公开(公告)号：KR102224135B1

公开(公告)日：2021-03-08

申请号：KR1020197005852A

申请日：2017-09-01

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 테츠야 카미무라

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0012 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/0044 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0274

摘要： 본 발명의 과제는, 유기 용매를 주성분(98질량% 이상)으로서 함유하고, 결함 억제능이 우수한 용액을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 과제는, 상기 용액을 수용한 용액 수용체, 상기 용액을 함유하는 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물과, 상기 용액을 이용한 패턴 형성 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 용액은, 비점이 200℃ 미만인 유기 용매를 적어도 1종과, 비점이 250℃ 이상인 유기 불순물을 갖는 용액이며,
상기 유기 용매의 함유량이, 용액 전체 질량에 대하여 98질량% 이상이고,
상기 유기 불순물의 함유량이, 용액 전체 질량에 대하여 0.1질량ppm 이상 100질량ppm 미만이다.

公开(公告)号：JP2018531409A

公开(公告)日：2018-10-25

申请号：JP2018514986

申请日：2016-08-31

申请人： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド

发明人： ジュン−フワ・リー ,  ジュ−ヨン・ジュン ,  スン−ホ・クウォン ,  スン−クン・キム ,  ユ−ジン・チェ

IPC分类号： G03F7/033 ,  A20 ,  C07C275 ,  C08F2/48 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/033 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/031 ,  H01B3/447

摘要： 感光性樹脂組成物及びそれから調製される有機絶縁膜が本明細書に開示される。コポリマーの重量平均分子量を最適化し、感光性樹脂組成物中に特定の溶媒を使用することにより、それから得られる被覆膜は、高平面性特性及び高解像度のパターンを有することができる。したがって、感光性樹脂組成物は、同時に白ピクセルとして機能する有機絶縁膜の材料として使用され得る。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6338227B2

公开(公告)日：2018-06-06

申请号：JP2016543494

申请日：2014-07-23

申请人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション ,  INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION ,  JSR株式会社

发明人： アヨーティ、ラマクリシュナン ,  スワンソン、サリー、アン ,  ウォールラフ、グレゴリー、マイケル

IPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/32 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/325 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/40

公开(公告)号：JP6330272B2

公开(公告)日：2018-05-30

申请号：JP2013171012

申请日：2013-08-21

申请人： セントラル硝子株式会社

发明人： 山中 一広 ,  中辻 惇也

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C08L67/02 ,  C08L63/00 ,  C08G63/682 ,  G03F7/023

CPC分类号： C08G63/6826 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/039 ,  G03F7/40

公开(公告)号：JP2018025778A

公开(公告)日：2018-02-15

申请号：JP2017142413

申请日：2017-07-24

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 増永 恵一 ,  渡邉 聡 ,  小竹 正晃 ,  大橋 正樹

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07D333/76 ,  C07D335/12 ,  C07D327/08 ,  C07D335/18 ,  C07D339/08 ,  C07D333/02 ,  C07D327/06 ,  C07D335/02 ,  C07D279/36 ,  C08F20/30 ,  C08F220/30 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  G03F7/20 ,  G03F1/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  C07C381/12 ,  G03F1/76 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

摘要： 【課題】パターン形成時の解像性を向上し、かつ、ラインエッジラフネスの低減されたパターンを得ることができるポジ型レジスト組成物を提供する。 【解決手段】(A)式(A)で表されるスルホニウム化合物、及び(B)側鎖にフェノール性ヒドロキシ基を有する特定構造の繰り返し単位を含み、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大するポリマーを含むベースポリマーを含むポジ型レジスト組成物。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6278645B2

公开(公告)日：2018-02-14

申请号：JP2013188418

申请日：2013-09-11

申请人： キヤノン株式会社

发明人： 伊藤 俊樹 ,  飯田 賢一 ,  松藤 奈央子 ,  北川 健司

IPC分类号： C07C43/13 ,  C08F2/44 ,  C08F2/48 ,  C08F2/00 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/004 ,  B29K2105/0005 ,  B29K2909/00 ,  B29L2011/00 ,  B29L2031/3425 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  C08F2/48 ,  C08F22/105 ,  C08F222/1006 ,  C09D4/00 ,  C09D7/47 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/027 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H05K3/06

公开(公告)号：JP6159408B2

公开(公告)日：2017-07-05

申请号：JP2015535454

申请日：2014-09-01

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 山田 悟 ,  真崎 慶央

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/311 ,  H01L27/3258

公开(公告)号：JPWO2015046332A1

公开(公告)日：2017-03-09

申请号：JP2015539332

申请日：2014-09-25

申请人： 東京応化工業株式会社

发明人： 信太　勝 ,  勝 信太 ,  照博 植松 ,  照博 植松

IPC分类号： G03F7/004

CPC分类号： G03F7/033 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/027 ,  G03F7/032

