走査アンテナ
    2.
    发明专利
    走査アンテナ 审中-公开

    公开(公告)号:JP2020096278A

    公开(公告)日:2020-06-18

    申请号:JP2018232635

    申请日:2018-12-12

    Abstract: 【課題】液晶パネルを備えた走査アンテナの性能が温度変化によって低下することを抑制する。 【解決手段】走査アンテナは、TFT基板101、スロット基板201、液晶層LCと、非送受信領域R2に設けられた、液晶層LCを包囲するシール部73とを有する。TFT基板101は、少なくとも送受信領域R1において液晶層LCに接触するように形成された第1配向層12をさらに有し、スロット基板201は、少なくとも送受信領域R1において液晶層LCに接触するように形成された第2配向層22をさらに有し、第1配向層12および第2配向層22は、送受信領域R1内に親水性表面Sw1、Sw2を有し、TFT基板101およびスロット基板201の、非送受信領域R2内において液晶層LCに接する表面の少なくとも一方は、疎水性表面Sr2を有しており、液晶層LCの温度が25℃のとき、液晶層LCは非送受信領域R2内の疎水性表面Sr2上に気泡BBを有する。 【選択図】図3

    エレクトロウェッティング装置及びエレクトロウェッティング装置の製造方法

    公开(公告)号:JP2019061037A

    公开(公告)日:2019-04-18

    申请号:JP2017185157

    申请日:2017-09-26

    Abstract: 【課題】両基板間の密着性に優れるエレクトロウェッティング装置を提供する。 【解決手段】エレクトロウェッティング装置(100)は、第1基板(1)、第1電極層(2)、誘電体層(3)及び第1撥水層(4)を備えたアクティブ基板(14)と、第2基板(8)、第2電極層(7)及び第2撥水層(6)を備えた共通電極基板(15)と、を含み、前記アクティブ基板と前記共通電極基板とはシール領域に配置されたシール材(5)を介して、間隙を有して貼り合わされているエレクトロウェッティング装置であって、前記誘電体層及び前記第2電極層の少なくとも一方は、その層上に、前記撥水層が形成された撥水層形成領域に加えてさらに、撥水層非形成領域(11,12)を有し、前記シール領域は、前記撥水層非形成領域と、平面視において少なくとも一部で重なるように形成されており、前記間隙は、10〜500μmの範囲である。 【選択図】図1

    表示装置
    7.
    发明专利
    表示装置 审中-公开
    显示设备

    公开(公告)号:JP2017021132A

    公开(公告)日:2017-01-26

    申请号:JP2015137641

    申请日:2015-07-09

    Abstract: 【課題】酸化物半導体からなる半導体活性層を有する薄膜トランジスタが配置されたMEMSディスプレイにおいて、半導体活性層に紫外線が照射され難くする。 【解決手段】表示パネル(11)は、アクティブマトリクス基板(12)と、対向基板(13)とを含む。アクティブマトリクス基板は、複数の薄膜トランジスタ(T1)と、複数のシャッタ機構(S11)と、UVカット層(33)とを含む。複数の薄膜トランジスタは、複数のシャッタ機構の各々に対応して配置されている。複数の薄膜トランジスタの各々は、酸化物半導体からなる半導体活性層(72)を含み、対応するシャッタ機構の動作を制御する。UVカット層は、半導体活性層よりも観察者側に配置されている。 【選択図】図3

    Abstract translation: 本发明提供一种MEMS显示具有由氧化物半导体制成的半导体有源层设置薄膜晶体管,紫外线半导体活性层是困难的照射。 一种显示面板(11),包括:有源矩阵基板(12)和对置基板(13)。 的有源矩阵基板包括:多个薄膜晶体管(T1)的,以及多个快门机构(S11),抗紫外线层(33)。 多个薄膜晶体管与每个多个快门机构的对应配置。 每个所述多个薄膜晶体管中的,由氧化物半导体形成的半导体有源层包括(72),控制所述相应的闸门机构的操作。 紫外线阻断层设置在观察者侧比所述半导体活性层。 点域

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