专利检索 ap:("キヤノン株式会社") AND inv:"川端香奈江" 第 1 页

1.

发明专利
光硬化性組成物、及びこれを用いるパターン形成方法有权

公开(公告)号：JP6490128B2

公开(公告)日：2019-03-27

申请号：JP2017051542

申请日：2017-03-16

申请人： キヤノン株式会社

发明人： 伊藤俊樹 , 三原知恵子 , 川▲崎▼ 陽司 , 沖仲元毅 , 川端香奈江

IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , C08F2/48 , H05K3/28

2.

发明专利
光硬化性組成物、及びこれを用いるパターン形成方法审中-公开

公开(公告)号：JP2017141456A

公开(公告)日：2017-08-17

申请号：JP2017051542

申请日：2017-03-16

申请人： キヤノン株式会社

发明人： 伊藤俊樹 , 三原知恵子 , 川▲崎▼ 陽司 , 沖仲元毅 , 川端香奈江

IPC分类号： B29C59/02 , H05K3/28 , C08F2/48

CPC分类号： C08K5/06 , B05D3/067 , B05D3/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/24 , C08F2/48 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , H05K3/0014 , H05K3/0017 , Y10T428/24802

摘要： 【課題】離型力が小さい光硬化性組成物を提供すること。また、離型力が小さい光インプリント方法を提供すること。【解決手段】光硬化性組成物であって、重合性モノマー(A)と、重合開始剤(B)と、フッ素原子含有界面活性剤(C)と、を少なくとも含有し、該組成物の光硬化物に対する水の接触角が74°以下であることを特徴とする光硬化性組成物。【選択図】図1