公开(公告)号：KR102227801B1

公开(公告)日：2021-03-15

申请号：KR1020187036814A

申请日：2017-06-26

申请人： 캐논 가부시끼가이샤

发明人： 웨이준 리우 ,  펜 완 ,  티모시 브라이언 스타초위악

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031

CPC分类号： G03F7/0002 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031

摘要： 나노임프린트 리소그래피 방법은, 기판 상에 중합성 성분을 포함하는 전처리 조성물을 배치하여, 전처리 코팅을 형성하는 것을 포함한다. 상기 전처리 코팅 상에 별개의 임프린트 레지스트 부분을, 상기 임프린트 레지스트의 각각의 별개의 부분이 상기 기판의 표적 영역을 피복하도록 배치한다. 상기 임프린트 레지스트는 중합성 조성물이며 플루오린화 광개시제를 포함한다. 상기 임프린트 레지스트의 각각의 별개의 부분이 자신의 표적 영역 너머로 확산됨에 따라, 상기 기판 상에 복합 중합성 코팅이 형성된다. 상기 복합 중합성 코팅은 상기 전처리 조성물과 상기 임프린트 레지스트의 혼합물을 포함한다. 상기 복합 중합성 코팅과 템플레이트를 접촉시키고, 중합시켜, 상기 기판 상에 복합 중합체 층을 생성한다. 상기 전처리 조성물과 공기 사이의 계면 표면 에너지는 상기 임프린트 레지스트와 공기 사이 또는 상기 임프린트 레지스트의 적어도 한 성분과 공기 사이의 계면 표면 에너지를 초과한다.

公开(公告)号：KR102224135B1

公开(公告)日：2021-03-08

申请号：KR1020197005852A

申请日：2017-09-01

申请人： 후지필름 가부시키가이샤

发明人： 테츠야 카미무라

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/0048 ,  G03F7/0012 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/0044 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/0274

摘要： 본 발명의 과제는, 유기 용매를 주성분(98질량% 이상)으로서 함유하고, 결함 억제능이 우수한 용액을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 과제는, 상기 용액을 수용한 용액 수용체, 상기 용액을 함유하는 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물과, 상기 용액을 이용한 패턴 형성 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 용액은, 비점이 200℃ 미만인 유기 용매를 적어도 1종과, 비점이 250℃ 이상인 유기 불순물을 갖는 용액이며,
상기 유기 용매의 함유량이, 용액 전체 질량에 대하여 98질량% 이상이고,
상기 유기 불순물의 함유량이, 용액 전체 질량에 대하여 0.1질량ppm 이상 100질량ppm 미만이다.

公开(公告)号：JP6427539B2

公开(公告)日：2018-11-21

申请号：JP2016145457

申请日：2016-07-25

申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC ,  ザ・ユニバーシティ・オブ・クイーンズランド

发明人： ジェームズ・ダブリュ・サッカレー ,  メイリアナ・ショウ ,  ピーター・トレフォナス・サード ,  イドリス・ブレイキー ,  アンドリュー・キース・ホワイタッカー

IPC分类号： C08K9/04 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  C08L33/08

CPC分类号： G03F7/09 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/094 ,  G03F7/162 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/325

公开(公告)号：JP2018533761A

公开(公告)日：2018-11-15

申请号：JP2018518606

申请日：2016-09-22

申请人： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド

发明人： ジョン−ホ・ナ ,  クン・ホ ,  ジン・クォン ,  ジョン・ハン・ヤン

IPC分类号： G03F7/023 ,  G03F7/20 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0757 ,  C08G77/18 ,  C08G77/24 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40 ,  H01L21/31056 ,  H01L27/1248 ,  H01L27/1288 ,  H01L27/3258

摘要： 感光性樹脂組成物及びそれから調製された硬化膜が本明細書に開示される。本感光性樹脂組成物は、強い撥水性を有するフッ素原子を含むシロキサンポリマーを、一般的なシロキサンポリマー及びエポキシ化合物を含む組成物に導入し、フッ素基は、硬化した膜の全領域に存在することができ、これにより、硬化した膜の表面の除去がドライエッチングプロセスにより除去された後でさえも、フッ素成分による撥水性が維持され得る。その結果、後処理で使用される化学物質に対する耐性(化学耐性)が最大化されて、優れた安定性を有する硬化膜を提供することができる。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP6398774B2

