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公开(公告)号：JP2018530774A
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：JP2018506994
申请日：2016-08-10
申请人： エルティーシー カンパニー リミテッド
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/304 , G03F7/42
CPC分类号： G03F7/425 , C11D3/0073 , C11D3/2068 , C11D7/261 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , G03F7/32 , G03F7/42 , G03F7/426 , H01L21/0273 , H01L21/311 , H01L21/31133 , H01L27/124
摘要： 本発明は、LCD製造用フォトレジスト剥離液組成物に関し、TFT−LCDを製造するためのあらゆる工程に使用し得る統合フォトレジスト剥離液組成物に関する。より具体的に、転移金属、転位金属及び酸化物半導体配線の全てに適用可能な水系型フォトレジスト剥離液組成物に関するものである。上記水系型フォトレジスト剥離液組成物は、(a)転位金属及び金属酸化物腐食防止剤、(b)転移金属腐食防止剤、(c)1次アルカノールアミン、(d)環状アルコール、(e)水、(f)非プロトン性極性有機溶剤、(g)プロトン性極性有機溶剤を含み、ハードベーク(Hard Baked)工程、注入(Implant)工程及び乾式蝕刻(Dry Etch)工程の進行後に発生する変形フォトレジストの除去能力に優れており、転位金属であるアルミニウム、転移金属である銅又は銀及び金属酸化物配線に同時適用することができ、有機膜及びCOA工程への導入も可能である。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2018526495A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2018506163
申请日：2016-07-28
发明人： サカムリ、 ラジ , ディーモフ、 オグニアン エヌ. , ナイニ、 アフマド エー. , マリク、 サンジャイ , デ、 ビノド ビー. , ライネルト、 ウィリアム エー.
CPC分类号： C09G1/02 , C09D5/08 , C11D3/0073 , C11D7/32 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/3281 , C11D7/50 , C11D7/5004 , C11D11/00 , C11D11/0047 , G03F7/027 , G03F7/2053 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/02063 , H01L21/31133
摘要： 本開示は、(a)0.5〜25重量パーセントのアルカリ性化合物、(b)1〜25重量パーセントのアルコールアミン化合物、(c)0.1〜20重量%のヒドロキシルアンモニウム化合物、(d)5〜95重量%の有機溶媒、(e)0.1〜5重量%の腐食防止剤化合物、および(f)2〜25重量%の水を含む組成物(たとえば、洗浄および/または剥離組成物)に関する。
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公开(公告)号：JP2018523851A
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：JP2018505673
申请日：2016-08-04
发明人： チャン ランディ リー−カイ , ジーン エバード パリス , チェン シウ メイ , リ イー−チア , リウ ウェン ダル , チェン ティエンニウ , ローラ エム.マッツ , ロー ライバック リー チャン , モン リン−チェン
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/42
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/0073 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/34 , C11D7/5009 , C11D7/5013 , C11D7/5022 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/31133 , H01L24/02 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/94 , H01L2224/02311 , H01L2224/0345 , H01L2224/03452 , H01L2224/03462 , H01L2224/0401 , H01L2224/05073 , H01L2224/05082 , H01L2224/05147 , H01L2224/05155 , H01L2224/05171 , H01L2224/05614 , H01L2224/05624 , H01L2224/05644 , H01L2224/05647 , H01L2224/05655 , H01L2224/05664 , H01L2224/05666 , H01L2224/05671 , H01L2224/05672 , H01L2224/11462 , H01L2224/1147 , H01L2224/1148 , H01L2224/1181 , H01L2224/13082 , H01L2224/13083 , H01L2224/131 , H01L2224/13111 , H01L2224/13124 , H01L2224/13144 , H01L2224/13147 , H01L2224/13155 , H01L2224/81191 , H01L2224/94 , H01L2924/00012 , H01L2924/00014 , H01L2924/01029 , H01L2924/01028 , H01L2924/014 , H01L2224/11 , H01L2924/01047
摘要： 3〜150μmの膜厚を有するフォトレジストパターンを剥離するためのフォトレジスト洗浄組成物であって、(a)4級水酸化アンモニウム、(b)水溶性有機溶媒の混合物、(c)少なくとも1つの腐食防止剤、及び(d)水を含有するフォトレジスト洗浄組成物と、それを用いて基材を処理するための方法とが開示される。
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公开(公告)号：JP2018093225A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2018036368
申请日：2018-03-01
发明人： リウ ウエン ダル , リ イー−チーア , ウィリアム ジャック キャスティール,ジュニア , ティエンニウ チェン , ラジーヴ クリシャン アガーウォール , ムドゥカル バースカラ ラーオ
IPC分类号： H01L21/308
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/0073 , C11D3/2086 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/33 , C11D3/3773 , C11D3/3947 , C11D3/43 , H01L21/02068 , H01L21/0332 , H01L21/31111 , H01L21/31144 , H01L21/32134 , H01L21/76865
