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    イオン注入装置および測定装置
    1.
    发明专利
    イオン注入装置および測定装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020107559A

    公开(公告)日：2020-07-09

    申请号：JP2018247339

    申请日：2018-12-28

    Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

    Inventor： 松下 浩

    IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

    Abstract: 【課題】二次電子発生による計測精度の低下を防ぐ。 【解決手段】イオン注入装置は、ウェハに照射されるイオンビームの角度分布を測定する測定装置62を備える。測定装置62は、イオンビームが入射するスリット66と、スリット66からイオンビームの基準となるビーム進行方向に延ばした中心線C上に配置されるビーム測定面74を有する中央電極体70と、スリット66と中央電極体70の間に配置され、中心線Cからスリット66のスリット幅方向に離れて配置されるビーム測定面78a〜78fをそれぞれが有する複数の側方電極体80a〜80fと、複数の側方電極体80a〜80fの少なくとも一つのビーム測定面にスリット66のスリット長方向の軸周りに曲がる磁場を印加する磁石装置90と、を備える。 【選択図】図4

    イオン注入装置およびイオン注入方法
    2.
    发明专利
    イオン注入装置およびイオン注入方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018206505A

    公开(公告)日：2018-12-27

    申请号：JP2017107477

    申请日：2017-05-31

    Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

    Inventor： 松下 浩 ,  大北 義明

    IPC: H01J37/04 ,  H01L21/265 ,  H01J37/317

    Abstract: 【課題】比較的高いエネルギーをもつイオンビームの使用に起因して生じうる核反応に対処する。 【解決手段】イオン注入装置100は、第1非放射性核種のイオンを含むイオンビームを生成するよう構成されたイオン源と、第1非放射性核種と異なる第2非放射性核種を含む固体材料で形成されたイオンビーム被照射体70を支持するよう構成されたビームラインと、第1非放射性核種と第2非放射性核種の核反応により発生する放射線の推定線量と放射性核種の推定生成量の少なくとも一方を演算するよう構成された制御装置50と、を備える。 【選択図】図5

    イオン注入装置
    3.
    发明专利
    イオン注入装置 有权

    公开(公告)号：JP2017130404A

    公开(公告)日：2017-07-27

    申请号：JP2016010555

    申请日：2016-01-22

    Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社 ,  トヨタ自動車株式会社

    Inventor： 松下 浩 ,  池田 徹

    IPC: H01J37/317 ,  H01J37/08 ,  H01J37/16 ,  H01J37/248

    Abstract: 【課題】イオン注入装置の運用に伴う高電圧電極間の絶縁性能劣化を緩和する 【解決手段】イオン注入装置は、真空領域18に配置されるイオン源11と、イオン源11を囲むよう配設される第1導体ハウジング本体20と、真空領域18内で第1導体ハウジング本体20から軸方向に延出する筒状導体突起22と、を備える第1導体ハウジング12と、イオン源11を保持し、筒状導体突起22から軸方向に離れて配設される第2導体ハウジング14と、第1導体ハウジング12と第2導体ハウジング14との間に配設される絶縁ブッシング16と、を備える。絶縁ブッシング16は、筒状導体突起22から径方向外側に離間して配設され真空領域18に面するブッシング内周凹凸面28を備える。筒状導体突起22からブッシング内周凹凸面28の凸部32への径方向距離d1が筒状導体突起22の軸方向延出長さL2の1/5以下である。 【選択図】図1

    イオン注入装置およびイオンビーム被照射体
    4.
    发明专利
    イオン注入装置およびイオンビーム被照射体 有权

    公开(公告)号：JP2021036526A

    公开(公告)日：2021-03-04

    申请号：JP2020178323

    申请日：2020-10-23

    Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

    Inventor： 松下 浩 ,  大北 義明

    IPC: H01L21/265 ,  H01L21/261 ,  H01J37/317

    Abstract: 【課題】比較的高いエネルギーをもつイオンビームの使用に起因して生じうる核反応に対処する。 【解決手段】イオン注入装置100は、第1非放射性核種のイオンを含むイオンビームを生成するよう構成されたイオン源と、第1非放射性核種と異なる第2非放射性核種を含む固体材料で形成されたイオンビーム被照射体70を支持するよう構成されたビームラインと、第1非放射性核種と第2非放射性核種の核反応により発生する放射線の推定線量と放射性核種の推定生成量の少なくとも一方を演算するよう構成された制御装置50と、を備える。 【選択図】図5

    イオン注入装置のための高電圧電極の絶縁構造および高電圧絶縁方法
    6.
    发明专利
    イオン注入装置のための高電圧電極の絶縁構造および高電圧絶縁方法 审中-公开
    用于离子植绒和高压绝缘方法的高压电极的绝缘结构

    公开(公告)号：JP2016171092A

    公开(公告)日：2016-09-23

    申请号：JP2016131333

    申请日：2016-07-01

    Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

    Inventor： 佐藤 正輝 ,  松下 浩

    IPC: H01J37/248 ,  H01J37/317

    Abstract: 【課題】イオン注入装置に適する高電圧電極の絶縁構造を提供する。 【解決手段】高電圧電極の絶縁構造は、露出表面128を備える絶縁体126と、絶縁体126に接する接合領域138と、絶縁体126の露出表面128に隣接するように接合領域138の縁部142の少なくとも一部に沿って設けられている耐熱部150と、を備える導体部130と、を備える。耐熱部150は、導体部130よりも高融点の導電材料で形成されている。耐熱部150は、絶縁体126の露出表面128との間に隙間を有して配置されていてもよい。 【選択図】図3

    Abstract translation: 要解决的问题：提供适用于离子注入机的高压电极的绝缘结构。解决方案：高压电极的绝缘结构包括导体部分130，导体部分130包括：具有暴露表面128的绝缘体126; 与绝缘体126接触的接合区域138; 以及沿接合区域138的边缘142的至少一部分设置以与绝缘体126的暴露表面128相邻的耐热部分150.耐热部分150由具有更高熔点的导电材料形成 耐热部分150可以布置成在绝缘体126的暴露表面128和耐热部分150之间具有间隙。图3

    イオン注入装置
    9.
    发明专利
    イオン注入装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2018037423A

    公开(公告)日：2018-03-08

    申请号：JP2017236058

    申请日：2017-12-08

    Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

    Inventor： 松下 浩 ,  椛澤 光昭 ,  天野 吉隆 ,  八木田 貴典

    IPC: H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01J37/317

    Abstract: 【課題】広い範囲で使用することのできるイオン注入装置を提供する。 【解決手段】イオン注入装置は、走査電極装置400と、走査電極装置400の下流に配置される下流電極装置500とを含む走査ユニット1000と、走査ユニット1000の下流に配置され、走査ユニットにより横方向に走査されたイオンビームを平行化するビーム平行化装置と、を備える。走査電極装置400は、基準軌道を挟んで横方向に対向して設けられる一対の走査電極410L,410Rを有する。下流電極装置500は、基準軌道および横方向の双方と直交する縦方向の開口幅および/または基準軌道に沿った方向の開口部の厚さが、基準軌道が位置する中央部と、一対の走査電極のそれぞれの下流端部と対向する位置の近傍とで異なるように構成される電極体を有し、走査両端部の近傍を通るイオンビームにて発生する偏向収差を補正する電極レンズとして構成される。 【選択図】図16

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