摘要： 感度、保存安定性、塗布性、現像性、及び安全性に優れ、露光及び現像により、異物の発生が抑制されたパターンを形成することができる感放射線性組成物及びそれを用いたパターン製造方法を提供する。本発明に係る感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される化合物を含有する。式中、R1は、水素原子又はヒドロキシル基を表し、R2及びR3は、独立に水素原子又はC1〜C3のアルキル基を表し、R4及びR5は、独立にC1〜C3のアルキル基を表す。

公开(公告)号：JPWO2015033960A1

公开(公告)日：2017-03-02

申请号：JP2014546002

申请日：2014-09-03

申请人： 三菱レイヨン株式会社

发明人： 敦 安田 ,  美帆 中条

IPC分类号： C08F20/10 ,  C08F6/24 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F220/68 ,  C08F2/00 ,  C08F220/18 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  C08F2220/1858 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/281

摘要： 濁度度Th(80)が、1.0以上、4.6NTU以下であり、濁度Tm(80)が、1.0以上、3.8NTU以下である、リソグラフィー用共重合体であって、この濁度度Th(80)は、リソグラフィー用共重合体の含有量がPGMEA溶液の総質量に対して20wt%であるこのPGMEA溶液に、n−ヘプタンを添加した際の濁度が10NTUになるn−ヘプタン添加量を(X)hとし、この(X)hの80%の量のn−ヘプタンをこのPGMEA溶液に添加した際の、このPGMEA溶液の濁度であり;この濁度Tmは、このリソグラフィー用共重合体の含有量がPGMEA溶液の総質量に対して20wt%であるPGMEA溶液に、メタノールを添加した際の濁度が5.0NTUになるメタノール添加量を(X)mとし、この(X)mの80%の量のメタノールを、このPGMEA溶液に添加した際の、このPGMEA溶液の濁度である。

摘要翻译： 浊度度TH（80）为1.0以上且小于4.6NTU，浊度的Tm（80）为1.0以上且小于3.8NTU，光刻共聚物，钍的浊度（ 80）是在光刻共聚物的PGMEA溶液含量为基于的PGMEA溶液，浊度在添加正庚烷的总重量为20重量％的10 NTU正庚烷添加量 （X），它是h时，在添加正庚烷的（X）小时，以对PGMEA溶液，是在PGMEA溶液的浊度的量的80％;该浊度的Tm，光刻共聚 基于组合在PGMEA溶液的总重量的20重量％的PGMEA溶液含量，在加入甲醇的浊度的甲醇添加量5.0NTU和（X）m时，（X）米 甲醇的量，在加入的80％至PGMEA溶液，在PGMEA溶液的浊度。

公开(公告)号：JP2016531191A

公开(公告)日：2016-10-06

申请号：JP2016542019

申请日：2014-09-05

申请人： プロメラス, エルエルシー ,  プロメラス, エルエルシー ,  住友ベークライト株式会社

发明人： プラモド カンダナラチチ， ,  プラモド カンダナラチチ， ,  ローズ，ラリー・エフ． ,  大西　治 ,  治 大西

IPC分类号： C08F32/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40

CPC分类号： C08F8/32 ,  C08F8/12 ,  C08F8/44 ,  C08F8/48 ,  C08F210/10 ,  C08F210/14 ,  C08F212/08 ,  C08F222/06 ,  C08F222/08 ,  C08F230/08 ,  C08F232/04 ,  C08F232/08 ,  C08F2800/10 ,  C08F2810/50 ,  C09D135/06 ,  C09D145/00 ,  G03C1/56 ,  G03C1/60 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0163 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0384 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/0758 ,  G03F7/30 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40

摘要： 自己現像フィルムの形成に有用な種々のアミン処理無水マレイン酸含有ポリマーおよびその組成物が開示される。いくつかの実施形態では、かかるポリマーは、ノルボルネン型繰返し単位と無水マレイン酸型繰返し単位とを含み、かかる無水マレイン酸型繰返し単位の少なくとも一部は開環またはマレイミド繰返し単位に変換される。かかるコポリマー組成物から形成されるフィルムは、マイクロエレクトロニクスデバイスおよび光電子デバイスで使用するための自己現像性で低kの熱安定性層を提供する。

摘要翻译： 各种胺马来酸化含有聚合物的酐和它们的组合物用于自显影膜的形成是有用的被公开。 在一些实施方案中，这样的聚合物包括一个降冰片烯型的重复单元和马来酸酐型的重复单元，至少一些这样的马来酸类型的重复单元的被转换为开环或马来酰亚胺重复单元。 由这种共聚物的组合物形成的膜提供的低k自显影用于微电子和光电子器件使用热稳定的层。