摘要： 【課題】28/20nmパターンウエハからPVD TiNハードマスクを除去するための組成物、方法、及びシステムを提供する。 【解決手段】組成物は、微塩基性条件下でPVD TiNハードマスク除去するための酸化剤として過酸化物を使用する。その組成物は、CVD TiNに対するPVD TiNの除去/エッチング選択性を改善するために、嵩高若しくは長鎖有機アミン又はポリアルキルアミンを含む。その組成物は、Co適合性を維持するために、長鎖有機酸又はアミンをさらに含む。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6235120B2
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：JP2016509313
申请日：2013-10-07
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： ヒュッファー,シュテファン , ガルシア マルコス,アレハンドラ , ハルトマン,マルクス , ヴェーバー,ハイケ , エメルート,マリオ
CPC分类号： C11D3/0073 , C11D11/0035 , C11D11/0088 , C11D11/02 , C11D3/33 , C11D3/3707 , C11D3/3723 , C11D3/3788
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公开(公告)号：JP6216366B2
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：JP2015500843
申请日：2013-03-13
发明人： アンドレアス・テンメ
IPC分类号： C23F11/14 , C23F11/167 , C23F11/00
CPC分类号： C23F11/00 , C10G75/02 , C10M141/06 , C10M173/02 , C11D1/8255 , C11D11/0029 , C11D3/0073 , C11D3/2075 , C11D3/30 , C11D3/361 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/36 , C23F11/10 , C23G1/26 , C10M2203/1025 , C10M2203/1065 , C10M2207/021 , C10M2207/0406 , C10M2207/121 , C10M2207/125 , C10M2207/2805 , C10M2209/104 , C10M2209/105 , C10M2215/04 , C10M2215/042 , C10M2223/049 , C10N2230/12 , C10N2240/40 , C11D1/722
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公开(公告)号：JP2017527838A
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：JP2016574240
申请日：2015-08-18
申请人： エルジー・ケム・リミテッド
发明人： ムーン パク、タエ , ムーン パク、タエ , チュル ジュン、ダエ , チュル ジュン、ダエ , ホーン リー、ドン , ホーン リー、ドン , ラム リー、ウー , ラム リー、ウー , ジュン リー、ヒュン , ジュン リー、ヒュン , ヤン キム、ジュ , ヤン キム、ジュ
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304
CPC分类号： G03F7/42 , C11D3/0073 , C11D3/2068 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/32 , C11D3/373 , C11D3/43 , C11D11/0047 , G03F7/425 , G03F7/426 , H01L21/0206 , H01L21/0274
摘要： 本発明は、重量平均分子量95g/mol以上の鎖状アミン化合物;重量平均分子量90g/mol以下の鎖状アミン化合物;環状アミン化合物;炭素数1〜5の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基が窒素に1〜2置換されたアミド系化合物;および極性有機溶媒を含み、前記重量平均分子量95g/mol以上の鎖状アミン化合物および重量平均分子量90g/mol以下の鎖状アミン化合物の間の重量比が1:1〜1:10である、フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法に関する。
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公开(公告)号：JP6177251B2
公开(公告)日：2017-08-09
申请号：JP2014543993
申请日：2012-11-29
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： ジョゼフ ピー. ボースト , キース ハーシュ , スティーヴン エフ. グロース
CPC分类号： C11D3/34 , C11D1/88 , C11D11/0029 , C11D3/0073 , C11D3/3409 , C23F14/02 , C23G1/088 , C23G1/103 , C23G1/125 , C02F2101/301 , C02F2303/08 , C02F5/10
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公开(公告)号：JP2017052969A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2016234274
申请日：2016-12-01
发明人： ネイサン ディー.パイターセン , グレゴリー ジー.グリース
CPC分类号： C11D3/30 , C11D1/22 , C11D11/0023 , C11D11/0041 , C11D3/0057 , C11D3/0073 , C11D3/08 , C11D3/10 , C11D3/2034 , C11D3/43
摘要： 【課題】本発明は、非腐食性脱脂剤濃縮物、及びそのまま使用できる処方物に関する。 【解決手段】特に、個人用保護具の使用を必要とせず、いくつかのアルカリ金属水酸化物ベースの(すなわち腐食性の)脱脂剤と同じ程度効果的に重合油脂を除去することができる、非腐食性組成物を開示する。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP5941153B2
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：JP2014536182
申请日：2012-10-08
申请人： ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア , BASF SE
发明人： ヒュッファー,シュテファン , ガルシア マルコス,アレハンドラ , ハルトマン,マルクス , ヴェーバー,ハイケ
IPC分类号： C11D7/22 , C11D7/10 , C11D7/54 , C11D7/26 , C11D7/34 , C11D11/02 , A47L15/44 , A47L17/00 , C11D7/32
CPC分类号： C11D3/33 , C11D3/0073 , C11D3/046 , C11D3/1213 , C11D3/2075 , C11D3/3723
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