尾 ,  純夫 小林 ,  敬志 横山 ,  勝俊 泉

IPC: H01L21/762 ,  H01L27/12 ,  H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/265 ,  H01L21/76

公开(公告)号：JP4690734B2

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：JP2005020628

申请日：2005-01-28

Applicant: エア・ウォーター株式会社 ,  公立大学法人大阪府立大学

Inventor： 基 中尾 ,  純夫 小林 ,  敬志 横山 ,  勝俊 泉

IPC: C30B29/36 ,  C23C16/01 ,  C30B25/20 ,  H01L21/205

公开(公告)号：JP4398817B2

公开(公告)日：2010-01-13

申请号：JP2004239723

申请日：2004-08-19

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 敬志 横山 ,  孝洋 白幡

IPC: H01L21/205

公开(公告)号：JP4563918B2

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：JP2005316038

申请日：2005-10-31

Applicant: エア・ウォーター株式会社 ,  公立大学法人大阪府立大学

Inventor： 基 中尾 ,  純夫 小林 ,  敬志 横山 ,  勝俊 泉

IPC: H01L21/20

公开(公告)号：JP4544898B2

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：JP2004114160

申请日：2004-04-08

Applicant: エア・ウォーター株式会社 ,  スタンレー電気株式会社

Inventor： 道宏 佐野 ,  直史 堀尾 ,  和馬 山本 ,  敬志 横山 ,  孝洋 白幡 ,  徹 稲垣

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  H01L33/28

公开(公告)号：JP4377296B2

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：JP2004222965

申请日：2004-07-30

Applicant: エア・ウォーター株式会社 ,  スタンレー電気株式会社

Inventor： 道宏 佐野 ,  直史 堀尾 ,  敬志 横山 ,  孝洋 白幡 ,  徹 稲垣

IPC: H01L21/365 ,  C23C16/455

公开(公告)号：JP3786809B2

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：JP36337999

申请日：1999-12-21

Applicant: エア・ウォーター株式会社

Inventor： 孝博 三島 ,  茂樹 伊藤 ,  敬志 横山

IPC: H01L31/04

CPC classification number: Y02E10/547