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1.发明专利
公开(公告)号：KR20210035234A
公开(公告)日：2021-03-31
申请号：KR1020217004975A
申请日：2019-09-20
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 마사히로 모리
CPC分类号： C08F2/48 , G02B1/04 , G02B5/20 , G02B5/22 , G03F7/0007 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/0325 , G03F7/105 , G03F7/2004 , G03F7/38
摘要： 경화성 조성물에 있어서, 색재의 함유량이, 조성물의 전고형분에 대하여 30질량% 이상이며, 광중합 개시제가, 메탄올 중에서의 파장 365nm의 흡광 계수가 1.0×10
3 mL/gcm 이상인 광중합 개시제 A1과, 메탄올 중에서의 파장 365nm의 흡광 계수가 1.0×10
2 mL/gcm 이하이고, 또한 파장 254nm의 흡광 계수가 1.0×10
3 mL/gcm 이상인 광중합 개시제 A2를 포함하며, 조성물의 파장 400~600nm의 범위에 있어서의 흡광도의 최솟값 A와, 파장 1000~1300nm의 범위에 있어서의 흡광도의 최댓값 B의 비인 A/B가 4.5 이상이다. 또한, 본 발명은, 이 경화성 조성물을 응용한 경화막, 패턴의 형성 방법, 광학 필터 및 광센서에 관한 것이다.-
2.发明专利
公开(公告)号：KR20210030895A
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：KR1020207031055A
申请日：2019-03-28
IPC分类号： C08F220/34 , C08F2/38 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F220/18 , C08F220/38 , C08F267/04 , C08F283/00 , C08F283/06 , C08F283/12 , C08L51/00
CPC分类号： C08F220/343 , G03F7/0037 , B33Y70/00 , B33Y80/00 , C08F2/38 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F220/18 , C08F220/38 , C08F220/56 , C08F222/08 , C08F267/04 , C08F279/00 , C08F283/006 , C08F283/06 , C08F283/124 , G03F7/0045 , G03F7/0047 , G03F7/0275 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/105
摘要： 본 발명은 티올-아크릴레이트 광중합성 수지 조성물에 관한 것이다. 수지 조성물은 적층식 제조에 사용될 수 있다. 본 발명의 일 양태는 산소 환경에서의 적층식 제조를 위한 광중합성 수지로서, 상기 수지는, 가교결합 성분; 적어도 하나의 단량체 및/또는 올리고머; 및 티올, 2급 알콜 및/또는 3급 아민 중 적어도 하나를 포함하는 쇄 이동제를 포함하며, 상기 수지는 광에 대한 노출에 의해 반응하여 경화물을 형성하도록 구성될 수 있는 수지를 포함한다.
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公开(公告)号：JP6402710B2
公开(公告)日：2018-10-10
申请号：JP2015504394
申请日：2014-03-06
申请人： 日立化成株式会社
IPC分类号： G03F7/029 , G03F7/004 , H05K3/28 , C08K5/37 , C08K5/5313 , C08L63/10 , C08G59/17 , G03F7/027
CPC分类号： H05K1/0373 , C08K3/36 , C08K5/3495 , C08K5/37 , C08K5/5313 , C08L63/00 , C08L63/10 , C09D163/10 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/038 , G03F7/0385 , G03F7/0388 , G03F7/40 , H05K3/022 , H05K3/064 , H05K3/287
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公开(公告)号：JP2018506863A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2017549554
申请日：2015-12-09
发明人： ディーター・ネース , クリストフ・アウナー , バーバラ・シュタードローバー , シュテファン・ルットロフ , マリア・ベレグラーティス
IPC分类号： H01L21/027 , C08F2/38 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F20/10 , C08F283/00
CPC分类号： G03F7/423 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/0275 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/0751 , G03F7/085 , G03F7/40 , G03F7/425
摘要： 本発明は、少なくとも1つのアクリラートモノマーを含有するUV重合可能なプレポリマー組成物に基づくエンボスラッカーに関するものであり、前記プレポリマー組成物は、前記アクリラートモノマーの他に、3‐メルカプトプロピオナート、メルカプトアセタート、チオグリコラート及びアルキルチオールの群から選択される少なくとも1つのチオールと、必要に応じて、ポリエーテル‐シロキサン等の非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレン‐(9)‐ラウリルエーテル、単官能基のアルキル(メタ)アクリラート、ポリシロキサン(メタ)アクリラート、ペルフルオロアルキル(メタ)アクリラート及びペルフルオロポリエーテル(メタ)アクリラート等の脂肪アルコールエトキシレートの群から選択される表面活性の付着防止添加剤と、光開始剤と、を含んでいる。本発明は、エンボスラッカーでコーティングされた基板表面をエンボス加工するための方法にも関する。
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公开(公告)号：JPWO2016080375A1
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：JP2016560229
申请日：2015-11-17
申请人： 日立化成株式会社
摘要： (A)成分:バインダーポリマーと、(B)成分:光重合性化合物と、(C)成分:2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも1種を含む光重合開始剤と、(D)成分:ニトロキシル化合物と、を含有し、上記(D)成分が、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル構造を有する化合物を含む、感光性樹脂組成物。
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公开(公告)号：JPWO2016043162A1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：JP2016548881
申请日：2015-09-14
申请人： 日立化成株式会社