公开(公告)日：2018-10-03

申请号：JP2015028883

申请日：2015-02-17

申请人： AGC株式会社

发明人： 永井 雄介 ,  高橋 秀幸 ,  川島 正行

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22 ,  C08F2/50 ,  C08F2/44 ,  G03F7/038 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0752 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  H01L27/3246 ,  H01L51/0005 ,  H01L51/0012 ,  H01L51/0566 ,  H01L51/107 ,  H01L51/4253 ,  H01L51/448 ,  H01L51/5012 ,  H01L2251/5392 ,  Y02E10/549

公开(公告)号：JPWO2017038587A1

公开(公告)日：2018-07-05

申请号：JP2016074682

申请日：2016-08-24

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 小川 倫弘 ,  高桑 英希 ,  留場 恒光

IPC分类号： C08F220/22 ,  C08F220/04 ,  G02B5/20 ,  G03F7/033 ,  G03F7/004 ,  H01L27/146 ,  C08F2/44

CPC分类号： G03F7/033 ,  C08F2/44 ,  C08F8/30 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F290/061 ,  C08F2220/283 ,  C08L51/08 ,  C09D4/06 ,  C09D133/16 ,  G02B1/04 ,  G02B5/20 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105 ,  G03F7/162 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322 ,  H01L27/14 ,  H01L27/14623 ,  H01L27/14625 ,  H01L27/14645 ,  H01L27/14818 ,  C08F259/08 ,  C08F220/24 ,  C08F220/20 ,  C08L33/14

摘要： 本発明の目的は、優れた低反射性と現像性とを両立する硬化性組成物、硬化膜の製造方法、遮光膜付き赤外光カットフィルタ及び固体撮像装置を提供することにある。 本発明の硬化性組成物は、下記式(A)で表される繰り返し単位と、下記式(B)で表される繰り返し単位とを含むフッ素含有ポリマーと、重合性化合物と、着色剤と、を含む。 式(A)中、R 1 は、水素原子又はアルキル基を表し、L 1 は、エステル結合を含んでいてもよい、総炭素数3以上の鎖状の2価の連結基を表す。 式(B)中、R 2 は、水素原子又はアルキル基を表し、L 2 は、単結合又は2価の連結基を表し、R f はフッ素原子を含む1価の有機基を表す。

公开(公告)号：JP6350287B2

公开(公告)日：2018-07-04

申请号：JP2014549877

申请日：2013-11-27

申请人： 旭硝子株式会社

发明人： 松浦 啓吾 ,  川島 正行 ,  高橋 秀幸 ,  小林 大介

IPC分类号： G03F7/027 ,  G03F7/075 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0275 ,  G02B5/201 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/027 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/0757 ,  H01L51/0005 ,  Y10T428/24802

公开(公告)号：JP6350206B2

公开(公告)日：2018-07-04

申请号：JP2014215118

申请日：2014-10-22

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 安立 由香子 ,  市川 幸司 ,  吉田 昌史

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C09K3/00 ,  H01L21/027 ,  C07D339/08

CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C381/12 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

公开(公告)号：JP2018092159A

公开(公告)日：2018-06-14

申请号：JP2017225206

申请日：2017-11-22

申请人： 東京応化工業株式会社

发明人： 新井 雅俊 ,  前橋 貴哉 ,  池田 卓也

IPC分类号： G03F7/039 ,  C07D327/04 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0046 ,  C07C25/18 ,  C07C307/00 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2603/86 ,  C07C2603/88 ,  C08F10/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0125 ,  G03F7/0397

摘要： 【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、一般式(b1)で表される、アニオン部とカチオン部とからなる化合物と、を含有するレジスト組成物。式(b1)中、R 01 〜R 014 は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基もしくは水素原子を表すか、又は2個以上が相互に結合して環構造を形成していてもよい。但し、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも2個は相互に結合して環構造を形成する。また、R 01 〜R 014 のうち、少なくとも1個はアニオン基を有し、アニオン部全体でn価のアニオンとなる。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2018087971A

公开(公告)日：2018-06-07

申请号：JP2017217416

申请日：2017-11-10

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 畠山 潤

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/028 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  C08F2220/301 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/303 ,  C08K5/19 ,  C08L25/04 ,  C08L33/08 ,  C08L33/10 ,  C08L41/00 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  C08F2220/1841 ,  C08F2220/382 ,  C08F212/32

摘要： 【課題】増感効果が高く、酸拡散を抑える効果を有し、解像性、LWR、CDUが良好なレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】4級アンモニウムヨージド、4級アンモニウムジブロモヨージド、4級アンモニウムブロモジヨージド及び4級アンモニウムトリヨージドから選ばれる4級アンモニウム塩を含むクエンチャー、及び酸発生剤を含む化学増幅レジスト材料。 【選択図】なし