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公开(公告)号：JP2015532733A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2015531199
申请日：2013-09-05
发明人： ヌリエル アミール , ヌリエル アミール , ドンサブ チョイ , ドンサブ チョイ , タル イタズコヴィッチ , タル イタズコヴィッチ , ダニエル カンデル , ダニエル カンデル
CPC分类号： H01L23/544 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 本開示の局面は、デバイスの実質的に同一平面上の2つの層間の相対的位置の測定に用いられる標的を記載する。この標的は、第1の層および第2の層内の周期的構造を含む。第1の周期的構造および第2の周期的構造と各デバイス様構造との間の第1の層および第2の層の相対的位置の差を測定して、第1の周期的構造および第2の周期的構造間の第1の層および第2の層の相対的位置を修正することができる。本要約は、検索者または他の読者が本技術開示の内容を素早く確認できるようにするための要約を必要とする規則に基づいて提供されたものであることが強調される。本要約は、特許請求の範囲の範囲または意味を解釈または制限するために用いられるものではないものであるという理解の下に提出される。
摘要翻译： 本公开的各方面描述了用于测量基本共面装置的两个层的相对位置的目标。 该目标包括在第一层和第二层内的周期结构。 通过测量在第一周期结构和第二周期结构和类似的结构中的每个装置中，第一周期结构和之间的第一层和第二层的相对位置的差 卢之间2卢周期性靶结构第一安装层和第二层卢卢相对目标位置WO修改古城蛾即可。 本摘要，它强调的是那些搜索者或其他读者提供的规则需要摘要，以便能够快速查看技术公开的内容的基础上。 这与那些不被用来解释或限制权利要求的范围或含意。
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公开(公告)号：JP2014529909A
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：JP2014528577
申请日：2012-08-30
发明人： ドンサブ チョイ , ドンサブ チョイ , デイビッド ティアン , デイビッド ティアン
IPC分类号： H01L21/027 , G03F9/02 , H01L21/02
CPC分类号： G05B19/41875 , G05B13/04 , G05B2219/32018 , G05B2219/32191 , G05B2219/42001 , G05B2219/45031 , Y02P90/22
摘要： 本発明は、製造プロセスにおけるフィードバック制御の監視及び制御のためのシステム及び方法において具現化される。プロセス制御パラメータは、ウェハに処理を行うフォトリソグラフィスキャナ又はステッパによる平行移動、回転、倍率、線量及び焦点適用を含み得る。オーバレイエラーを用いて、フィードバック制御プロセスにおいて用いられる測定パラメータを計算する。統計パラメータを共通の軸の組上において計算、正規化及びグラフ化し、測定パラメータ及びプロセス制御パラメータの比較を行い、問題のあるパラメータの検出を促進する。パラメータ傾向及びコンテキスト緩和シナリオも図式的に比較される。フィードバック制御パラメータを決定し、フィードバックパラメータとして用いて、APCモデルを精緻化する。APCモデルは、測定パラメータに基づいてプロセス制御パラメータに対する調節を計算する。
摘要翻译： 本发明体现在用于监测和在制造过程中的反馈控制的控制的系统和方法。 过程控制参数，通过光刻扫描器平移或步进在晶片上执行处理，旋转，放大倍率可以包括剂量和焦距应用。 使用重叠误差，它计算在反馈控制过程中使用的测量参数。 获取该组中的统计参数在公共轴线上，归一化并作图，比较测得的参数和过程控制参数，以促进问题的参数的检测。 参数趋势与背景松弛情境也比较图形。 确定反馈控制参数，作为反馈参数来细化APC模型。 APC模型计算的调整基于所测量的参数的过程控制参数。
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公开(公告)号：JP6478974B2
公开(公告)日：2019-03-06
申请号：JP2016507655
申请日：2014-04-10
申请人： ケーエルエー−テンカー コーポレイション
IPC分类号： C08G81/00 , G03F7/20 , H01L21/027
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