CPC分类号： G03F7/033 , C08F212/08 , C08F2800/20 , C09D125/14 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/322 , H05K3/064 , H05K3/184 , H05K3/188 , H05K2203/107 , C08F220/06 , C08F220/18 , C08F220/20 , C08F220/14
摘要： 感光性樹脂組成物は、炭素数が1〜12のヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキルエステルに由来する構造単位及び(メタ)アクリル酸に由来する構造単位を有するバインダーポリマーと、エチレン性不飽和結合基を有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、式(1)で示されるスチリルピリジン化合物とを含有する。式中、R1、R2及びR3は各々独立に炭素数1〜20のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキルエステル基、アミノ基、炭素数1〜20のアルキルアミノ基、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、アセチル基又は(メタ)アクリロイル基を示し、a、b及びcは各々独立に0〜5の整数を示す。a、b及びcが各々2以上の場合、複数のR1、R2及びR3は同一でも異なっていてもよい。
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公开(公告)号：JPWO2016035603A1
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2016546562
申请日：2015-08-25
申请人： 住友化学株式会社
CPC分类号： B82Y30/00 , C08F2/44 , C08F291/00 , C08F292/00 , F21V9/16 , G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/031 , H01L29/06
摘要： 従来の硬化性組成物から、フォトリソグラフ法により硬化パターンを形成した場合、現像後の硬化パターンの残膜率が低いという問題があった。残膜率とは、以下の式(z)で表される値をいう。残膜率(%)=Td / Te×100 (z)[式(z)中、Tdは硬化パターンの膜厚を表し、Teは光照射後の組成物層の膜厚を表す。]量子ドット、重合開始剤及び重合性化合物を含む硬化性組成物であって、重合開始剤が、オキシム化合物、アシルホスフィン化合物、トリアジン化合物及びビイミダゾール化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を含む硬化性組成物。
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公开(公告)号：JPWO2016092595A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2015509237
申请日：2014-12-10
申请人： 互応化学工業株式会社
CPC分类号： G03F7/031 , G03F7/0042 , G03F7/0043 , G03F7/029 , G03F7/038 , G03F7/0385 , G03F7/0388 , G03F7/20 , G03F7/2006 , G03F7/26 , G03F7/322 , H05K1/02 , H05K1/0274 , H05K1/0353 , H05K3/282 , H05K3/287 , H05K3/3452 , H05K2201/0166 , H05K2201/068
摘要： 液状ソルダーレジスト組成物は、カルボキシル基含有樹脂と、光重合性モノマー及び光重合性プレポリマーからなる群から選択される一種以上の化合物を含有する光重合性化合物と、光重合開始剤と、酸化チタンとを含有する。光重合開始剤は、ビスアシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤と、25℃で液体である第一のα−ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤と、25℃で固体である第二のα−ヒドロキシアルキルフェノン系光重合開始剤とを含有する。
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公开(公告)号：JPWO2015076148A1
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015549083
申请日：2014-11-11
申请人： 綜研化学株式会社
CPC分类号： G03F7/029 , C08F222/1006 , G02B1/111 , G02B1/118 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/031
摘要： インプリント時の転写性及び構造体に転写されたパターンの耐溶剤性の両方に優れる、インプリント用光硬化性樹脂組成物を提供する。本発明によれば、光重合性の(メタ)アクリル系モノマー(A)および光開始剤(B)を少なくとも含むインプリント用光硬化性樹脂組成物であって、前記(メタ)アクリル系モノマー(A)の配合比率が、(a−1)3官能(メタ)アクリレート化合物 60〜97質量%(a−2)4官能以上の(メタ)アクリレート化合物 3〜40質量%(a−3)2官能以下の(メタ)アクリレート化合物 0〜37質量%(ただし、(a−1)〜(a−3)の合計が100質量%とする)である、インプリント用光硬化性樹脂組成物が提供される。
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公开(公告)号：JPWO2015016362A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015529634
申请日：2014-08-01
申请人： 日立化成株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F290/14 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/20 , H05K3/28
CPC分类号： C08F290/14 , C08G59/1461 , C08L63/10 , G03F7/0275 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/032 , G03F7/038 , G03F7/0388 , H05K1/0346 , H05K3/287
摘要： (A)酸変性ビニル基含有エポキシ樹脂と、(B)アシルホスフィンオキサイド系光重合開始剤と、(C1)アルキルアミノベンゼン誘導体、(C2)ピラゾリン系増感剤又はアントラセン系増感剤、(C3)イミダゾール系光重合開始剤、アクリジン系光重合開始剤、及びチタノセン系光重合開始剤から選ばれる少なくとも一種の光重合開始剤、(C4)ヒンダードフェノール系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系酸化防止剤から選ばれる少なくとも一種の酸化防止剤、並びに(C5)チオール基含有化合物から選ばれる少なくとも1種の(C)添加剤と、(D)光重合性化合物とを含む感光性樹脂組成物に関する。
摘要翻译： （A）的酸改性乙烯环氧树脂基的，（B）和酰基氧化膦系光聚合引发剂，（C 1）烷基氨基苯衍生物，（C2）吡唑啉敏化剂或敏化剂的蒽，（C3 ）基于咪唑的光聚合引发剂，基于吖啶光聚合引发剂，和二茂钛从光聚合引发剂中的至少一种光聚合引发剂，（C4）受阻酚类抗氧化剂，醌抗氧化剂， 胺系抗氧化剂，硫抗氧化剂和至少一种抗氧化剂从磷系抗氧化剂，以及（C5）的至少一种含巯基的化合物（C）添加剂选择选择 （D）涉及一种含有光聚合性化合物的光敏树脂组合物。
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