イオン注入装置および測定装置
    6.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2019139908A

    公开(公告)日:2019-08-22

    申请号:JP2018020944

    申请日:2018-02-08

    Abstract: 【課題】イオンビームの角度分布の評価を高速化する。 【解決手段】測定装置50は、イオンビームが入射する複数のスリット74a〜74cと、複数のスリットからビーム進行方向に離れた位置に設けられるビーム電流測定部54と、測定制御部とを含む。ビーム電流測定部54は、ビーム進行方向と直交する第1方向の位置が異なる複数の測定位置でビーム電流を測定可能となるよう構成される。複数のスリット74a〜74cは、第1方向がスリット幅方向と一致するように第1方向に間隔を空けて配置され、第1方向に可動となるように構成される。測定制御部は、複数のスリットを第1方向に移動させながら、ビーム電流測定部により第1方向の位置が異なる複数の測定位置で測定される複数のビーム電流値を取得する。 【選択図】図4

    イオン注入方法及びイオン注入装置
    9.
    发明专利
    イオン注入方法及びイオン注入装置 有权
    离子植入方法和离子植入装置

    公开(公告)号:JP2015210951A

    公开(公告)日:2015-11-24

    申请号:JP2014091762

    申请日:2014-04-25

    Abstract: 【課題】イオン照射量分布および単位時間あたりのイオン照射量の双方を制御する技術を提供する。 【解決手段】イオン注入装置10は、ビーム走査器26と、ウェハ位置におけるビーム走査方向のイオン照射量分布が測定可能なビーム計測部と、イオンビームを往復走査させるための制御波形をビーム走査器26へ出力する制御部60と、を備える。制御部60は、基準制御波形をビーム走査器26に出力する出力部と、基準制御波形に基づいて往復走査させるイオンビームについて測定されたイオン照射量分布をビーム計測部50から取得する取得部と、取得したイオン照射量分布を用いて補正制御波形を生成する生成部と、を含む。制御部60は、イオン照射量分布が目標とする分布であり、単位時間あたりのイオン照射量分布が目標値となるように調整される補正制御波形を出力する。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种控制每单位时间的离子照射量分布和离子照射量两者的技术。解决方案:离子注入装置10具有光束扫描器26,能够测量离子照射的光束测量单元 在晶片位置处的光束扫描方向上的光量分布;以及用于输出用于将离子束往复扫描到扫描仪26的控制波形的控制器60.控制器60具有输出单元,用于将参考控制波形输出到光束扫描器 如图26所示,实现单元,用于从光束测量单元50获得基于参考控制波形对待扫描的离子束测量的离子辐照量分布;以及发生器,用于通过使用该方法产生校正控制波形 实现离子辐射量分布。 控制器60输出校正后的控制波形,其被调整为使得离子照射量分布为目标分布,并且每单位时间的离子照射量分布等于目标值。

    イオン注入装置およびイオン注入方法

    公开(公告)号:JP2021018904A

    公开(公告)日:2021-02-15

    申请号:JP2019133352

    申请日:2019-07-19

    Abstract: 【課題】ビーム電流の測定精度を長期間にわたって維持する。 【解決手段】イオン注入装置10は、ウェハWにイオンビームを照射する注入工程がなされる注入処理室16と、注入処理室16内に設けられ、注入工程の前になされる準備工程においてイオンビームのビーム電流を測定するよう構成される第1ファラデーカップと、注入処理室16内に設けられ、第1ファラデーカップのビーム電流測定値を校正するための校正工程においてイオンビームのビーム電流を測定するよう構成される第2ファラデーカップと、第2ファラデーカップに向かうイオンビームを遮蔽するための遮蔽部材43と、を備える。遮蔽部材43は、注入工程および準備工程においてイオンビームが第2ファラデーカップに入射不可となり、校正工程においてイオンビームが第2ファラデーカップに入射可能となるよう構成される。 【選択図】図1

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