公开(公告)号：JP2017527838A

公开(公告)日：2017-09-21

申请号：JP2016574240

申请日：2015-08-18

Applicant: エルジー・ケム・リミテッド

Inventor： ムーン パク、タエ ,  ムーン パク、タエ ,  チュル ジュン、ダエ ,  チュル ジュン、ダエ ,  ホーン リー、ドン ,  ホーン リー、ドン ,  ラム リー、ウー ,  ラム リー、ウー ,  ジュン リー、ヒュン ,  ジュン リー、ヒュン ,  ヤン キム、ジュ ,  ヤン キム、ジュ

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/42 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/373 ,  C11D3/43 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0274

Abstract: 本発明は、重量平均分子量95g/mol以上の鎖状アミン化合物;重量平均分子量90g/mol以下の鎖状アミン化合物;環状アミン化合物;炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基が窒素に1〜2置換されたアミド系化合物;および極性有機溶媒を含み、前記重量平均分子量95g/mol以上の鎖状アミン化合物および重量平均分子量90g/mol以下の鎖状アミン化合物の間の重量比が1:1〜1:10である、フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法に関する。

公开(公告)号：JP2017536560A

公开(公告)日：2017-12-07

申请号：JP2016574455

申请日：2015-08-31

Applicant: エルジー・ケム・リミテッド

Inventor： ムーン パク、タエ ,  ムーン パク、タエ ,  チュル ジュン、ダエ ,  チュル ジュン、ダエ ,  ホーン リー、ドン ,  ホーン リー、ドン ,  ラム リー、ウー ,  ラム リー、ウー ,  ジュン リー、ヒュン ,  ジュン リー、ヒュン ,  ヤン キム、ジュ ,  ヤン キム、ジュ

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304

CPC classification number: G03F7/42

Abstract: 本発明は、1種以上のアミン化合物;非プロトン性極性有機溶媒および水からなる群より選択された1種以上の溶媒;プロトン性極性有機溶媒;および20℃で、25mPa・s〜250mPa・sの動力学粘度(dynamic viscosity)を有し、ポリエーテル系官能基が導入されたポリジメチルシロキサン繰り返し単位を20モル%〜70モル%含むポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン;を含む、フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法に関する。

公开(公告)号：JP2017537453A

公开(公告)日：2017-12-14

申请号：JP2016574142

申请日：2015-07-10

Applicant: エルジー・ケム・リミテッド

Inventor： ムーン パク、タエ ,  ムーン パク、タエ ,  チュル ジュン、ダエ ,  チュル ジュン、ダエ ,  ホーン リー、ドン ,  ホーン リー、ドン ,  ラム リー、ウー ,  ラム リー、ウー ,  ジュン リー、ヒュン ,  ジュン リー、ヒュン ,  ヤン キム、ジュ ,  ヤン キム、ジュ

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/42

CPC classification number: G03F7/34

Abstract: 本発明は、フォトレジスト除去用ストリッパ貯蔵タンク、表面にフォトレジストが形成された基板を移動させる基板移送具、前記基板移送具にフォトレジスト除去用ストリッパを噴射するストリッパ噴射口および前記フォトレジスト除去用ストリッパ貯蔵タンクから前記ストリッパ噴射口にフォトレジスト除去用ストリッパを移送するストリッパ伝達具を含む剥離室と、前記剥離室の上部に位置し、前記剥離室から蒸発した物質を冷却する冷却装置と、前記冷却装置で冷却した物質をフォトレジスト除去用ストリッパ貯蔵タンクまたは剥離室に移送する搬送具と、を含むフォトレジスト剥離装置を利用したフォトレジスト剥離方法に関する。