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    マスク保持機構及びこれを備えるパターニング装置
    1.
    发明专利
    マスク保持機構及びこれを備えるパターニング装置 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017158925A1

    公开(公告)日：2019-01-24

    申请号：JP2016084041

    申请日：2016-11-17

    Applicant: コニカミノルタ株式会社

    Inventor： 奥村 尚裕 ,  新藤 博之 ,  森川 雅弘

    IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10 ,  H01L21/683 ,  G03F7/20

    Abstract: 本発明の課題は、パターニング用マスクの熱膨張を防止するとともに、位置ズレを防止するマスク保持機構を提供することである。 本発明のマスク保持機構(1)は、パターニング用マスク(M)を保持可能な四角形状のマスクフレーム(2)を有し、マスクフレーム(2)の各辺に設けられ、マスク(M)に接触して、マスク(M)を側方から押圧する粘弾性体(4)と、粘弾性体(4)を固定する固定手段(6)と、を備え、粘弾性体(4)は、マスクフレーム(2)の各辺に1対以上対向して配置され、固定手段(6)は、対向して配置された粘弾性体(4)のうち、少なくとも一方の粘弾性体(4)を固定し、マスク(M)に一定圧力を加えてマスク(M)を保持可能とすることを特徴とする。

    有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及びパターニング装置
    2.
    发明专利
    有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及びパターニング装置 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017158946A1

    公开(公告)日：2019-01-17

    申请号：JP2016085680

    申请日：2016-12-01

    Applicant: コニカミノルタ株式会社

    Inventor： 新藤 博之 ,  奥村 尚裕 ,  森川 雅弘

    IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10

    Abstract: 本発明の課題は、生産性が高く、寸法精度の高いパターニングが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法を提供することである。また、有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング装置を提供することである。 本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法は、マスクを介して有機エレクトロルミネッセンス素子の有機機能層に光照射してパターンを形成する有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記マスクと密着し冷却台に載置された状態で、前記光照射を間欠的に行うことを特徴とする。

    有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及びパターニング装置
    5.
    发明专利
    有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及びパターニング装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019079595A

    公开(公告)日：2019-05-23

    申请号：JP2016054623

    申请日：2016-03-18

    Applicant: コニカミノルタ株式会社

    Inventor： 新藤 博之 ,  奥村 尚裕 ,  森川 雅弘

    IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10

    Abstract: 【課題】本発明の課題は、生産性が高く、マスクの熱変形を抑制して正確なパターニングが可能な有機EL素子のパターニング方法を提供することである。またそのための有機EL素子のパターニング装置を提供することである。 【解決手段】マスクを介して光照射することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子の発光パターンを形成する有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法であって、前記マスクを介して光照射する領域が、複数の光照射領域に区分されており、前記複数の光照射領域のうち、一つの光照射領域(A)で光照射を行う第1光照射工程と、前記光照射領域(A)以外の光照射領域のうちの一つの光照射領域(B)で光照射を行う第2光照射工程と、前記第1光照射工程の光照射領域(A)に再度光照射を行う追加光照射工程を含み、積算照射光量が、それぞれの光照射領域で所定量となるように、光照射工程が繰り返されることを特徴とする。 【選択図】図2

    有機エレクトロルミネッセンス素子の発光パターン形成方法
    6.
    发明专利
    有機エレクトロルミネッセンス素子の発光パターン形成方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019079594A

    公开(公告)日：2019-05-23

    申请号：JP2016054620

    申请日：2016-03-18

    Applicant: コニカミノルタ株式会社

    Inventor： 新藤 博之 ,  奥村 尚裕 ,  森川 雅弘 ,  棚橋 清一

    IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10

    Abstract: 【課題】本発明の課題は、パターン形成用マスクの熱変形と複数の有機EL素子に対する熱ダメージを抑制し、一度に複数の有機EL素子にパターン形成ができ、生産性に優れ、かつ寸法精度の高い発光パターン形成が可能な有機EL素子の発光パターン形成方法を提供することである。 【解決手段】本発明の有機EL素子の発光パターン形成方法は、1)複数の有機EL素子が形成されている枚葉状の有機EL素子シートを、冷却機能を備えている被光照射体載置台の所定の位置に載置し、2)マスクを、アライメントマークを用いたアライメントにより、前記有機EL素子シートの所定の位置に配置及び密着させ、3)前記マスクの表面に流体を吹き付け、4)前記マスクを介して、前記有機EL素子シートに光照射を行い、5)前記光照射完了後に、前記流体のマスク表面への吹付を停止するステップを経て形成されることを特徴とする。 【選択図】図1

    有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
    7.
    发明专利
    有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017158920A1

    公开(公告)日：2019-01-17

    申请号：JP2016083532

    申请日：2016-11-11

    Applicant: コニカミノルタ株式会社

    Inventor： 新藤 博之 ,  森川 雅弘

    IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10

    Abstract: 本発明の課題は、ガスバリアー性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子をパターニングする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、コストアップや生産効率の低下を抑制し、また、マスクを介してパターニングする際の照射パターンずれの発生を低減した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することである。 本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、少なくとも第1のガスバリアーフィルムと第2のガスバリアーフィルムの積層体を基板として具備し、前記ガスバリアーフィルム側から光を照射してパターニングを行う際に、前記第1のガスバリアーフィルムを基板として、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を形成した後、光を照射してパターニングを行い、次いで、第2のガスバリアーフィルムを前記第1のガスバリアーフィルムに貼合して前記積層体とすることを特徴とする。

    パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
    9.
    发明专利
    パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2017158943A1

    公开(公告)日：2019-01-24

    申请号：JP2016085369

    申请日：2016-11-29

    Applicant: コニカミノルタ株式会社

    Inventor： 新藤 博之 ,  奥村 尚裕 ,  森川 雅弘

    IPC: H01L51/50 ,  H05B33/10

    Abstract: 本発明の課題は、有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング時間を大幅に短縮できるパターニング装置を提供することである。当該パターニング装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子にマスクを介して光を照射し発光パターンを形成するパターニング装置であって、波長が特定の範囲内の光を1W/cm 2 以上の放射照度で照射する光照射部を備え、光照射エリア内における前記波長の範囲内の光の放射照度が、当該光照射エリア内における前記放射照度の平均値に対し±10%の範囲内であり、前記光照射エリア内における前記波長の範囲内の光のコリメーション半角が、45°以下であることを特徴とする。

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