コンデンサ用非晶性ポリエーテルイミドフィルム、その製造方法およびそれから製造される物品
    3.
    发明专利
    コンデンサ用非晶性ポリエーテルイミドフィルム、その製造方法およびそれから製造される物品 审中-公开
    无定形聚醚酰亚胺薄膜电容器中,制品所产生它们的制备和由其

    公开(公告)号:JP2016216727A

    公开(公告)日:2016-12-22

    申请号:JP2016124202

    申请日:2016-06-23

    摘要: 【課題】コンデンサの製造に有用な非晶性ポリエーテルイミドフィルムの提供。 【解決手段】ポリエーテルイミドと0超〜1000ppm未満のシリコーン含有化合物とを含む一軸延伸押出フィルムであって、前記フィルムは、第1の表面と第2の表面を有するシワなし領域であって、押出厚みが0超〜13μm未満であり、厚みの変動がフィルム厚の±10%であり、光学的形状測定法で測定した平均表面粗さがフィルムの平均厚の±3%未満であるシワなし領域を少なくとも1つ有し、前記シワなし領域の表面の少なくとも一部分上に堆積された導電性金属の層を備え、前記フィルムはさらに、1KHzおよび室温での誘電率が少なくとも2.7であり、1kHzおよび室温での散逸率が1%以下であり、絶縁破壊強度が少なくとも300V/μmである一軸押出押出フィルム。更に0超〜1000ppm未満のフッ素含有物を含むことが好ましいフィルム。 【選択図】なし

    摘要翻译: 在电容器的制造中提供有用的无定形聚醚酰亚胺膜。 本发明提供了包含含硅酮的化合物的单轴拉伸挤压的薄膜是小于聚醚酰亚胺和0〜超级1000PPM,该膜是不具有第一表面的褶皱和第二表面的区域中, 挤压的厚度小于0的超级〜13Myuemu,厚度为膜厚度的±10%的变化,没有皱纹由光学轮廓测量技术平均表面粗糙度比所述薄膜的±3%以下的平均厚度 具有至少一个区域,其包括沉积在防皱区域的表面的至少一部分上,所述膜进一步,1千赫和介电常数在室温下导电金属的层由至少2.7,1kHz和 并在室温下1%或更小的耗散因子,单螺杆挤出机挤出的膜的至少300伏介电击穿强度/微米。 进一步优选为膜含有小于超〜1000PPM零氟含量。 系统技术领域